期刊文献+
共找到31篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
Efficiency enhancement of an InGaN light-emitting diode with a p-AlGaN/GaN superlattice last quantum barrier 被引量:1
1
作者 熊建勇 赵芳 +6 位作者 范广涵 许毅钦 刘小平 宋晶晶 丁彬彬 张涛 郑树文 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第11期656-660,共5页
In this study, the efficiency droop of an InGaN light-emitting diode (LED) is reduced slgnlncanUy oy using a p-AlGaN/GaN superlattice last quantum barrier. The reduction in efficiency droop is mainly caused by the d... In this study, the efficiency droop of an InGaN light-emitting diode (LED) is reduced slgnlncanUy oy using a p-AlGaN/GaN superlattice last quantum barrier. The reduction in efficiency droop is mainly caused by the decrease of electron current leakage and the increase of hole injection efficiency, which is revealed by investigating the light currents, internal quantum efficiencies, energy band diagrams, carrier concentrations, carrier current densities, and radiative recombination efficiencies of three LED structures with the advanced physical model of semiconductor device (APSYS). 展开更多
关键词 light-emitting diodes p-algan/GaN superlattice last quantum barrier efficiency droop
下载PDF
InGaN绿光LED中p-AlGaN插入层对发光效率提升的影响(英文)
2
作者 余浩 郑畅达 +4 位作者 丁杰 莫春兰 潘拴 刘军林 江风益 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期1108-1114,共7页
基于含有V坑结构的Si(111)衬底InGaN/GaN绿光LED,我们在传统p-AlGaN电子阻挡层之后优化生长一层25 nm的低掺镁p-AlGaN插入层,并获得明显的效率提升。在35 A/cm 2的电流密度下,主波长为520 nm的LED外量子效率和光功率分别达到43.6%和362.... 基于含有V坑结构的Si(111)衬底InGaN/GaN绿光LED,我们在传统p-AlGaN电子阻挡层之后优化生长一层25 nm的低掺镁p-AlGaN插入层,并获得明显的效率提升。在35 A/cm 2的电流密度下,主波长为520 nm的LED外量子效率和光功率分别达到43.6%和362.3 mW,这是截至目前报道的最高记录。通过分析表明,其潜在的物理机制归结于p-AlGaN插入层能够提高空穴从V坑注入的效率。本文提供了一种有效提升发光效率的方法,尤其适合于含有V坑结构的InGaN/GaN LED。 展开更多
关键词 绿光LED p-algan插入层(IL) 外量子效率 V坑 空穴注入效率
下载PDF
Effect of Mg-Preflow for p-AlGaN Electron Blocking Layer on the Electroluminescence of Green LEDs with V-Shaped Pits
3
作者 Ai-Xing Li Chun-Lan Mo +5 位作者 Jian-Li Zhang Xiao-Lan Wang Xiao-Ming Wn Guang-Xu Wang Jun-Lin Liu Feng-Yi Jiang 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2018年第2期88-92,共5页
In GaN-based green light-emitting diodes(LEDs) with and without Mg-preflow before the growth of p-Al GaN electron blocking layer(EBL) are investigated experimentally.A higher Mg doping concentration is achieved in... In GaN-based green light-emitting diodes(LEDs) with and without Mg-preflow before the growth of p-Al GaN electron blocking layer(EBL) are investigated experimentally.A higher Mg doping concentration is achieved in the EBL after Mg-preflow treatment,effectively alleviating the commonly observed efficiency collapse and electrons overflowing at cryogenic temperatures.However,unexpected decline in quantum efficiency is observed after Mg-preflow treatment at room temperature.Our conclusions are drawn such that the efficiency decline is probably the result of different emission positions.Higher Mg doping concentration in the EBL after Mg-preflow treatment will make it easier for a hole to be injected into multiple quantum wells with emission closer to pGaN side through the(8-plane rather than the V-shape pits,which is not favorable to luminous efficiency due to the preferred occurrence of accumulated strain relaxation and structural defects in upper QWs closer to p-GaN.Within this framework,apparently disparate experimental observations regarding electroluminescence properties,in this work,are well reconciled. 展开更多
关键词 GaN EBL Effect of Mg-Preflow for p-algan Electron Blocking Layer on the Electroluminescence of Green LEDs with V-Shaped Pits
下载PDF
p-AlGaN电子阻挡层Al组分对Si衬底绿光LED性能影响的研究 被引量:3
4
作者 毛清华 江风益 +1 位作者 程海英 郑畅达 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期8078-8082,共5页
在Si(111)衬底上利用MOCVD方法生长了具有不同Al组分p-AlGaN电子阻挡层的绿光InGaN/GaN LED结构,并对其光电性能进行了研究.结果表明,不同Al组分样品的量子效率随电流密度的变化规律呈现多样性.在很低电流密度范围,LED量子效率随Al组分... 在Si(111)衬底上利用MOCVD方法生长了具有不同Al组分p-AlGaN电子阻挡层的绿光InGaN/GaN LED结构,并对其光电性能进行了研究.结果表明,不同Al组分样品的量子效率随电流密度的变化规律呈现多样性.在很低电流密度范围,LED量子效率随Al组分升高而下降;在较高电流密度范围,LED量子效率随Al组分升高而升高,即此时缓解了量子效率随电流密度增大而衰退的速率(即droop效应);但随着电流密度的进一步升高,反而加快了量子效率衰退的速率.这些现象解释为不同Al组分的p-AlGaN对空穴和电子注入到量子阱进行复合的机理存在差异所致. 展开更多
关键词 氮化镓 p-algan 绿光LED 量子效率
原文传递
Ni/Au、Pd/Au与p-AlGaN材料的接触特性
5
作者 白云 麻芃 +2 位作者 朱杰 刘键 刘新宇 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期77-80,共4页
在AlGaNpin型日盲紫外探测器结构中的p-AlGaN层上生长了Ni/Au和Pd/Au,并在600~850℃温度下进行快速热退火,测量其退火前后传输线模型中各金属接触间的电学性质。实验发现,Ni/Au与Pd/Au在p-AlGaN上表现出了不同的接触性能。为了更好的... 在AlGaNpin型日盲紫外探测器结构中的p-AlGaN层上生长了Ni/Au和Pd/Au,并在600~850℃温度下进行快速热退火,测量其退火前后传输线模型中各金属接触间的电学性质。实验发现,Ni/Au与Pd/Au在p-AlGaN上表现出了不同的接触性能。为了更好的说明金属与p-AlGaN材料接触之间在退火后电流的变化,还测量了p-AlGaN材料裸片两点之间I-V曲线在退火前后的变化。实验表明,比起Ni/Au来,Pd/Au在p-AlGaN材料上制备欧姆接触具有一定的优势,并在文中进行了分析。 展开更多
关键词 p-algan 高Al组分 欧姆接触
原文传递
二次退火对Au/Ni/Au/Ni/p-AlGaN欧姆接触组织结构的影响
6
作者 祁昌亚 胡正飞 +1 位作者 张燕 李向阳 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期392-397,共6页
在蓝宝石衬底上,利用金属-有机物化学气相沉积(MOCVD)方法制备p-i-n结构AlGaN基体,采用常规工艺制作台面型紫外探测器。电子束蒸发蒸镀Ni/Au/Ni/Au(20nm/20nm/20nm/20nm)结构制备p电极。经空气中550℃/3 min一次退火和N2气氛中750℃/30... 在蓝宝石衬底上,利用金属-有机物化学气相沉积(MOCVD)方法制备p-i-n结构AlGaN基体,采用常规工艺制作台面型紫外探测器。电子束蒸发蒸镀Ni/Au/Ni/Au(20nm/20nm/20nm/20nm)结构制备p电极。经空气中550℃/3 min一次退火和N2气氛中750℃/30s二次退火后得到欧姆接触。利用高分辨透射电镜(HRTEM)和能谱(EDS)研究不同退火条件下p电极接触的组织结构演变。结果表明:一次退火p电极金属层出现明显扩散,但仍维持初始的分层状态,金属/半导体接触界面产生厚约4nm的非晶层;二次退火后,金属电极分层现象和界面非晶层消失。金/半界面结构表现为半共格关系,界面结构有序性提高。Ni向外扩散,Au向内扩散,Ga扩散至金属电极,造成界面附近金属层富集Au、Ga元素,导致p电极欧姆接触的形成。 展开更多
关键词 p-algan 一次退火 二次退火 扩散 组织结构
原文传递
栅极几何结构对MIS栅结构常关p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs性能的影响
7
作者 都继瑶 《沈阳理工大学学报》 CAS 2025年第1期72-77,共6页
高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistors,HEMTs)具有高速开关和极高击穿电场等特性,在功率器件领域应用广泛。为提高HEMT器件性能,通过实验研究了栅极几何结构对具有金属/绝缘体/半导体(MIS)栅极结构的常关型p-GaN/AlGa... 高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistors,HEMTs)具有高速开关和极高击穿电场等特性,在功率器件领域应用广泛。为提高HEMT器件性能,通过实验研究了栅极几何结构对具有金属/绝缘体/半导体(MIS)栅极结构的常关型p-GaN/AlGaN/GaN HEMTs性能的影响。栅极介质层采用5 nm厚的原位生长AlN,AlN/p-GaN界面呈现出更明显的能带弯曲和更宽的耗尽区,有利于阈值电压向正向偏移,且其相对较宽的能带错位有助于抑制栅极电流。实验结果表明:与栅极非覆盖区长度为0μm和6μm的MIS栅极相比,非覆盖区长度为3μm的MIS栅极可提高器件综合性能,有效抑制正向栅极电流,将阈值电压提高至3 V,并较好地保持电流密度为46 mA/mm;栅极结构中两侧没有栅极覆盖的区域在导通过程和导通状态下均可引起较大的沟道电阻,且沟道电阻随着非覆盖区长度增加而上升。 展开更多
关键词 p-GaN/AlGaN/GaN异质结 AlN介质层 常关型器件 金属/绝缘体/半导体 栅极非覆盖区
下载PDF
P型GaN和AlGaN外延材料的制备 被引量:1
8
作者 刘祥林 王成新 +4 位作者 韩培德 陆大成 王晓晖 汪度 王良臣 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2000年第8期26-29,共4页
研究了MOVPE方法外延P型GaN和Al0 13Ga0 87N的生长工艺 ,包括掺杂剂量和热退火条件 ,对材料电学性质的影响。得到了性能优良的P型材料 ,并研制了InGaN/AlGaN双异质结蓝光发光二极管。
关键词 P型 GAN ALGAN 外延材料 双异质结 蓝光发光二极管
下载PDF
退火对高Al组分AlGaN P-I-N二极管光电性能的影响 被引量:2
9
作者 赵鸿燕 司俊杰 +4 位作者 鲁正雄 成彩晶 丁嘉欣 张亮 陈慧娟 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2007年第12期1283-1286,共4页
研究了不同条件下的退火对高Al组分AlGaN P-I-N二极管性能的影响。研究结果表明,合适的退火条件既能使AlGaN与电极之间形成良好的欧姆接触,同时又能显著降低AlGaNP-I-N二极管的反向漏电流,反偏压5V时,暗电流密度由2.0×10-1A/cm2降... 研究了不同条件下的退火对高Al组分AlGaN P-I-N二极管性能的影响。研究结果表明,合适的退火条件既能使AlGaN与电极之间形成良好的欧姆接触,同时又能显著降低AlGaNP-I-N二极管的反向漏电流,反偏压5V时,暗电流密度由2.0×10-1A/cm2降为5.7×10-5A/cm2,串阻由18.01kΩ减小到1.071kΩ,从而优化了AlGaN P-I-N二极管的I-V特性。分析认为这与退火改善接触电极特性,同时消除器件制备工艺中引入的损伤、降低缺陷态密度有关。 展开更多
关键词 ALGAN P—I—N二极管 退火 欧姆接触 工艺损伤
下载PDF
背照式GaN/AlGaN p-i-n紫外探测器的制备与性能 被引量:1
10
作者 陈亮 游达 +6 位作者 汤英文 乔辉 陈俊 赵德刚 张燕 李向阳 龚海梅 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1036-1039,共4页
文章研究了p-GaN/i—GaN/n-Al0.3Ga0.7N异质结背照式p-i—n可见盲紫外探测器的制备与性能。器件的响应区域为310~365nm,最大响应率为0.046A/W,对应的内量子效率为19%,优值因子R0A达到1.77×10^8Ω·cm^2,相应的在363n... 文章研究了p-GaN/i—GaN/n-Al0.3Ga0.7N异质结背照式p-i—n可见盲紫外探测器的制备与性能。器件的响应区域为310~365nm,最大响应率为0.046A/W,对应的内量子效率为19%,优值因子R0A达到1.77×10^8Ω·cm^2,相应的在363nm处的探测率D^*=2.6×10^12cmHz^1/2W^-1。 展开更多
关键词 GaN/AlGaN p—i—n 紫外探测器 响应率
下载PDF
AlGaN/GaN P-I-N紫外探测器的电子辐照效应
11
作者 白云 邵秀梅 +2 位作者 张燕 李向阳 龚海梅 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2007年第9期867-869,873,共4页
制备了Al0.1Ga0.9N/GaN异质结P-I-N结构可见盲正照射紫外探测器。用能量为0.8MeV的电子对器件依次进行注量为5×1014,5×1015和5×1016n/cm2的辐照。通过测量辐照前后器件的I-V曲线和光谱响应曲线,讨论了不同注量的电子辐照... 制备了Al0.1Ga0.9N/GaN异质结P-I-N结构可见盲正照射紫外探测器。用能量为0.8MeV的电子对器件依次进行注量为5×1014,5×1015和5×1016n/cm2的辐照。通过测量辐照前后器件的I-V曲线和光谱响应曲线,讨论了不同注量的电子辐照对Al0.1Ga0.9N/GaN异质结P-I-N器件性能的影响。实验表明,小注量的电子辐照对器件的反向暗电流影响不大,当电子注量≥5×1016n/cm2时才使器件的暗电流增大一个数量级。为了分析器件的辐照失效机理,制备SiN/GaN的MIS结构,并对其进行电子辐照,发现SiN/GaN之间的界面态随着电子辐照注量的增加而增加。这表明,器件的暗电流的增大的原因之一为钝化层与GaN材料之间因为辐照诱生的界面态。辐照前后器件的光谱响应曲线表明,电子辐照对器件的响应率没有产生明显的影响。 展开更多
关键词 ALGAN P-I-N 电子辐照 MIS结构
下载PDF
Mg掺杂的AlGaN的MOCVD生长 被引量:1
12
作者 姚靖 谢自力 +8 位作者 刘斌 韩平 张荣 江若琏 刘启佳 徐峰 龚海梅 施毅 郑有炓 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2007年第B09期971-973,980,共4页
文章主要研究利用金属有机物化学汽相沉积(MOCVD)方法制备的Mg掺杂A lGaN薄膜。根据Raman光谱对Mg掺杂A lGaN薄膜应力和X射线摇摆曲线对晶体质量的研究表明引入高温A lN插入层能有效调节应力,并提高薄膜质量,降低位错密度。实验发现在保... 文章主要研究利用金属有机物化学汽相沉积(MOCVD)方法制备的Mg掺杂A lGaN薄膜。根据Raman光谱对Mg掺杂A lGaN薄膜应力和X射线摇摆曲线对晶体质量的研究表明引入高温A lN插入层能有效调节应力,并提高薄膜质量,降低位错密度。实验发现在保持Mg掺杂量不变的情况下,随着A l组分的上升,材料中出现大量岛状晶核,粗糙度变大,晶体质量下降,由三维生长向二维生长的转变更加困难。同时研究发现A l组分的上升和Mg掺杂量的增加都会使得螺位错密度上升;Mg的掺杂对于刃位错有显著影响,而A l组分的上升对刃位错无明显影响。经过退火温度对空穴浓度影响的研究,发现对于P型A l0.1Ga0.9N样品,900℃为比较理想的退火温度。 展开更多
关键词 金属有机物化学汽相淀积 Mg掺杂 P型AlGaN RAMAN光谱
下载PDF
具有不同Al组分的非极性a面p型AlGaN外延层的生长及特性研究
13
作者 张雄 范艾杰 崔一平 《安庆师范大学学报(自然科学版)》 2021年第3期1-7,共7页
利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,在半极性r面蓝宝石衬底上成功生长了具有不同Al组分的非极性a面Mg-δ掺杂的p-AlGaN外延层。通过使用高分辨率X射线衍射仪、原子力显微镜和霍尔效应测试仪等表征方法,系统研究了Al组分从0到41%的... 利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,在半极性r面蓝宝石衬底上成功生长了具有不同Al组分的非极性a面Mg-δ掺杂的p-AlGaN外延层。通过使用高分辨率X射线衍射仪、原子力显微镜和霍尔效应测试仪等表征方法,系统研究了Al组分从0到41%的非极性a面p-AlGaN外延层的结构与电学性质。特别针对具有较高Al组分的非极性a面p-AlGaN层的外延生长,创新性地研发了一种以金属有机源的流量脉冲供给为特征的MOCVD生长工艺。研究结果表明,在非极性a面p-AlGaN外延层的MOCVD生长过程中采用以金属有机源的流量脉冲供给为特征的MOCVD生长技术,可以显著提高非极性a面p-AlGaN外延层电导率。其中,利用该技术所生长的p-Al0.41Ga0.59N外延层样品的空穴浓度可高达7.0×10^(16)cm^(-3),为制备高发光效率的非极性a面AlGaN基紫外发光二极管打下了坚实的基础。 展开更多
关键词 脉冲流量供给 非极性a面p-algan 镁掺杂 表面形态 电阻率 空穴浓度
下载PDF
具有p-GaN岛状埋层耐压结构的横向AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管 被引量:5
14
作者 张力 林志宇 +6 位作者 罗俊 王树龙 张进成 郝跃 戴扬 陈大正 郭立新 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第24期217-222,共6页
GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)相对较低的击穿电压严重限制了其大功率应用.为了进一步改善器件的击穿特性,通过在n-GaN外延缓冲层中引入六个等间距p-GaN岛掩埋缓冲层(PIBL)构成p-n结,提出一种基于p-GaN埋层结构的新型高耐压AlGaN/GaN H... GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)相对较低的击穿电压严重限制了其大功率应用.为了进一步改善器件的击穿特性,通过在n-GaN外延缓冲层中引入六个等间距p-GaN岛掩埋缓冲层(PIBL)构成p-n结,提出一种基于p-GaN埋层结构的新型高耐压AlGaN/GaN HEMT器件结构.Sentaurus TCAD仿真结果表明,在关态高漏极电压状态下,p-GaN埋层引入的多个反向p-n结不仅能够有效调制PIBL AlGaN/GaN HEMT的表面电场和体电场分布,而且对于缓冲层泄漏电流有一定的抑制作用,这保证了栅漏间距为10μm的PIBL HEMT能够达到超过1700 V的高击穿电压(BV),是常规结构AlGaN/GaN HEMT击穿电压(580 V)的3倍.同时,PIBL结构AlGaN/GaN HEMT的特征导通电阻仅为1.47 m?·cm^2,因此获得了高达1966 MW·cm^(-2)的品质因数(FOM=BV^2/R_(on,sp)).相比于常规的AlGaN/GaN HEMT,基于新型p-GaN埋岛结构的HEMT器件在保持较低特征导通电阻的同时具有更高的击穿电压,这使得该结构在高功率电力电子器件领域具有很好的应用前景. 展开更多
关键词 ALGAN/GAN p-GaN岛掩埋缓冲层 电场 击穿
下载PDF
1000 V p-GaN混合阳极AlGaN/GaN二极管 被引量:3
15
作者 唐文昕 郝荣晖 +2 位作者 陈扶 于国浩 张宝顺 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第19期308-312,共5页
GaN材料具有优异的电学特性,如大的禁带宽度(3.4 eV)、高击穿场强(3.3 MV/cm)和高电子迁移率(600 cm^2/(V·s)). AlGaN/GaN异质结由于压电极化和自发极化效应,产生高密度(1×10^(13)cm^(-2))和高迁移率(2000 cm^2/(V·s))... GaN材料具有优异的电学特性,如大的禁带宽度(3.4 eV)、高击穿场强(3.3 MV/cm)和高电子迁移率(600 cm^2/(V·s)). AlGaN/GaN异质结由于压电极化和自发极化效应,产生高密度(1×10^(13)cm^(-2))和高迁移率(2000 cm^2/(V·s))的二维电子气(2DEG),在未来的功率系统中, AlGaN/GaN二极管具有极大的应用前景.二极管的开启电压和击穿电压是影响其损耗和功率处理能力的关键参数,本文提出了一种新型的具有高阻盖帽层(high-resistance-cap-layer, HRCL)的p-GaN混合阳极AlGaN/GaN二极管来优化其开启电压和击穿特性.在p-GaN/AlGaN/GaN材料结构基础上,通过自对准的氢等离子体处理技术,在沟道区域形成高阻盖帽层改善电场分布,提高击穿电压,同时在阳极区域保留p-GaN结构,用于耗尽下方的二维电子气,调控开启电压.制备的p-GaN混合阳极(p-GaN HRCL)二极管在阴阳极间距Lac为10μm时,击穿电压大于1 kV,开启电压+1.2 V.实验结果表明, p-GaN混合阳极和高阻GaN盖帽层的引入,有效改善AlGaN/GaN肖特基势垒二极管电学性能. 展开更多
关键词 ALGAN/GAN 二极管 P-GAN
下载PDF
AlGaN中Mg掺杂对蓝光发光二极管光电性质的影响
16
作者 李明山 马淑芳 +1 位作者 张强 许并社 《半导体光电》 CAS 北大核心 2015年第4期577-581,587,共6页
采用金属有机化学气相沉积技术生长了GaN基多量子阱(MQW)蓝光发光二极管外延片,并采用高分辨率X射线衍射仪(HRXRD)和光致光谱仪(PL)表征晶体质量和光学性能,其他的光电性能由制成芯片后测试获得,目的是研究外延片p型AlGaN电子阻挡层Mg... 采用金属有机化学气相沉积技术生长了GaN基多量子阱(MQW)蓝光发光二极管外延片,并采用高分辨率X射线衍射仪(HRXRD)和光致光谱仪(PL)表征晶体质量和光学性能,其他的光电性能由制成芯片后测试获得,目的是研究外延片p型AlGaN电子阻挡层Mg掺杂的优化条件。结果表明,在生长p型AlGaN电子阻挡层的Cp2Mg流量为300cm3/min时,蓝光发光二极管获得最小正向电压VF,而且在此掺杂流量下的多量子阱蓝光发光二极管芯片发光强度明显高于其他流量的样品。因此可以通过优化AlGaN电子阻挡层的掺杂浓度,来显著提高多量子阱蓝光发光二极管的电学性能和光学性能。 展开更多
关键词 MOCVD p型AlGaN Mg掺杂 正向电压
下载PDF
干法刻蚀和氢等离子体处理制备增强型p-GaN栅AlGaN/GaN HEMT特性 被引量:1
17
作者 冯玉昆 于国浩 +4 位作者 吴冬东 杜仲凯 张炳良 李新宇 张宝顺 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第12期932-936,985,共6页
增强型p-GaN栅AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的栅与源漏之间的沟道特性对器件性能具有重要的影响。在同一晶圆衬底上,采用干法刻蚀和氢等离子体处理栅与源、漏之间的p-GaN,制备增强型p-GaN栅AlGaN/GaN HEMT。对器件静态、动态特性... 增强型p-GaN栅AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的栅与源漏之间的沟道特性对器件性能具有重要的影响。在同一晶圆衬底上,采用干法刻蚀和氢等离子体处理栅与源、漏之间的p-GaN,制备增强型p-GaN栅AlGaN/GaN HEMT。对器件静态、动态特性和栅极漏电特性进行研究,采用两种方法制备的器件均具有较高的击穿电压(>850 V@10μA/mm)。通过氢等离子体处理制备的器件的方块电阻较大,导致输出电流密度较低,在动态特性和栅极漏电方面具有明显的优势,氢等离子体处理技术提高了界面态的缺陷激活能,从而实现了较低的栅极反向漏电。 展开更多
关键词 高电子迁移率晶体管(HEMT) ALGAN/GAN异质结 p-GaN栅 增强型 栅漏电
下载PDF
具有阻挡层的H等离子体处理增强型p-GaN栅AlGaN/GaN HEMT研究
18
作者 黄兴杰 邢艳辉 +6 位作者 于国浩 宋亮 黄荣 黄增立 韩军 张宝顺 范亚明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第10期402-408,共7页
采用H等离子体处理p-GaN盖帽层来制备p-GaN栅AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT).在p-GaN层表面上先沉积2 nm的Al_(2)O_(3)薄膜,以减少H等离子体注入p-GaN时对表面造成的损伤.经研究表明沉积Al_(2)O_(3)阻挡层的器件栅极反向泄漏电流降... 采用H等离子体处理p-GaN盖帽层来制备p-GaN栅AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT).在p-GaN层表面上先沉积2 nm的Al_(2)O_(3)薄膜,以减少H等离子体注入p-GaN时对表面造成的损伤.经研究表明沉积Al_(2)O_(3)阻挡层的器件栅极反向泄漏电流降低了一个数量级,开关比提高了约3倍.由于栅极泄露电流的减小,关态击穿电压从410 V提高到780 V.针对栅极反向泄漏减小的现象,进行了变温I_(G)-V_(G)测试,验证了栅极反向泄漏电流的主导机制是二维变程跳跃(Two-dimensional variable range hopping,2D-VRH)模型.分析了减小栅极反向电流的原因是由于Al_(2)O_(3)阻挡层改变了HR-GaN的表面态,使陷阱能级的活化能升高.此外,器件动态特性也表现出更稳定的趋势,这是Al_(2)O_(3)薄膜阻挡过多的H等离子体的注入,使AlGaN势垒和沟道陷阱态数量减少,电流崩塌效应减弱. 展开更多
关键词 p-GaN栅AlGaN/GaN HEMT H等离子体处理 Al_(2)O_(3)薄膜 栅极反向泄漏电流
下载PDF
增强型AlGaN/GaN HEMT势垒层优化设计 被引量:2
19
作者 雷亮 郭伟玲 +1 位作者 都帅 吴月芳 《电子科技》 2018年第8期52-55,共4页
为研究Al_xGa_(1-x)N势垒层的厚度和Al组分变化对增强型HEMT器件电学特性的影响,文中使用ATLAS软件,利用二元有限元方法,设计了带AlGaN缓冲层的P-GaN栅增强型AlGaN/GaN HEMT的基本结构,提取了器件势垒层厚度和Al组分渐变时的电学特性,... 为研究Al_xGa_(1-x)N势垒层的厚度和Al组分变化对增强型HEMT器件电学特性的影响,文中使用ATLAS软件,利用二元有限元方法,设计了带AlGaN缓冲层的P-GaN栅增强型AlGaN/GaN HEMT的基本结构,提取了器件势垒层厚度和Al组分渐变时的电学特性,仿真结果得出器件的势垒层厚度范围为取15~20 nm,Al组分范围取0.2~0.25时器件特性最优。 展开更多
关键词 P-GaN栅 增强型AlGaN/GaN HEMT器件 势垒层厚度 AL组分
下载PDF
p-GaN栅结构GaN HEMT的场板结构研究 被引量:1
20
作者 王立东 王中健 +1 位作者 程新红 万里 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第11期831-835,共5页
对具有不同的栅极场板结构的p-GaN栅高迁移率晶体管(HEMT)器件的性能进行了比较,利用半导体器件仿真工具Synopsys TCAD对器件电学特性进行了仿真。仿真结果表明,具有p-GaN栅的GaN HEMT器件阈值电压为1.5 V。采用栅极场板能缓解电场的集... 对具有不同的栅极场板结构的p-GaN栅高迁移率晶体管(HEMT)器件的性能进行了比较,利用半导体器件仿真工具Synopsys TCAD对器件电学特性进行了仿真。仿真结果表明,具有p-GaN栅的GaN HEMT器件阈值电压为1.5 V。采用栅极场板能缓解电场的集中程度,当场板长度为5μm时,器件击穿电压达到1 100 V。间断型栅极场板能在场板间隙中产生新的电场峰值,更充分地利用漂移区耐压,器件的击穿电压可达到1 271 V。栅极场板与AlGaN势垒层的距离影响场板对漂移区电场的调控作用,当栅极场板下方介质层厚度为0.24μm时,器件的击穿电压可达1 255 V。 展开更多
关键词 ALGAN GaN异质结 高迁移率晶体管(HEMT) p-GaN栅 电场峰值 击穿电压 阈值电压
下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部