PLD制备CuAlO_2薄膜的结构与性能研究

通过固相反应烧结在高温下制备出高致密度的纯相CuAlO2陶瓷靶材。采用脉冲激光沉积技术在蓝宝石和石英衬底上制备了CuAlO2薄膜，为进一提高CuAlO2薄膜性能，对样品进行了退火处理。通过x射线衍射、扫描电镜、紫外．可见光分光光度计和霍尔效应检测仪对样品进行表征，研究了退火条件对薄膜结构、形貌、光学性能和电学性能的影响，并获得了最佳退火工艺参数：退火气氛为一个大气压下的氩气气氛，退火温度1000℃，退火时间30min。在最佳退火条件下，经过退火处理后的CuAl02薄膜在可见光下的光学透过率达70％-80％，带隙宽度3．5eV，电阻率16．67Ω·cm。