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系统参数不同的简并光学参量振荡器之间的混沌同步
被引量:
2
1
作者
何先刚
周平
程雪峰
《压电与声光》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期173-176,179,共5页
简并光学参量振荡器系统在一定的参数下可出现混沌、周期或准周期状态,利用参数自适应控制和反馈控制技术实现了不同系统参数的两个简并光学参量振荡器混沌同步、周期或准周期同步,给出了参数自适应控制律和反馈控制函数的具体形式,并...
简并光学参量振荡器系统在一定的参数下可出现混沌、周期或准周期状态,利用参数自适应控制和反馈控制技术实现了不同系统参数的两个简并光学参量振荡器混沌同步、周期或准周期同步,给出了参数自适应控制律和反馈控制函数的具体形式,并给出了同步的严格数学理论证明。
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关键词
简并光学参量振荡器
不同系统参数
同步
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职称材料
求强非线性动力系统周期解的MH法和EMH法
被引量:
3
2
作者
周一峰
《中南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第1期151-156,共6页
提出了改进的谐波平衡法即MH法和EMH法,用于求强非线性系统周期解。MH法直接应用于求解大参数参变系统:x¨+a(t) x+b(t)x=c(t)。应用谐波平衡法求解强非线性系统,当谐波项取得较少时,求解结果精度低,为此引入最小二乘原理对谐波平...
提出了改进的谐波平衡法即MH法和EMH法,用于求强非线性系统周期解。MH法直接应用于求解大参数参变系统:x¨+a(t) x+b(t)x=c(t)。应用谐波平衡法求解强非线性系统,当谐波项取得较少时,求解结果精度低,为此引入最小二乘原理对谐波平衡法加以改进,计算结果精度高。EMH法用于求强非线性自治与非自治系统:x¨+F(x, x)=0和x¨+F(x, x,Ωt)=0的周期解,由于F呈非线性,不能直接应用MH法,为此,先由能量原理得出一次近似解,再引入牛顿迭代原理,得到关于修正量的周期系数方程;用MH法求此修正量,得到的结果精度较高。
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关键词
强非线性动力系统
周期解
EMH法
谐波平衡法
大参数参变系统
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职称材料
参变振动系统周期解的最小二乘法
3
作者
周一峰
《长沙铁道学院学报》
CSCD
北大核心
2003年第1期104-107,共4页
基于谐波平衡原理,引入最小二乘法,借助符号数学工具,编写MATLAB程序,由计算机推导出十分准确的大参数参变系统周期解的解析式.对于工程中一类大参数参变振动系统,克服了摄动法、多尺度法等无法求解而用谐波平衡法求解精度差的问题.
关键词
参变系统
大参数
周期解
谐波平衡
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
4
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
题名
系统参数不同的简并光学参量振荡器之间的混沌同步
被引量:
2
1
作者
何先刚
周平
程雪峰
机构
重庆邮电大学学报编辑部
重庆邮电大学应用物理研究所
出处
《压电与声光》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期173-176,179,共5页
基金
重庆市教委资助项目(KJ070502)
文摘
简并光学参量振荡器系统在一定的参数下可出现混沌、周期或准周期状态,利用参数自适应控制和反馈控制技术实现了不同系统参数的两个简并光学参量振荡器混沌同步、周期或准周期同步,给出了参数自适应控制律和反馈控制函数的具体形式,并给出了同步的严格数学理论证明。
关键词
简并光学参量振荡器
不同系统参数
同步
Keywords
degenerate optical
parametric
oscillator
different system parameter
synchronization
分类号
O415.5 [理学—理论物理]
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职称材料
题名
求强非线性动力系统周期解的MH法和EMH法
被引量:
3
2
作者
周一峰
机构
中南大学土木建筑学院
出处
《中南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第1期151-156,共6页
基金
湖南省教委科研基金资助项目(湘教财字[1998]1号)
文摘
提出了改进的谐波平衡法即MH法和EMH法,用于求强非线性系统周期解。MH法直接应用于求解大参数参变系统:x¨+a(t) x+b(t)x=c(t)。应用谐波平衡法求解强非线性系统,当谐波项取得较少时,求解结果精度低,为此引入最小二乘原理对谐波平衡法加以改进,计算结果精度高。EMH法用于求强非线性自治与非自治系统:x¨+F(x, x)=0和x¨+F(x, x,Ωt)=0的周期解,由于F呈非线性,不能直接应用MH法,为此,先由能量原理得出一次近似解,再引入牛顿迭代原理,得到关于修正量的周期系数方程;用MH法求此修正量,得到的结果精度较高。
关键词
强非线性动力系统
周期解
EMH法
谐波平衡法
大参数参变系统
Keywords
parametric oscillation systems with large parameters
strong nonlinear system
periodic solution
MH method
EMH method
分类号
O322 [理学—一般力学与力学基础]
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职称材料
题名
参变振动系统周期解的最小二乘法
3
作者
周一峰
机构
中南大学土木建筑学院
出处
《长沙铁道学院学报》
CSCD
北大核心
2003年第1期104-107,共4页
文摘
基于谐波平衡原理,引入最小二乘法,借助符号数学工具,编写MATLAB程序,由计算机推导出十分准确的大参数参变系统周期解的解析式.对于工程中一类大参数参变振动系统,克服了摄动法、多尺度法等无法求解而用谐波平衡法求解精度差的问题.
关键词
参变系统
大参数
周期解
谐波平衡
Keywords
parametric
oscillation
systems
large
parameter
periodic solution
harmonic balance
分类号
O322 [理学—一般力学与力学基础]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
4
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques
with
high efficiency,low cost and
large
-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for
large
-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures
with
high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating
with
a very fine period and only suitable for small-area interference.To avoid the fabrication of the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure
parameters
are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations of the
parameters
are allowed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two beams by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron
oscillation
s known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense electromagnetic fields confined to the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,plasma waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
系统参数不同的简并光学参量振荡器之间的混沌同步
何先刚
周平
程雪峰
《压电与声光》
CAS
CSCD
北大核心
2008
2
下载PDF
职称材料
2
求强非线性动力系统周期解的MH法和EMH法
周一峰
《中南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
3
下载PDF
职称材料
3
参变振动系统周期解的最小二乘法
周一峰
《长沙铁道学院学报》
CSCD
北大核心
2003
0
下载PDF
职称材料
4
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
下载PDF
职称材料
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