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Total Ionizing Dose Response of Different Length Devices in 0.13μm Partially Depleted Silicon-on-Insulator Technology 被引量:1
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作者 张梦映 胡志远 +4 位作者 张正选 樊双 戴丽华 刘小年 宋雷 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2017年第8期144-147,共4页
An anomalous total dose effect that the long length device is more susceptible to total ionizing dose than the short one is observed with the 0.13?μm partially depleted silicon-on-insulator technology. The measured ... An anomalous total dose effect that the long length device is more susceptible to total ionizing dose than the short one is observed with the 0.13?μm partially depleted silicon-on-insulator technology. The measured results and 3D technology computer aided design simulations demonstrate that the devices with different channel lengths may exhibit an enhanced reverse short channel effect after radiation. It is ascribed to that the halo or pocket implants introduced in processes results in non-uniform channel doping profiles along the device length and trapped charges in the shallow trench isolation regions. 展开更多
关键词 pdsoi Total Ionizing Dose Response of Different Length Devices in 0.13 m partially depleted Silicon-on-Insulator Technology
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130nm PDSOI DTMOS体延迟研究
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作者 毕津顺 韩郑生 海潮和 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第9期868-870,共3页
研究了基于IBM 8RF 130 nm工艺部分耗尽绝缘体上Si(PDSOI)动态阈值晶体管(DTMOS)体电阻、体电容以及体电阻和体电容乘积(体延迟)随Si膜厚度和器件宽度的变化。结果表明,Si膜厚度减小会导致体阻增大、体电容减小,但是体电阻和体电容的乘... 研究了基于IBM 8RF 130 nm工艺部分耗尽绝缘体上Si(PDSOI)动态阈值晶体管(DTMOS)体电阻、体电容以及体电阻和体电容乘积(体延迟)随Si膜厚度和器件宽度的变化。结果表明,Si膜厚度减小会导致体阻增大、体电容减小,但是体电阻和体电容的乘积却明显增大。Si膜厚度从200 nm减小到80 nm,体延迟增加将近两个数量级。器件宽度增加使得体电阻和体电容都明显增大,DTMOS电路延迟也因此指数递增。推导出了PDSOI DTMOS的延迟模型,为SOI DTMOS器件设计提供了参考。 展开更多
关键词 部分耗尽绝缘体上硅 动态阈值晶体管 体电阻 体电容 延迟
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PDSOI体源连接环形栅nMOS特性研究
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作者 毕津顺 海潮和 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期12-15,共4页
提出了一种基于部分耗尽绝缘体上硅的体源连接环形栅nMOS器件,并讨论了相应的工艺技术和工作机理。采用体源连接环形栅器件结构,有效地抑制了浮体环形栅器件中存在的浮体效应和寄生双极晶体管效应,使器件性能得到很大的提高。消除了浮... 提出了一种基于部分耗尽绝缘体上硅的体源连接环形栅nMOS器件,并讨论了相应的工艺技术和工作机理。采用体源连接环形栅器件结构,有效地抑制了浮体环形栅器件中存在的浮体效应和寄生双极晶体管效应,使器件性能得到很大的提高。消除了浮体环形栅器件的反常亚阈值斜率和Kink效应,DIBL从120.7mV/V降低到3.45mV/V,关态击穿电压从4.8V提高到12.1V。最后指出,体源连接环形栅器件非常适合于抗辐照加固等应用领域。 展开更多
关键词 部分耗尽绝缘体上硅 环形栅 浮体效应 体源连接
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