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离子束刻蚀位相型Ronchi光栅研究 被引量：2
1
作者 傅绍军 洪义麟 +1 位作者 陶晓明 齐开国 《量子电子学》 CSCD 1995年第2期146-149,共4页
本文报道了采用紫外光刻和离子束刻蚀方法制作位相型Ｒｏｎｃｈｉ光栅的工艺技术，并对其衍射特性进行了讨论，同时给出实验结果。
关键词 位相型 ronchi光栅 离子束刻蚀 紫外光刻
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离子束刻蚀正交位相型Ronchi光栅研究
2
作者 毕晓川 孙光宇 +5 位作者 孙军 洪义麟 徐向东 霍同林 付绍军 张新夷 《量子电子学报》 CAS CSCD 1999年第4期371-374,共4页
本文报道了采用紫外光刻和离子束刻蚀方法制作正交位相型Ronchi光栅的工艺技术，并讨论其衍射效率，给出公式及实验结果．
关键词 位相型 ronchi光栅 离子束刻蚀 二元光学
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