邻菲口罗啉化学修饰碳糊电极三元络合物体系测定痕量钴

制备了邻菲口罗啉化学修饰碳糊电极，在含噻吩甲酰三氟丙酮的ＨＡｃ－ＮａＡｃ体系中，Ｃｏ（Ⅱ）离子经化学富集在电极表面上形成三元络合物．采用２．５次微分伏安法测定痕量Ｃｏ（Ⅱ）离子．Ｃｏ（Ⅱ）浓度在８．０×１０－９～７．０×１０－７ｍｏｌ·Ｌ－１范围内与阳极溶出峰峰高成良好的线性关系，检出限达１．２×１０－９ｍｏｌ·Ｌ－１．电极用于水样中钴的测定，结果令人满意．

8-羟基喹啉-铝修饰碳糊电极的电催化作用

以亚铁氰化钾为探针,循环伏安法研究了8-羟基喹啉-铝络合物修饰碳糊电极的电化学行为,实验表明,8-羟基喹啉-铝络合物为修饰剂对亚铁氰化钾的氧化还原过程具有电化学催化行为,使亚铁氰化钾氧化还原峰电位提前,峰电流增加,峰-峰电位差减小。络合比对催化作用有影响,络合比为1∶1型为最佳;在给定修饰物浓度下0.25mL的8-羟基喹啉-铝络合物修饰为最佳,形成完美的单分子修饰层。

手性Salen金属配合物修饰碳糊电极的制备及对甲醛的电催化氧化

以3,5-二叔丁基水杨醛和(1R,2R)-环己二胺为原料,合成了(R,R)-N,N-二(3,5-二叔丁基水杨醛)-1,2环己二胺钴配合物(Salen-Co(Ⅱ)配合物),并以此作为化学修饰剂,利用直接混合法将化学修饰剂、粘合剂和石墨粉按一定比例研磨混合制作成西夫碱钴配合物修饰碳糊电极(Salen-Co/CPE).实验表明,该西夫碱钴配合物修饰碳糊电极对甲醛具有良好的电催化作用.利用计时电流法,在优化的实验条件下,氧化峰电流与甲醛的浓度在3.0×10-2～1.2×10-1mol/L的范围内具有良好的线性关系,检出限为3.33×10-3mol/L.