Li_2O-Al_2O_3-SiO_2系统光敏微晶玻璃的制备

光敏微晶玻璃在电子、生物医药等领域应用前景非常广泛.本论文利用XRD和SEM技术,研究了热处理和光辐照条件对Li2O-Al2O3-SiO2系统微晶玻璃光敏性能的影响,在合理确定工艺制度的基础上,制备出了孔穴排列良好的光敏微晶玻璃.

光敏微晶玻璃-PDMS微流控芯片制备及电渗性能研究

以光敏微晶玻璃和PDMS为材料,通过光化学加工和等离子体改性,制备了光敏微晶玻璃-PDMS微流控芯片,并对该芯片的电渗性能进行了初步的研究。结果表明,该芯片的制作工艺简单,且电渗性能稳定。芯片的电渗速度随缓冲液浓度的增大而增加,表面活性剂的加入可以改善电渗速度,电压在1.8 kV内与电渗速度具有线性关系。

光敏微晶玻璃微流控芯片材料制备

以具有良好的光化学加工性能的光敏微晶玻璃作为芯片材料对于简化微流控芯片制备工艺、降低芯片制备成本具有重要意义。基于这一点,利用XRD和SEM技术,研究了不同制备方法、不同玻璃组分对玻璃光化学加工性能的影响。研究表明,以溶胶凝胶法制备的均质粉体作为原料,采用低温熔制手段能提高玻璃的光化学加工性能,合理的光敏剂和晶核剂含量(分别为0.005%和0.012%)有助于提高光化学加工表面的平整度。从研究结果来看,调节玻璃中光敏剂和晶核剂含量以进一步提高玻璃光化学加工表面质量是今后工作的努力方向。