γ辐照对硅光电二极管光电流的影响

研究了ＰＩＮ光电二极管和普通光电二极管６０ＣＯγ辐照后的积分光电流、紫外光电流、光谱光电流的变化规律以及光谱光电流与器件反偏电压之间的关系，并对结果进行了定性分析．实验用辐照剂量分别为２×１０３ＧＹ（Ｓｉ）和２×１０４ＧＹ（Ｓｉ）．

硅光电二极管快中子和氧离子的辐照效应

研究了硅光电二极管经快中子（注入剂量为1011cm2、能量2．45MeV）和O+++（注入剂量为1010cm－2、能量12MeV）辐照后光电参数的变化规律，并通过光谱光电流的变化，对辐照损伤的空间分布进行了分析。结果表明：两种辐照均引起器件的光电流下降、暗电流增加。在本实验条件下，快中子造成的损伤轻微且均匀地分布在整个器件体内，而O+++辐照损伤区集中在器件表面附近，其损伤较快中子的严重。