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Recent progress on the planar Hall effect in quantum materials
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作者 钟景元 庄金呈 杜轶 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第4期26-34,共9页
The planar Hall effect(PHE),which originates from anisotropic magnetoresistance,presents a qualitative and simple approach to characterize electronic structures of quantum materials by applying an in-plane rotating ma... The planar Hall effect(PHE),which originates from anisotropic magnetoresistance,presents a qualitative and simple approach to characterize electronic structures of quantum materials by applying an in-plane rotating magnetic field to induce identical oscillations in both longitudinal and transverse resistances.In this review,we focus on the recent research on the PHE in various quantum materials,including ferromagnetic materials,topological insulators,Weyl semimetals,and orbital anisotropic matters.Firstly,we briefly introduce the family of Hall effect and give a basic deduction of PHE formula with the second-order resistance tensor,showing the mechanism of the characteristicπ-period oscillation in trigonometric function form with aπ/4 phase delay between the longitudinal and transverse resistances.Then,we will introduce the four main mechanisms to realize PHE in quantum materials.After that,the origin of the anomalous planar Hall effect(APHE)results,of which the curve shapes deviate from that of PHE,will be reviewed and discussed.Finally,the challenges and prospects for this field of study are discussed. 展开更多
关键词 ANISOTROPY MAGNETORESISTANCE planar hall effect
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Magnetization reversal process in Fe/Si(001) single-crystalline film investigated by planar Hall effect
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作者 叶军 何为 +5 位作者 胡泊 汤进 张永圣 张向群 陈子瑜 成昭华 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第2期424-427,共4页
A planar Hall effect(PHE) is introduced to investigate the magnetization reversal process in single-crystalline iron film grown on a Si(001) substrate.Owing to the domain structure of iron film and the characteris... A planar Hall effect(PHE) is introduced to investigate the magnetization reversal process in single-crystalline iron film grown on a Si(001) substrate.Owing to the domain structure of iron film and the characteristics of PHE,the magnetization switches sharply in an angular range of the external field for two steps of 90° domain wall displacement and one step of 180°domain wall displacement near the easy axis,respectively.However,the magnetization reversal process near the hard axis is completed by only one step of 90° domain wall displacement and then rotates coherently.The magnetization reversal process mechanism near the hard axis seems to be a combination of coherent rotation and domain wall displacement.Furthermore,the domain wall pinning energy and uniaxial magnetic anisotropy energy can also be derived from the PHE measurement. 展开更多
关键词 magnetic thin film domain wall displacement planar hall effect
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Ionic liquid gating control of planar Hall effect in Ni80Fe20/HfO2 heterostructures
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作者 Yang-Ping Wang Fu-Fu Liu +1 位作者 Cai Zhou Chang-Jun Jiang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第7期537-541,共5页
We report a tunable transverse magnetoresistance of the planar Hall effect(PHE),up to 48%in the Ni80Fe20/HfO2 heterostructures.This control is achieved by applying a gate voltage with an ionic liquid technique at ultr... We report a tunable transverse magnetoresistance of the planar Hall effect(PHE),up to 48%in the Ni80Fe20/HfO2 heterostructures.This control is achieved by applying a gate voltage with an ionic liquid technique at ultra-low voltage,which exhibits a gate-dependent PHE.Moreover,in the range of 0-V to 1-V gate voltage,transverse magnetoresistance of PHE can be continuously regulated.Ferromagnetic resonance(FMR)also demonstrates the shift of the resonance field at low gate voltage.This provides a new method for the design of the electric field continuous control spintronics device with ultra-low energy consumption. 展开更多
关键词 ionic liquid gating planar hall effect electric field regulation
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Antisymmetric planar Hall effect in rutile oxide films induced by the Lorentz force
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作者 Yongwei Cui Zhaoqing Li +10 位作者 Haoran Chen Yunzhuo Wu Yue Chen Ke Pei Tong Wu Nian Xie Renchao Che Xuepeng Qiu Yi Liu Zhe Yuan Yizheng Wu 《Science Bulletin》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第15期2362-2369,共8页
The conventional Hall effect is linearly proportional to the field component or magnetization component perpendicular to a film. Despite the increasing theoretical proposals on the Hall effect to the in-plane field or... The conventional Hall effect is linearly proportional to the field component or magnetization component perpendicular to a film. Despite the increasing theoretical proposals on the Hall effect to the in-plane field or magnetization in various special systems induced by the Berry curvature, such an unconventional Hall effect has only been experimentally reported in Weyl semimetals and in a heterodimensional superlattice. Here, we report an unambiguous experimental observation of the antisymmetric planar Hall effect(APHE) with respect to the in-plane magnetic field in centrosymmetric rutile RuO_(2) and IrO_(2) single-crystal films. The measured Hall resistivity is found to be linearly proportional to the component of the applied in-plane magnetic field along a particular crystal axis and to be independent of the current direction or temperature. Both the experimental observations and theoretical calculations confirm that the APHE in rutile oxide films is induced by the Lorentz force. Our findings can be generalized to ferromagnetic materials for the discovery of anomalous Hall effects and quantum anomalous Hall effects induced by in-plane magnetization. In addition to significantly expanding knowledge of the Hall effect, this work opens the door to explore new members in the Hall effect family. 展开更多
关键词 Antisymmetric planar hall effect Lorentz force Rutile oxide films Crystal symmetry
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Angular and planar transport properties of antiferromagnetic V_(5)S_(8)
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作者 吴晓凯 王彬 +4 位作者 吴德桐 陈博文 弭孟娟 王以林 沈冰 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第2期66-71,共6页
Systemically angular and planar transport investigations are performed in layered antiferromagnetic(AF)V_(5)S_(8).In this AF system,obvious anomalous Hall effect(AHE)is observed with a large Hall angle of 0.1 compared... Systemically angular and planar transport investigations are performed in layered antiferromagnetic(AF)V_(5)S_(8).In this AF system,obvious anomalous Hall effect(AHE)is observed with a large Hall angle of 0.1 compared to that in ferromagnetic(FM)system.It can persist to the temperatures above AF transition and exhibit strong angular field dependence.The phase diagram reveals various magnetic states by rotating the applied field.By analyzing the anisotropic transport behavior,magnon contributions are revealed and exhibit obvious angular dependence with a spin-flop vanishing line.The observed prominent planar Hall effect and anisotropic magnetoresisitivity exhibit two-fold systematical angular dependent oscillations.These behaviors are attributed to the scattering from spin–orbital coupling instead of nontrivial topological origin.Our results reveal anisotropic interactions of magnetism and electron in V5S8,suggesting potential opportunities for the AF spintronic sensor and devices. 展开更多
关键词 ANTIFERROMAGNETISM planar hall effect magnetic and topological properties
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拓扑材料中的平面霍尔效应
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作者 巴佳燕 陈复洋 +2 位作者 段后建 邓明勋 王瑞强 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第20期84-98,共15页
平面霍尔效应(planar Hall effect,PHE)是当前凝聚态输运中研究的热点之一.近年来,平面霍尔效应,尤其是拓扑材料中的平面霍尔效应,引起了人们的广泛关注和研究,并取得了很大的进展.不同于普通霍尔效应,平面霍尔效应中的横向电流、磁场... 平面霍尔效应(planar Hall effect,PHE)是当前凝聚态输运中研究的热点之一.近年来,平面霍尔效应,尤其是拓扑材料中的平面霍尔效应,引起了人们的广泛关注和研究,并取得了很大的进展.不同于普通霍尔效应,平面霍尔效应中的横向电流、磁场和电场可以出现在同一平面,无法用洛伦兹力解释,其很大程度上依赖于磁电阻的各向异性.本文从理论和实验两个角度介绍拓扑材料中平面霍尔效应的研究进展,深入分析了导致线性和非线性平面霍尔效应的各种外禀和内禀机制,并讨论尚待解决的相关问题和未来的发展方向. 展开更多
关键词 平面霍尔效应 非线性效应 拓扑材料
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Giant interface spin-orbit torque in NiFe/Pt bilayers
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作者 Shu-Fa Li Tao Zhu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第8期413-417,共5页
The current-induced spin-orbit torque(SOT)plays a dominant role to manipulate the magnetization in a heavy metal/ferromagnetic metal bilayer.We separate the contributions of interfacial and bulk spin-orbit coupling(SO... The current-induced spin-orbit torque(SOT)plays a dominant role to manipulate the magnetization in a heavy metal/ferromagnetic metal bilayer.We separate the contributions of interfacial and bulk spin-orbit coupling(SOC)to the effective field of field-like SOT in a typical NiFe/Pt bilayer by planar Hall effect(PHE).The effective field from interfacial SOC is directly measured at the transverse PHE configuration.Then,at the longitudinal configuration,the effective field from bulk SOC is determined,which is much smaller than that from interfacial SOC.The giant interface SOT in NiFe/Pt bilayers suggests that further analysis of interfacial effects on the current-induced manipulation of magnetization is necessary. 展开更多
关键词 spin-orbit coupling planar hall effect spin-orbit torques spin hall effect
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平面霍尔效应传感器的原理与研究进展 被引量:4
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作者 陈栖洲 汪学锋 +1 位作者 张怀武 钟智勇 《磁性材料及器件》 CSCD 北大核心 2011年第3期4-8,33,共6页
首先简要介绍了铁磁材料平面霍尔效应(PHE)的原理,然后介绍了基于平面霍尔效应的传感器的研究进展。其中包括传感器尺寸及形状的变化和材料的改进、制作工艺及流程。接着介绍了PHE传感器的几种典型结构,总结了温度、铁磁层薄膜厚度等对... 首先简要介绍了铁磁材料平面霍尔效应(PHE)的原理,然后介绍了基于平面霍尔效应的传感器的研究进展。其中包括传感器尺寸及形状的变化和材料的改进、制作工艺及流程。接着介绍了PHE传感器的几种典型结构,总结了温度、铁磁层薄膜厚度等对传感器灵敏度的影响。最后,讨论了目前存在的问题及发展前景。 展开更多
关键词 平面霍尔效应 传感器 原理 结构 性能
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高精度三维霍尔探头的标定
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作者 洪时金 周巧根 王宏飞 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期171-174,共4页
介绍了在上海光源(SSRF)磁测实验室中,用可旋转标准电磁铁产生均匀磁场,进行霍尔探头的温度、非线性的标定以及平面霍尔效应的研究;解决了测量椭圆极化型波荡器时水平磁场与垂直磁场间相互影响的问题,提高了磁场测量的精度。
关键词 霍尔探头 标定 平面霍尔效应
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(Ga,Mn)As磁电输运性质的研究进展 被引量:3
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作者 罗佳 向钢 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期1-7,共7页
综述了Ⅲ-Ⅴ族稀磁半导体(Ga,Mn)As磁电性质的研究进展,尤其是(Ga,Mn)As单层膜和多层膜结构的磁电输运性质的详细研究状况。关于(Ga,Mn)As的结构与物理性质的信息可由单层膜的反常霍尔效应、平面霍尔效应、电阻对温度的依赖关系与磁阻... 综述了Ⅲ-Ⅴ族稀磁半导体(Ga,Mn)As磁电性质的研究进展,尤其是(Ga,Mn)As单层膜和多层膜结构的磁电输运性质的详细研究状况。关于(Ga,Mn)As的结构与物理性质的信息可由单层膜的反常霍尔效应、平面霍尔效应、电阻对温度的依赖关系与磁阻各向异性等磁电输运性质测量得到;而多层膜中观察到的自旋阀效应、自旋相关散射与层间交互耦合等现象,对加深稀磁半导体的基本物性认识、拓展稀磁半导体的实际应用空间非常重要。最后总结并展望了(Ga,Mn)As未来的发展趋势。 展开更多
关键词 磁电输运性质 反常霍尔效应 自旋阀效应 平面霍尔效应
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拓扑半金属ZrSiSe器件中面内霍尔效应的观测
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作者 韦博元 步海军 +1 位作者 张帅 宋凤麒 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第22期236-243,F0004,共9页
拓扑半金属中的手性反常通常是用负磁阻来检测.然而,手性反常导致的负磁阻对磁场和电流的夹角比较敏感,这给测量带来了挑战.最近,作为一种新兴实验手段,面内霍尔效应被越来越多地应用于拓扑半金属中手性反常的探测.本文通过将拓扑Nodal-... 拓扑半金属中的手性反常通常是用负磁阻来检测.然而,手性反常导致的负磁阻对磁场和电流的夹角比较敏感,这给测量带来了挑战.最近,作为一种新兴实验手段,面内霍尔效应被越来越多地应用于拓扑半金属中手性反常的探测.本文通过将拓扑Nodal-line半金属ZrSiSe块体机械剥离制备成的介观器件,对其面内霍尔效应进行了测量并探究其起源.尽管测量数据与拓扑半金属中手性反常导致的面内霍尔效应理论公式拟合得很好,但各向异性磁电阻的分析结果表明,负磁阻并不存在.更进一步地,根据最近报道提出手性反常存在的判据,在一个手性反常主导的系统中,以磁场和电流夹角为参数的Rxx-Ryx关系曲线呈现为随磁场变化的一系列同心圆,而在本文ZrSiSe器件的输运实验中,表现为非同心圆的形式.结合分析,本文排除了手性反常的存在,并推断各向异性磁电阻才是其面内霍尔效应的起因. 展开更多
关键词 拓扑半金属 面内霍尔效应 手性反常
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非晶态铁硼薄膜的平面霍耳效应
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作者 陈秉玉 常瑞廷 程先安 《北京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第4期113-118,共6页
对于用射频溅射法制得的Fe_(83)B_(17)薄膜进行了平面霍耳效应的研究。实验表明:厚度大于800(?)的薄膜测量结果与导出的公式符合良好,且平面霍耳电压V_H的磁滞回线有轴对称性,但对较薄的膜则出现对公式的偏离并失去对称性。V_H的幅值可... 对于用射频溅射法制得的Fe_(83)B_(17)薄膜进行了平面霍耳效应的研究。实验表明:厚度大于800(?)的薄膜测量结果与导出的公式符合良好,且平面霍耳电压V_H的磁滞回线有轴对称性,但对较薄的膜则出现对公式的偏离并失去对称性。V_H的幅值可达500μV,开关临界磁场为22×10^(-4)T,晶化以后薄膜的V_H减小约一个数量级。利用平面霍耳效应测量了薄膜的静态磁特性。 展开更多
关键词 平面霍耳效应 非晶态合金 磁性薄膜
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自旋阀中的各向异性磁电阻效应 被引量:2
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作者 姜宏伟 王艾玲 郑鹉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期2338-2341,共4页
采用平面霍尔效应测量方法 ,对Ta(8nm) NiFe(7nm) Cu(2. 4nm) NiFe(4. 4nm) FeMn(14nm) Ta(6nm)自旋阀多层膜进行了研究 .结果表明 ,在样品中存在着自由层和被钉扎层之间的各向异性磁电阻的“混合”效应 .与通常所采用的磁电阻测... 采用平面霍尔效应测量方法 ,对Ta(8nm) NiFe(7nm) Cu(2. 4nm) NiFe(4. 4nm) FeMn(14nm) Ta(6nm)自旋阀多层膜进行了研究 .结果表明 ,在样品中存在着自由层和被钉扎层之间的各向异性磁电阻的“混合”效应 .与通常所采用的磁电阻测量方法相结合 ,平面霍尔效应的测量可以给出自旋阀中各向异性磁电阻以及自由层和被钉扎层的磁矩随外场变化的更多信息 . 展开更多
关键词 自旋阀 各向异性 磁电阻 平面霍尔效应 多层膜材料
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退火对MgO/NiFe/MgO多层膜平面霍尔效应的影响
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作者 韩灵生 赵之铎 +3 位作者 周丽娟 赵崇军 李明华 于广华 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期581-585,共5页
采用磁控溅射的方法制备了结构为Ta(5 nm)/Mg O(6 nm)/Ni Fe(t_(NiFe))/Mg O(4 nm)/Ta(3 nm)的磁性多层膜,Ni Fe的厚度t_(NiFe)从5 nm增加到100 nm,之后在真空退火炉中经过400℃,1 h的退火处理并且进行随炉冷却,整个过程中沿着薄膜易轴... 采用磁控溅射的方法制备了结构为Ta(5 nm)/Mg O(6 nm)/Ni Fe(t_(NiFe))/Mg O(4 nm)/Ta(3 nm)的磁性多层膜,Ni Fe的厚度t_(NiFe)从5 nm增加到100 nm,之后在真空退火炉中经过400℃,1 h的退火处理并且进行随炉冷却,整个过程中沿着薄膜易轴方向施加大约4378 A·m-1的磁场。采用四探针的方法来测量平面霍尔电压(PHE)和相对电阻变化率,通过X射线衍射(XRD)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)来分析多层膜退火前后的微结构变化。研究结果表明:对于制备态和退火态的Ta/Mg O/Ni Fe/Mg O/Ta纳米磁性多层膜结构,当t_(NiFe)<40 nm时,霍尔输出电压骤减,随着t_(NiFe)的继续增加,霍尔电压基本保持不变。然而,所有的制备态同一厚度的样品经过退火处理之后,霍尔电压都有一定程度的提高,当t_(NiFe)=5 nm时,平面霍尔输出电压增加最大。随着Ni Fe厚度的继续增加,退火处理所导致的输出电压的提高幅度逐渐减小,当t_(NiFe)=100 nm时,霍尔电压退火之后几乎保持不变。不同Ni Fe厚度的样品,霍尔电压经退火处理后之所以提高幅度不同,主要与两个因素有关,一是Mg O/Ni Fe异质界面会增强电子自旋相关散射提高PHE输出电压,二是Ni Fe层因分流也会导致PHE输出电压下降。 展开更多
关键词 平面霍尔效应 MgO/NiFe异质界面 退火 自旋相关散射
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