等离子体沉积非晶SiO_x:H纳米膜层改性医用NiTi合金研究

采用等离子体沉积技术在医用NiTi合金表面制备非晶SiOx：H纳米膜层，并对改性后材料表面化学及膜层晶体结构等进行表征。结果表明，通过控制TMS和Ox两种单体流速比和沉积时间，可控制材料表面亲疏水性和SiOx：H纳米膜层厚度。反应沉积的SiOx：H具有非晶的结构。其最优化条件为：卢（TMS）：μ（O2）-1：4，系统压力3．33Pa，D．C5W，沉积时间4min。所制备的膜层厚度约为45nm，表面去离子水接触角为30～40°。SiOx：H纳米膜层改性NiTi合金表面可提高材料的抗腐蚀性能。