透明陶瓷保护膜的研究

对黄铜基材装饰件表面先采用高能级磁控溅射离子镀 (专利号 :85 10 2 6 0 0 .1)技术镀不锈钢代替电镀钯 -镍合金 ,再采用等离子体型阴极弧源 -磁控溅射镀 (专利号 :ZL982 36 95 0 .6 )技术在不锈钢镀膜表面上镀制Ti N/ Au/透明陶瓷保护膜 Si O2 、Ti O2 。对其硬度。

米级范围内不同距离的等离子体活化对玻璃纤维/氰酸酯基复合材料表面沉积Al涂层性能研究

采用阳极层离子源对米级范围内不同距离下的玻璃纤维增强的氰酸酯基复合材料进行表面活化处理后,采用真空磁过滤阴极弧技术在相应位置的复合材料表面沉积Al涂层。通过分析等离子体活化前后的表面能和表面极性的变化,以及沉积的Al涂层的表面微观形貌和膜基结合强度等,评估了等离子体活化技术对米级范围内不同距离的复合材料沉积Al涂层性能的影响。研究结果表明,等离子体活化处理能有效提高复合材料的表面能和表面极性,并且随距离的增加呈增大的趋势。等离子体活化处理能显著提高米级距离内复合材料表面沉积金属(Al)涂层的结合强度,采用放电电压为1000 V等离子体活化后米级范围内的Al涂层呈现均匀整体提升的态势,与未活化处理相比,结合强度提升1倍以上;采用放电电压为2000 V等离子体活化后米级范围内的Al涂层结合强度提升更为明显,与未活化相比,结合强度提升4倍以上。