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相对论磁化运动等离子体的介电张量
被引量:
1
1
作者
郝保良
唐昌建
宫玉彬
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期509-513,共5页
定义了相对论磁化运动等离子体(MMP)的物理模型。利用微扰理论导出了系统的介电张量,研究发现,MMP具有完全不同于静态磁化等离子体介电张量的形式。对电磁波沿轴向传播的情况进行了数值模拟计算,结果表明,系统的共振频率随等离子体密...
定义了相对论磁化运动等离子体(MMP)的物理模型。利用微扰理论导出了系统的介电张量,研究发现,MMP具有完全不同于静态磁化等离子体介电张量的形式。对电磁波沿轴向传播的情况进行了数值模拟计算,结果表明,系统的共振频率随等离子体密度的增加而非线性增加,在相同的条件下,右旋波的共振频率高于左旋波的共振频率。对于传播的右旋电磁波,增加纵向磁场,共振频率提高,而对于左旋电磁波,增加纵向磁场,共振频率降低。
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关键词
荷流体
介电张量
磁化运动等离子体
流体理论
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
2
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
二维相对论运动等离子体的介电率张量
被引量:
3
3
作者
唐昌建
宫玉彬
杨玉芷
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期1145-1149,共5页
定义了相对论性运动等离子体的物理模型 .利用荷流体的微扰理论 ,研究了该系统二维扰动现象及背景离子下的束 波互作用问题 ,导出了该系统的介电率张量 .研究表明 ,相对论运动等离子体系统属复杂的色散荷流体介质并呈复杂的空间电磁不...
定义了相对论性运动等离子体的物理模型 .利用荷流体的微扰理论 ,研究了该系统二维扰动现象及背景离子下的束 波互作用问题 ,导出了该系统的介电率张量 .研究表明 ,相对论运动等离子体系统属复杂的色散荷流体介质并呈复杂的空间电磁不均匀性 .数值模拟计算给出了相对论运动等离子体系统的介电率对波频率。
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关键词
等离子体
荷流体
介电率
相对论运动
微扰理论
色散荷流体介质
离子通道
原文传递
题名
相对论磁化运动等离子体的介电张量
被引量:
1
1
作者
郝保良
唐昌建
宫玉彬
机构
四川大学应用物理系
电子科技大学物理电子学院
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期509-513,共5页
基金
霍英东青年教师基金资助课题(81007)
文摘
定义了相对论磁化运动等离子体(MMP)的物理模型。利用微扰理论导出了系统的介电张量,研究发现,MMP具有完全不同于静态磁化等离子体介电张量的形式。对电磁波沿轴向传播的情况进行了数值模拟计算,结果表明,系统的共振频率随等离子体密度的增加而非线性增加,在相同的条件下,右旋波的共振频率高于左旋波的共振频率。对于传播的右旋电磁波,增加纵向磁场,共振频率提高,而对于左旋电磁波,增加纵向磁场,共振频率降低。
关键词
荷流体
介电张量
磁化运动等离子体
流体理论
Keywords
charge
fluid
dielectric
tensor
Magnetic motional
plasma
fluid
theory
分类号
TN128 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
2
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very fine period and only suitable for small-area interference.To avoid the fabrication of the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations of the parameters are allowed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two beams by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are
charge
density waves that are characterized by intense
electromagnetic
fields confined to the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,
plasma
waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,
dielectric
constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
二维相对论运动等离子体的介电率张量
被引量:
3
3
作者
唐昌建
宫玉彬
杨玉芷
机构
四川大学物理科学与技术学院
电子科技大学物理电子学院
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期1145-1149,共5页
基金
霍英东青年教师基金(批准号:81 0 07)
国家自然科学基金(批准号 :1 0 2 76 0 1 1 )资助的课题~~
文摘
定义了相对论性运动等离子体的物理模型 .利用荷流体的微扰理论 ,研究了该系统二维扰动现象及背景离子下的束 波互作用问题 ,导出了该系统的介电率张量 .研究表明 ,相对论运动等离子体系统属复杂的色散荷流体介质并呈复杂的空间电磁不均匀性 .数值模拟计算给出了相对论运动等离子体系统的介电率对波频率。
关键词
等离子体
荷流体
介电率
相对论运动
微扰理论
色散荷流体介质
离子通道
Keywords
plasma
,
charge fluid
,
dielectric
,
electromagnetic theory
分类号
O531 [理学—等离子体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
相对论磁化运动等离子体的介电张量
郝保良
唐昌建
宫玉彬
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
1
下载PDF
职称材料
2
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
下载PDF
职称材料
3
二维相对论运动等离子体的介电率张量
唐昌建
宫玉彬
杨玉芷
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
3
原文传递
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