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Plasma处理对有机薄膜电致发光器件性能及稳定性的影响 被引量：2
1
作者 张志林 蒋雪茵 +3 位作者 赵伟明 许少鸿 李述汤 孙鑫 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期367-369,共3页
有机薄膜电致发光是双极注入的发光器件，电极及注入界面是影响器件性能的重要因素，采用高功函数透明电极及低功函数金属电极是普遍使用的方法，人们还采用高离化势的有机透明电极［１］，低离化势的ＣｕＰｃＢｕｆｅｒ层［２］，ｐｌ... 有机薄膜电致发光是双极注入的发光器件，电极及注入界面是影响器件性能的重要因素，采用高功函数透明电极及低功函数金属电极是普遍使用的方法，人们还采用高离化势的有机透明电极［１］，低离化势的ＣｕＰｃＢｕｆｅｒ层［２］，ｐｌａｓｍａ处理ＩＴＯ的方法［３］来改... 展开更多
关键词 有机薄膜 电致发光器件 等离子体处理 稳定性
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