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有机平面pn异质结发光二极管材料与器件
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作者 陈东成 苏仕健 马於光 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第35期4090-4098,共9页
有机发光二极管(OLED)在新型显示和固态照明等领域有着广泛的应用潜力,在可穿戴设备、手机、电视等显示产品上已经实现了较大规模的商业化应用,未来预计在柔性显示领域将具有更为突出的应用前景.为进一步降低OLED材料与器件的制备成本,... 有机发光二极管(OLED)在新型显示和固态照明等领域有着广泛的应用潜力,在可穿戴设备、手机、电视等显示产品上已经实现了较大规模的商业化应用,未来预计在柔性显示领域将具有更为突出的应用前景.为进一步降低OLED材料与器件的制备成本,近些年来,大量的研究聚焦于开发不含有稀有金属、兼具低成本和高性能优势的OLED材料与器件.本文综述了基于纯有机半导体材料、利用层间电荷转移来构筑OLED的研究进展,着重讨论了有机平面pn异质结发光二极管(pn-OLED)概念的提出,以及相应的有机半导体材料与器件等方面的进展,并对该类型器件目前发展中遇到的问题,以及将来在发光晶体管、电泵浦激光器等领域潜在的应用进行了讨论. 展开更多
关键词 有机发光二极管 pn异质结 三线态激子 电致发光 有机半导体
原文传递
氧气含量对射频磁控溅射方法制备的NiO∶Cu/ZnO异质pn结的光电性能的影响 被引量:1
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作者 李彤 EVARIST Mariam +4 位作者 王铁钢 陈佳楣 范其香 倪晓昌 赵新为 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期416-421,共6页
利用磁控溅射方法改变氧气含量制备了一系列NiO∶Cu/ZnO异质pn结。实验结果表明,氧含量对NiO∶Cu/ZnO异质pn结电学影响很大。相对于纯氩溅射,引入一定氧气(O2/(Ar+O2)比例为30%)后,NiO∶Cu/ZnO异质pn结的整流特性明显得到改善。与此同时... 利用磁控溅射方法改变氧气含量制备了一系列NiO∶Cu/ZnO异质pn结。实验结果表明,氧含量对NiO∶Cu/ZnO异质pn结电学影响很大。相对于纯氩溅射,引入一定氧气(O2/(Ar+O2)比例为30%)后,NiO∶Cu/ZnO异质pn结的整流特性明显得到改善。与此同时,NiO∶Cu/ZnO异质pn结的光透过率也从40%增大到80%。这可能是由于氧气的轻量引入致使NiO∶Cu/ZnO异质pn结的结晶得到改善,薄膜内缺陷减少所致。进一步提高氧气含量,直到O2/(Ar+O2)比例至80%后,异质结的整流特性有所削弱,这可能是由于过多氧气的引入造成薄膜缺陷再次增多,进而影响到异质结的整流特性。这一结论得到了EDS、XRD、AFM和UV结果的支持。 展开更多
关键词 NIO CU掺杂 异质pn 磁控溅射 整流特性
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SiGe/Si异质pn结的反向C-V特性研究 被引量:1
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作者 苏力 覃泽 《广西民族学院学报(自然科学版)》 CAS 2004年第4期72-74,共3页
对SiGe/Si异质pn结的反向C-V特性从理论和实验上进行了研究,建立了SiGe/Si异质pn结的反向C-V特性灰色系统GM(1,1)模型,模型与实验数据符合良好,精确度较高.
关键词 SIGE/SI C—V特性 异质pn GM(1.1)模型
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衬底温度对NiO:Cu/ZnO异质pn结的光电性能影响 被引量:2
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作者 李彤 王铁钢 +3 位作者 陈佳楣 倪晓昌 Evarist Mariam 赵新为 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期386-391,共6页
利用磁控溅射方法改变衬底温度,制备了一系列NiO:Cu/ZnO异质pn结。实验结果表明,当衬底温度从室温升高到300℃时,NiO:Cu/ZnO异质pn结的整流特性明显得到改善;与此同时,NiO:Cu/ZnO异质pn结的光学透过率也从40%增大到80%。这可能是由于NiO... 利用磁控溅射方法改变衬底温度,制备了一系列NiO:Cu/ZnO异质pn结。实验结果表明,当衬底温度从室温升高到300℃时,NiO:Cu/ZnO异质pn结的整流特性明显得到改善;与此同时,NiO:Cu/ZnO异质pn结的光学透过率也从40%增大到80%。这可能是由于NiO:Cu薄膜结晶质量改善,薄膜内缺陷减少所致。继续增加衬底温度至400℃,异质结的整流特性有所削弱,这可能是由于生长在异质结下层的NiO:Cu薄膜影响了其上ZnO薄膜的生长,进而影响到异质结的整流特性。这一结论,得到X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和紫外(UV)谱测试结果的支持。 展开更多
关键词 NIO CU掺杂 异质pn 磁控溅射 整流特性
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pn结电容-电压法测量应变SiGe禁带宽度 被引量:10
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作者 舒斌 戴显英 张鹤鸣 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期235-238,共4页
利用应变SiGe Si异质pn结电容 电压 (C V)特性确定SiGe禁带宽度的技术 .该技术根据SiGe Si异质pn结C V实验曲线 ,计算出pn结接触电势差 ,并得到SiGe Si的价带偏移量和导带偏移量 ,进而求得SiGe禁带宽度 .该技术测试方法简便 ,其过程物... 利用应变SiGe Si异质pn结电容 电压 (C V)特性确定SiGe禁带宽度的技术 .该技术根据SiGe Si异质pn结C V实验曲线 ,计算出pn结接触电势差 ,并得到SiGe Si的价带偏移量和导带偏移量 ,进而求得SiGe禁带宽度 .该技术测试方法简便 ,其过程物理意义清晰 ,既适用于分立的SiGe Si异质pn结 ,也可直接分析SiGe Si异质结器件中的SiGe禁带宽度 .实验结果与理论计算及其他相关文献报道的结果符合较好 . 展开更多
关键词 SIGE/SI 异质pn C-V 禁带宽度
原文传递
InAs/GaSb超晶格长波红外探测器暗电流特性分析 被引量:2
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作者 李俊斌 刘爱民 +6 位作者 蒋志 杨晋 杨雯 孔金丞 李东升 李艳辉 周旭昌 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2022年第4期170-177,共8页
利用二极管电流解析模型分析了InAs/GaSb超晶格长波红外探测器暗电流的主导机制。首先,通过变面积二极管I-V测试证实77 K下采用阳极硫化加SiO_(2)复合钝化的InAs/GaSb超晶格长波红探测器的暗电流主要来自于体电流,而非侧壁漏电流;然后,... 利用二极管电流解析模型分析了InAs/GaSb超晶格长波红外探测器暗电流的主导机制。首先,通过变面积二极管I-V测试证实77 K下采用阳极硫化加SiO_(2)复合钝化的InAs/GaSb超晶格长波红探测器的暗电流主要来自于体电流,而非侧壁漏电流;然后,利用扩散电流、产生复合电流、直接隧穿电流和陷阱辅助隧穿电流模型对InAs/GaSb超晶格长波红外探测器的暗电流进行拟合分析。结果表明:在小的反向偏压下(≤60 mV),器件暗电流主要由产生复合电流主导,而在高偏压下(>60 mV),器件暗电流则主要由缺陷陷阱辅助隧穿电流主导。并分析了吸收层掺杂浓度对这两种电流的影响,证实5×10^(15)~1×10^(16) cm^(−3)是优化的掺杂浓度。 展开更多
关键词 INAS/GASB超晶格 长波红外探测器 异质pn 暗电流
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