可溶性聚吡咯甲烷的超声辐射制备及其荧光性能

利用超声辐射法制备可溶性聚{(3-己酰基)吡咯-[2,5-二(对十四烷氧基苯甲烷)]}(PHPDTBA),采用1 H NMR、FT-IR、UV-Vis、XRD、TG和FL等对产物的结构、热稳定性和荧光性能进行表征与分析。UV-Vis显示PHPDTBA在300～500nm范围内有明显的光学吸收。XRD表明PHPDTBA主要以非晶态存在,也存在微小的晶区。PHPDTBA的热失重过程包括己酰基的断裂和十四烷氧基苯基的断裂两个阶段,初始分解温度为195.19℃。PHPDTBA为深蓝色的荧光材料,在CH2Cl2中的荧光量子产率为0.27,stokes位移为77nm。

窄带隙聚吡咯甲烷衍生物的制备与光学性能

由于高分子发光材料具有柔韧性好、合成简单、可大面积制备和使用寿命长等优点,成为近年来显示和照明领域的研究热点。本文以N-甲基吡咯和苯甲醛类为单体,采用缩聚法制备了3种可溶性、窄带隙、分子主链为部分共轭的聚吡咯甲烷衍生物,并利用红外光谱、紫外-可见光谱、荧光光谱、X射线衍射谱和热失重分析等方法对其结构、光致发光性质和热稳定性能等进行了测试分析,比较了大分子链上苯环对位取代基对材料发光性能的影响。研究结果表明,3种衍生物的热稳定性较好且具有部分结晶性,其光学禁带宽度均小于1.6 eV,属于窄带隙聚合物;在355 nm左右激发光下,3种衍生物均会产生约420 nm的发射光,为蓝紫色发光材料,且大分子链上苯环的对位取代基对该类材料的发光行为基本没有影响;在循环伏安曲线中,3种衍生物均存在较为明显的氧化还原峰。聚吡咯甲烷衍生物在光电器件材料方面有着潜在的应用价值。

电聚合制作DNA芯片以及无标记检测的探索

在合成一种新的吡咯衍生物DNA-3-吡咯甲基-四聚乙二醇单醚的基础上,探索了恒电位法在铂盘电极上的电化学聚合,利用扫描电子显微镜(SEM)、X-射线能量散射谱(EDX)等对聚合膜的表面形貌和元素组成进行了测试分析。探索了利用亚甲基蓝(MB)进行DNA芯片杂交检测的可行性。实验结果证明,MB可以用作无标记的DNA杂交检测,同时证明了基于恒电位聚合制作的DNA芯片是有检测功能的。