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Fabrication and Piezoelectric Characterization of Single Crystalline GaN Nanobelts
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作者 吴东旭 程宏斌 +3 位作者 郑学军 王现英 王丁 李佳 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第10期150-153,共4页
GaN nanobelts are synthesized using the chemical vapor deposition method with the catalyst of Ni. The mi- crostrueture, composition and photoluminescence property are characterized by x-ray diffraction, field emission... GaN nanobelts are synthesized using the chemical vapor deposition method with the catalyst of Ni. The mi- crostrueture, composition and photoluminescence property are characterized by x-ray diffraction, field emission scanning electron microscopy, high-resolution transmission electron microscopy and photoluminescence spectra. The results demonstrate that the single crystalline GaN nanobelts are grown with a hexagonal wurtzite structure, in width ranging from 500nm to 2μm and length up to 10-20μm. Moreover, a large piezoelectric coefficient d33 of 20pm/V is obtained from GaN nanobelts by an atomic force microscopy and the high piezoelectric property implies that the perfect single crystallinity and the freedom of dislocation for the GaN nanobelt have significant impact on the electromechanical response. 展开更多
关键词 si GAN Fabrication and Piezoelectric Characterization of single crystalline GaN Nanobelts
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一种高性能非蒸散型吸气剂的性能分析
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作者 王国栋 刘霄 +4 位作者 王姣龙 蔡洋洋 张峰 陈长琦 谢远来 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第6期503-510,共8页
非蒸散型吸气剂(NEG)是高真空和超高真空系统维持真空度的重要材料,具有高稳定性和高气体吸附性能,文章采用粉末冶金的方法制备出Zr_(59.46)V_(29.81)Al_(10.73)吸气剂,并基于小孔流导法搭建了一套吸气剂性能测试的高真空系统,分别测试... 非蒸散型吸气剂(NEG)是高真空和超高真空系统维持真空度的重要材料,具有高稳定性和高气体吸附性能,文章采用粉末冶金的方法制备出Zr_(59.46)V_(29.81)Al_(10.73)吸气剂,并基于小孔流导法搭建了一套吸气剂性能测试的高真空系统,分别测试了气体种类及工作温度对吸气剂性能的影响,实验结果表明:Zr_(59.46)V_(29.81)Al_(10.73)吸气剂对H_(2)、CO_(2)、N2都有很好的吸气性能,其对H_(2)的吸气性能远超N2和CO_(2),但它不吸收He等惰性气体,不同工作温度对吸气性能有很大差异,其最佳工作温度为200℃。利用X射线衍射图谱(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)及能量色散图谱(EDS)对吸气剂进行晶相、形貌和成分分析,结果表明Zr_(59.46)V_(29.81)Al_(10.73)吸气剂表面呈现多孔状结构,其主要由α-Zr基固溶体、C15 Laves相及少量Zr_(x)Al_(y)化合物组成,多孔的结构及α-Zr基固溶体、C15 Laves相的高比例有利于吸气剂对活性气体的吸附,因此Zr_(59.46)V_(29.81)Al_(10.73)吸气剂展现出较好的性能。 展开更多
关键词 非蒸散型吸气剂 粉末冶金 性能测试 形貌分析 晶相结构
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激波诱导非晶合金Fe_(78)B_(13)Si_9的晶化 被引量:28
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作者 刘佐权 赵鹤云 +3 位作者 吕毓松 李德修 李炘 张树波 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第8期862-866,共5页
用XRD和DTA研究了激波对Fe_(78)B_(13)Si_9非晶合金的影响.结果表明,一定强度的激波能使非晶态转变为晶态,且其晶粒尺寸在纳米范围内.
关键词 激波 纳米材料 非晶态合金 晶化
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在AAO衬底上制备纳米Si阵列研究 被引量:3
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作者 胡海龙 彭尚龙 +2 位作者 唐泽国 祁菁 贺德衍 《兰州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期96-98,共3页
用等离子体增强化学气相沉积在多孔氧化铝(AAO)上制备出具有纳米Si阵列分布的薄膜,用透射电子显微镜和扫描电子显微镜观察了不同生长条件下的样品形貌和结构,用X射线衍射谱仪分析了样品的结晶状况.样品呈现出良好的场电子发射稳定性,... 用等离子体增强化学气相沉积在多孔氧化铝(AAO)上制备出具有纳米Si阵列分布的薄膜,用透射电子显微镜和扫描电子显微镜观察了不同生长条件下的样品形貌和结构,用X射线衍射谱仪分析了样品的结晶状况.样品呈现出良好的场电子发射稳定性,开启电场为7 V/μm. 展开更多
关键词 纳米晶si AAO衬底 PECVD
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新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜的高温热稳定性 被引量:4
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作者 郭岩 畅庚榕 +2 位作者 吴贵智 马胜利 徐可为 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期172-176,共5页
用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)方法在高速钢基体上沉积出新型Ti-Si-C-N超硬薄膜,Ti-Si-C-N薄膜为纳米晶/非晶复合结构(nc-Ti(C,N)/a-Si_3N_4/a-C—C),当薄膜中Si和C含量较高时,Ti(C,N)转变为TiC,晶粒尺寸减小到2—4 nm,... 用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)方法在高速钢基体上沉积出新型Ti-Si-C-N超硬薄膜,Ti-Si-C-N薄膜为纳米晶/非晶复合结构(nc-Ti(C,N)/a-Si_3N_4/a-C—C),当薄膜中Si和C含量较高时,Ti(C,N)转变为TiC,晶粒尺寸减小到2—4 nm,薄膜晶粒尺寸和硬度的高温热稳定性均随沉积态薄膜中的原始晶粒尺寸减小而提高,当原始晶粒尺寸在8—10 nm之间时,晶粒尺寸和硬度热稳定性可达900℃;当原始晶粒尺寸在2—4 nm之间时,晶粒尺寸和硬度热稳定性可达1000℃,薄膜硬度和晶粒尺寸表现出同步的高温热稳定性,分析认为由调幅分解形成的纳米复合结构中的非晶相强烈地抑制晶界滑移与晶粒长大,从而使Ti-Si-C-N薄膜的热稳定性显著提高。 展开更多
关键词 Ti—si—C—N 纳米复合超硬薄膜 晶粒尺寸 显微硬度 热稳定性
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硼掺杂对μc-Si:H薄膜微结构和光电性能的影响 被引量:6
6
作者 汪昌州 杨仕娥 +3 位作者 陈永生 杨根 郜小勇 卢景霄 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期123-128,共6页
采用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)法制备了掺硼氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜,研究了硼掺杂对薄膜的结晶状况、沉积速率、暗电导率和光学带隙的影响。拉曼光谱、扫描电子显微镜、分光光度计和电导率测试结果表明:当掺硼比(B2H6/Si... 采用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)法制备了掺硼氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜,研究了硼掺杂对薄膜的结晶状况、沉积速率、暗电导率和光学带隙的影响。拉曼光谱、扫描电子显微镜、分光光度计和电导率测试结果表明:当掺硼比(B2H6/SiH4)由0.1%增加到0.75%时,硅膜的晶化率逐渐降低,并由微晶向非晶过渡;沉积速率随掺硼比的增加线性增大;暗电导率先升高后下降,当掺硼比为0.5%时,暗电导率最大;光学带隙随掺硼比的增加逐渐减小。 展开更多
关键词 p型氢化微晶硅薄膜 掺硼比 晶化率 电导率
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单晶多级孔ZSM-5分子筛酸性质对正庚烷催化裂解反应传质性能的影响
7
作者 谢小金 张晓雪 +3 位作者 刘晓玲 崇明本 程党国 陈丰秋 《化工进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期2661-2672,共12页
采用L-赖氨酸作为介孔模板剂,通过调控铝源(偏铝酸钠)添加量改变分子筛硅铝比,在单晶分子筛内部引入晶内介孔,成功地合成了一系列具有不同硅铝比的单晶多级孔ZSM-5分子筛,研究了其酸性质对正庚烷催化裂解反应传质性能的影响。利用X射线... 采用L-赖氨酸作为介孔模板剂,通过调控铝源(偏铝酸钠)添加量改变分子筛硅铝比,在单晶分子筛内部引入晶内介孔,成功地合成了一系列具有不同硅铝比的单晶多级孔ZSM-5分子筛,研究了其酸性质对正庚烷催化裂解反应传质性能的影响。利用X射线衍射(XRD)、N2物理吸附、氨气程序升温脱附(NH_(3)-TPD)、吡啶红外(Py-IR)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等表征了单晶多级孔ZSM-5分子筛的物理结构、酸性质和微观形貌。同时,利用零长柱(ZLC)装置测试获取了正庚烷在单晶多级孔ZSM-5分子筛中的表观扩散系数,用于反映其传质性能。研究结果表明,随着硅铝比的提高,单晶多级孔ZSM-5分子筛的物理结构基本保持一致;传质性能随酸量的减少而提升,催化裂解性能随酸量的增加而提高。当单晶多级孔ZSM-5分子筛的Si/Al从80提高至140,正庚烷的表观扩散系数提升了87%以上;当单晶多级孔ZSM-5分子筛的Si/Al=80时,正庚烷的转化率最高可达97.5%,乙烯和丙烯的选择性分别为24.3%和35.1%。 展开更多
关键词 L-赖氨酸 硅铝比 单晶多级孔ZSM-5分子筛 传质 催化 反应
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GaN在Si(001)上的ECR等离子体增强MOCVD直接生长研究(英文) 被引量:1
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作者 徐茵 顾彪 +2 位作者 秦福文 李晓娜 王三胜 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第12期1238-1244,共7页
研究了用电子回旋共振 (ECR)等离子体增强金属有机物化学气相沉积 (PEMOCVD)技术在 Si(0 0 1)衬底上 ,低温 (6 2 0~ 72 0℃ )下 Ga N薄膜的直接外延生长及晶相结构 .高分辨透射电镜 (HRTEM)和 X射线衍射 (XRD)结果表明 :在 Si(0 0 1)... 研究了用电子回旋共振 (ECR)等离子体增强金属有机物化学气相沉积 (PEMOCVD)技术在 Si(0 0 1)衬底上 ,低温 (6 2 0~ 72 0℃ )下 Ga N薄膜的直接外延生长及晶相结构 .高分辨透射电镜 (HRTEM)和 X射线衍射 (XRD)结果表明 :在 Si(0 0 1)衬底上外延出了高度 c轴取向纤锌矿结构的 Ga N膜 ,但在 Ga N/ Si(0 0 1)界面处自然形成了一层非晶层 ,其两个表面平坦而陡峭 ,厚度均匀 (≈ 2 nm) .分析认为 ,在初始成核阶段 N与 Si之间反应所产生的这层 Six Ny非晶层使 Ga N的 β相没有形成 .XRD和原子力显微镜 (AFM)结果表明 ,衬底表面的原位氢等离子体清洗 ,Ga N初始成核及后续生长条件对 Ga 展开更多
关键词 GAN si(001) ECR 等离子体 MOCVD 直接生长 电子回旋共振 金属有机物化学气相沉积 晶相结构
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Ge/Si纳米多层膜的埋层调制结晶研究 被引量:2
9
作者 杨瑞东 陈寒娴 +4 位作者 邓荣斌 孔令德 陶东平 王茺 杨宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期328-330,333,共4页
采用磁控溅射设备,当衬底温度为500℃时,在Si(100)基片上磁控溅射生长Ge/Si多层膜样品。使用Raman,AFM和低角X射线技术对样品进行检测和研究,结果表明通过控制Ge埋层的厚度,可以调制Ge膜的结晶及晶粒尺寸,获得晶粒平均尺寸和空间分布较... 采用磁控溅射设备,当衬底温度为500℃时,在Si(100)基片上磁控溅射生长Ge/Si多层膜样品。使用Raman,AFM和低角X射线技术对样品进行检测和研究,结果表明通过控制Ge埋层的厚度,可以调制Ge膜的结晶及晶粒尺寸,获得晶粒平均尺寸和空间分布较均匀的多晶Ge/Si多层膜。 展开更多
关键词 Ge/si纳米多层膜 埋层 纳米晶粒
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Ni-Si-B系非晶合金的结晶度与退火温度关系的研究 被引量:3
10
作者 谢泉 刘让苏 彭平 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1995年第3期42-46,共5页
本文对Ni_(85-x)Si_(15)B_x(x=13,17,21)系非晶合金条带的晶化(经过处理后的)结晶度的测定进行了比较系统的研究.结晶度的测定系采用电子计算机分峰方法将x射线衍射曲线中的非晶峰与结晶分离开来,... 本文对Ni_(85-x)Si_(15)B_x(x=13,17,21)系非晶合金条带的晶化(经过处理后的)结晶度的测定进行了比较系统的研究.结晶度的测定系采用电子计算机分峰方法将x射线衍射曲线中的非晶峰与结晶分离开来,其中非晶峰以三次多项式表示,结晶峰以高斯-柯西复函数表示,由这些表达式组成联立方程组,用最小二乘法求解,并计算出它们的相对强度值,得到其结晶庆与退火温度呈抛物线关系曲线. 展开更多
关键词 晶化 结晶度 计算机分峰 金属玻璃 退火温度
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激光合成纳米晶Si粉及粉体性能表征 被引量:1
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作者 李亚利 梁勇 +2 位作者 肖克沈 郑丰 胡壮麒 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第1期B021-B025,共5页
本文采用激光诱导高纯硅烷气相反应在不同的合成条件下制备出平均粒径为20—100nm。晶粒度为18—37nm的各种纳米Si粉。研究了实验参数对粉体形成的影响并采用多种测试手段(TEM.XPS,XRD,FTIR.BET)... 本文采用激光诱导高纯硅烷气相反应在不同的合成条件下制备出平均粒径为20—100nm。晶粒度为18—37nm的各种纳米Si粉。研究了实验参数对粉体形成的影响并采用多种测试手段(TEM.XPS,XRD,FTIR.BET)研究了粉体粒子形貌、键结构特征及表面状态。结果表明。粉体由团聚态形状不规各单分散球形的多晶粒子组成。较低的激光功率似加大稀释Ar气量有利于单分散细粒子的形成。粉体氧杂质含量为2.0—3.0wt-%。主要以O-Si-H键状态存在于粒子表面,是由粉体暴露空气后粒子表面产生化学吸附氧形成的。 展开更多
关键词 激光合成 纳米晶 硅粉 氮化硅 陶瓷
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Al-3%Si合金等径角挤压的变形行为 被引量:2
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作者 郭廷彪 李海龙 +2 位作者 胡勇 刘博 丁雨田 《兰州理工大学学报》 CAS 北大核心 2014年第4期1-5,共5页
采用A路径对内部含有铜片的Al-3%Si合金在室温下进行5道次等径角挤压来考察其对材料宏观和微观组织影响.通过示踪法研究铜片位置的变化,通过SEM和OM观察脆性相Si的变化,并对材料进行XRD分析.结果表明:经5道次变形后铜片发生偏转至45... 采用A路径对内部含有铜片的Al-3%Si合金在室温下进行5道次等径角挤压来考察其对材料宏观和微观组织影响.通过示踪法研究铜片位置的变化,通过SEM和OM观察脆性相Si的变化,并对材料进行XRD分析.结果表明:经5道次变形后铜片发生偏转至45°,铜片自身也发生了扭曲变形,证明剪切作用下,存在着扭转力;共晶Si的变化行为是在1道次挤压后共晶Si呈长条状分布在晶界;2道次挤压后长条状共晶Si被破碎成短杆状,部分偏离晶界;4道次挤压后短杆状共晶Si被破碎成块状,弥散分布在基体上;5道次挤压后块状共晶Si发生了偏聚,平均尺寸由10μm变为3μm,并在垂直剪切方向上存在明显移动;晶面取向(220)的衍射峰强度逐步降低,而(111)晶面的衍射峰强度则明显增加,主导取向由(220)变为(111),晶面取向(200)和(311)变化不明显. 展开更多
关键词 等径角挤压(ECAP) Al-3%si 晶体取向 剪切 扭转力
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热处理制度对Mg-Y-Al-Si-O-N玻璃析晶行为的影响 被引量:5
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作者 李秀英 卢安贤 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第9期1663-1670,共8页
分别研究核化温度、核化时间和晶化温度对Mg8.88Y5.92Al10.15Si15.22O52.65N7.19(摩尔分数,%)氧氮玻璃析晶行为的影响。此外,还对比研究了两步和一步热处理制度对此玻璃析晶行为的影响。用DSC曲线初步确定玻璃成核和晶化温度范围,再用... 分别研究核化温度、核化时间和晶化温度对Mg8.88Y5.92Al10.15Si15.22O52.65N7.19(摩尔分数,%)氧氮玻璃析晶行为的影响。此外,还对比研究了两步和一步热处理制度对此玻璃析晶行为的影响。用DSC曲线初步确定玻璃成核和晶化温度范围,再用传统方法确定玻璃的最佳热处理制度;用X-射线衍射仪鉴定微晶玻璃中的物相;用扫描电镜观察微晶玻璃的微观结构。结果表明:对于此组成玻璃,热处理制度严重影响微晶玻璃的析晶度和微观形貌,但对析出相的种类影响较小;所制备的微晶玻璃中均含YMgSi2O5N(48-1632)、MgSiO3(19-0768)和Mg3Al2(SiO4)3(15-0742)相,其中YMgSi2O5N为主晶相,呈棒状。 展开更多
关键词 热处理制度 Mg-Y-Al-si-O-N玻璃 晶相 析晶度 显微结构
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离子束溅射Si薄膜的纵向结晶性分析 被引量:2
14
作者 孔令德 杨宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1262-1264,1268,共4页
研究了离子束溅射制备微晶硅薄膜的生长纵向结晶演化过程。纵向分布Raman光谱分析显示,当硅薄膜厚度减薄时,表面硅层的结晶峰强度明显减弱,峰位有微弱的蓝移。最薄的样品显示为非晶态结构。当Raman激光聚焦斑点向64.5nm厚的薄膜样品深... 研究了离子束溅射制备微晶硅薄膜的生长纵向结晶演化过程。纵向分布Raman光谱分析显示,当硅薄膜厚度减薄时,表面硅层的结晶峰强度明显减弱,峰位有微弱的蓝移。最薄的样品显示为非晶态结构。当Raman激光聚焦斑点向64.5nm厚的薄膜样品深层面聚焦取样时,微晶硅薄膜的结晶性先由表层向下逐渐变好,最大晶粒尺寸达3.318nm,最高晶化率达47.6%。最后,当激光聚焦斑点到达薄膜与玻璃衬底的界面孵化层时,硅薄膜显非晶态。 展开更多
关键词 微晶硅 纵向Raman光谱 晶粒尺寸 晶化率
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WO_3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析 被引量:2
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作者 方国家 刘祖黎 姚凯伦 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期139-144,共6页
采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在Si(111)单晶衬底上沉积了 WOx薄膜.采用X射线衍射(XRD)、喇曼光谱(RS)、付里叶红外光谱(FT-IR)及透射电镜扫描附件(STEM)对不同条件下沉积的样品进行了结... 采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在Si(111)单晶衬底上沉积了 WOx薄膜.采用X射线衍射(XRD)、喇曼光谱(RS)、付里叶红外光谱(FT-IR)及透射电镜扫描附件(STEM)对不同条件下沉积的样品进行了结构分析.结果表明,氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数.在沉积温度300℃以上及20Pa氧压下得到了三斜相纳米晶WO3薄膜. 展开更多
关键词 三氧化钨薄膜 纳米晶 脉冲准分子激光沉积 PLD 结构分析 si(111)衬底 性能 WO3薄膜 电致变色材料
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透明导电薄膜与p-Si:H膜接触特性的研究 被引量:1
16
作者 吴芳 王海燕 +5 位作者 卢景霄 郜小勇 杨仕娥 陈永生 杨根 王子健 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期42-46,共5页
本实验采用PECVD方法在不同透明导电薄膜上沉积了p型掺杂(p-Si:H)膜。用拉曼(Raman)光谱测试了p-Si:H膜的晶化率,并用扫描电子显微镜(SEM)观察了其形貌。结果表明:在SnO2上沉积的p-Si:H膜的晶化率较其它两种衬底高,相应的SEM形貌显示颗... 本实验采用PECVD方法在不同透明导电薄膜上沉积了p型掺杂(p-Si:H)膜。用拉曼(Raman)光谱测试了p-Si:H膜的晶化率,并用扫描电子显微镜(SEM)观察了其形貌。结果表明:在SnO2上沉积的p-Si:H膜的晶化率较其它两种衬底高,相应的SEM形貌显示颗粒尺寸也较大。通过I-V测试仪测试了ZnO:Al/p-Si:H、SnO2/p-Si:H和SnO2/ZnO:Al/p-Si:H的接触特性,结果显示ZnO:Al/p-Si:H的接触特性并不比SnO2/p-Si:H差。 展开更多
关键词 透明导电膜 p-si:H膜 Ⅰ-Ⅴ测试 电接触特性 晶化率
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主晶相为Y_3Al_5O_(12)的Y-Al-Si-O-N微晶玻璃的制备 被引量:1
17
作者 李秀英 卢安贤 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期636-643,共8页
为制备主晶相为Y3Al5O12(即YAG)的Y-Al-Si-O-N氧氮微晶玻璃,对组成为Y28Al24Si48O83N17的氧氮玻璃作不同的热处理,并采用差示扫描量热法确定基础玻璃样品的热处理制度;采用X线衍射仪和结合能谱分析鉴定微晶玻璃样品的物相;采用扫描电镜... 为制备主晶相为Y3Al5O12(即YAG)的Y-Al-Si-O-N氧氮微晶玻璃,对组成为Y28Al24Si48O83N17的氧氮玻璃作不同的热处理,并采用差示扫描量热法确定基础玻璃样品的热处理制度;采用X线衍射仪和结合能谱分析鉴定微晶玻璃样品的物相;采用扫描电镜观察微晶玻璃样品的微观形貌。研究结果表明:在1 200℃及其以下温度对玻璃样品进行热处理所得的Y-Al-Si-O-N微晶玻璃样品中只包含YAG相;当热处理温度高于1 200℃时,微晶玻璃中除YAG相外还有少量O′-Sialon相;随着热处理温度升高,YAG树枝晶的枝干长度增大,枝叶变厚;通过两步热处理法得到的YAG晶粒尺寸远小于一步热处理法的晶粒尺寸。 展开更多
关键词 Y-Al-si-O-N 微晶玻璃 热处理 析出相 显微结构
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晶体硅太阳电池TiO_2与SiN减反射膜对比研究 被引量:4
18
作者 刘祖明 张忠文 +3 位作者 李海雁 李杰慧 廖华 李景天 《昆明师范高等专科学校学报》 2003年第4期75-77,共3页
采用多层膜的反射理论及数值计算对比了TiO2 和SiN减反射膜用于晶体硅太阳电池对其性能的影响 ,给出了优化设计的结果 ,SiN膜的减反射膜的综合效果更优 .
关键词 TiO2减反射膜 siN减反射膜 晶体硅太阳电池
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Ni-Si-B系非晶合金的结晶度与退火时间的关系
19
作者 谢泉 刘让苏 彭平 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1997年第2期14-16,70,共4页
对Ni64Si15B21非晶合金条带在250℃不同退火时间下的结晶度进行了测定.得到了结晶度与退火保温时间呈抛物线关系的实验规律.
关键词 非晶态合金 结晶度 退火时间 镍-硅-硼合金
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SiO_2层对金刚石膜初期生长影响的研究
20
作者 陈岩 陈启谨 +2 位作者 崔玉德 孙碧武 林彰达 《真空科学与技术》 CSCD 1994年第6期396-400,共5页
用俄歇子能谱(AES)研究了热丝法生长金刚石膜中未经划痕处理的单晶硅衬底在不同沉积时间下的表面结构及Si,C,O元素浓度的深度分布。结果表明:在沉积过程中,随沉积时间增加时,基材表面C浓度增加,O浓度下降,但SiC过渡层的生长缓... 用俄歇子能谱(AES)研究了热丝法生长金刚石膜中未经划痕处理的单晶硅衬底在不同沉积时间下的表面结构及Si,C,O元素浓度的深度分布。结果表明:在沉积过程中,随沉积时间增加时,基材表面C浓度增加,O浓度下降,但SiC过渡层的生长缓慢。700℃沉积4h时仍无结构完整的SiC层生成,这是表面SiO2层阻碍了SiC的形成。分析了不经划痕处理的基材形核率低的原因。用高分辨电镜(HREM)观察了生长良好的金刚石膜的膜—基界面,发现没有SiO2层存在。 展开更多
关键词 表面结构 单晶硅衬底 生长速率 氧化硅
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