多孔性聚酰亚胺纳米粒子的制备

介绍了用“再沉淀法”并经亚胺化成功制成PI（BPDA-PDA）多孔性粒子，粒径为几百nm；在此同时，加入与PAA（PI的先驱体）有较好相容性聚丙烯酸PAS为多孔源（porogen），而在其粒子表面生成较深的、较高空穴率的空穴，在20-100nm之间。这种多孔性PI纳米粒子可作为下一代低k值PI膜材料候选者之一。