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低共熔化合物辅助化学沉淀法制备NiO纳米晶体
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作者 王少飞 施利毅 +1 位作者 冯欣 马书蕊 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期13-15,共3页
以Ni(NO3)2和NH4HCO3为原料,用化学沉淀法制备出的前驱体,经加入低共熔混合物煅烧后,得到粒度分布均匀、分散性较好的立方相纯NiO纳米晶体,平均粒度约为25nm。考察了低共熔混合物的加入对NiO粒度和形貌的影响情况,并初步探讨了低共熔混... 以Ni(NO3)2和NH4HCO3为原料,用化学沉淀法制备出的前驱体,经加入低共熔混合物煅烧后,得到粒度分布均匀、分散性较好的立方相纯NiO纳米晶体,平均粒度约为25nm。考察了低共熔混合物的加入对NiO粒度和形貌的影响情况,并初步探讨了低共熔混合物在纳米NiO制备过程中的作用机理。 展开更多
关键词 沉淀法 纳米nio 低共熔混合物
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