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Improved pulse line accelerator-driven, high-power, high-brightness pseudospark electron beam
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作者 朱俊彪 王明常 +6 位作者 王之江 张立芬 陆载通 冯诚士 陆宾 黄羽 周慧芬 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1995年第18期1577-1580,共4页
Pseudospark discharge is a kind of gas discharge Which occurs at high voltages(10kV—【1MV) and low pressures (1—100Pa) in a special axial symmetric geometry—the so-called pseudospark chamber (PSC). The device with ... Pseudospark discharge is a kind of gas discharge Which occurs at high voltages(10kV—【1MV) and low pressures (1—100Pa) in a special axial symmetric geometry—the so-called pseudospark chamber (PSC). The device with an insulator disc being in-serted between a hollow cathode (HC) and a plane anode both with a common centralchannel is called the single-gap PSC. We call stacks of alternative insulator and 展开更多
关键词 HIGH-BRIGHTNESS electron beam pseudospark discharge PULSE LINE accelerator.
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Emittance and brightness measurement of a high voltage pseudospark electron beam
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作者 Yu Huang Mingchang Wang Zhijiang Wang 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1998年第3期260-262,共3页
This is a report of the emittance and brightness measurement of an electron beam produced in a pseudospark discharge device driven by a pulse line accelerator. A ten_gap pseudospark device was operated at 200 kV, in a... This is a report of the emittance and brightness measurement of an electron beam produced in a pseudospark discharge device driven by a pulse line accelerator. A ten_gap pseudospark device was operated at 200 kV, in a nitrogen gas fill pressure of 15 Pa. The typical value of emittance was measured to be 47 mm·mrad about 5 cm downstream of the anode plane. The dependence of the beam current, HWHM emittance, the normalized emittance, and the normalized brightness on the axial distance from the anode were obtained. The highest brightness is about 2.7×10 12 A/(mrad)\+2 near the anode, and is still higher than 10 10 A/(mrad)\+2, 160 mm downstream of the anode. Such a high quality electron beam can be used for Raman free electron laser, X ray laser producing, and high power microwave. 展开更多
关键词 pseudospark electron beam EMITTANCE brightness.
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45号钢脉冲电子束熔凝处理及微结构研究 被引量:6
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作者 刘志坚 韩丽君 +1 位作者 江兴流 乐小云 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 2005年第5期20-24,共5页
利用多极板赝火花放电装置产生的高功率脉冲电子束对45号钢进行轰击,通过扫描电子显微镜(SEM)和透射电镜(TEM)的观察,研究了电子束在金属表面和纵向深度上引起的组织结构的变化。结果表明轰击区表面瞬态骤熔急冷,形成了微晶或无序层;剖... 利用多极板赝火花放电装置产生的高功率脉冲电子束对45号钢进行轰击,通过扫描电子显微镜(SEM)和透射电镜(TEM)的观察,研究了电子束在金属表面和纵向深度上引起的组织结构的变化。结果表明轰击区表面瞬态骤熔急冷,形成了微晶或无序层;剖面组织区域分为熔凝区,马氏体区,热影响区和基体。熔凝区在极高的温度梯度下,具有自淬火效应。马氏体区和热影响区在多脉冲的作用下,相当于经历了多次退火和回火过程,材料组织明显细化。轰击后样品表面的显微硬度与耐腐蚀性测试结果表明,显微组织的细化,改善了金属材料表面的物化性能。采用适当的脉冲数对金属材料表面改性作用效果明显。 展开更多
关键词 脉冲电子束 赝火花 熔凝处理 显微组织
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65Mn钢强脉冲电子束轰击表面结构分析 被引量:3
4
作者 韩丽君 阿舍尔 刘锡三 《金属热处理学报》 EI CSCD 2000年第3期42-45,共4页
研究结果表明 ,高功率密度强脉冲电子束作用于金属表面可产生骤熔急冷和冲击压缩过程 ,在金属表面注入区形成微米量级硬化层 ,使金属表面的物化性能得以改善。
关键词 强脉冲电子束 65MN钢 硬化层 快速熔凝 显微结构
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纳秒强流脉冲电子束强化金属表面的研究 被引量:2
5
作者 刘志坚 乐小云 江兴流 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期118-121,共4页
利用多极板赝火花放电装置产生的高功率脉冲电子束对不同类型的钢, 如 45#, 65Mn,T8, 9Cr18和GCr15等进行轰击, 研究其在金属材料表面改性中的应用. 样品表面的显微硬度和耐腐蚀性测试结果以及扫描电子显微镜 (SEM) 的观察分析表明, ... 利用多极板赝火花放电装置产生的高功率脉冲电子束对不同类型的钢, 如 45#, 65Mn,T8, 9Cr18和GCr15等进行轰击, 研究其在金属材料表面改性中的应用. 样品表面的显微硬度和耐腐蚀性测试结果以及扫描电子显微镜 (SEM) 的观察分析表明, 经电子束轰击后, 这些材料在结构、组织和性能上发生了明显的变化, 轰击中心区域的显微硬度和耐蚀性明显提高. 基于一维热传导方程对材料表面的冷却速率进行了估算, 对电子束与金属材料的作用过程进行了理论分析. 结果表明, 高功率密度脉冲电子束与金属材料相互作用, 表面冷却速率高达 1. 2×1012℃ /s,使材料表面局部瞬间达到熔化, 产生骤热急冷过程. 展开更多
关键词 局部 观察分析 不同类型 测试结果 研究 相互作用 变化 轰击 一维 强流脉冲电子束
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赝火花脉冲电子束的特征
6
作者 刘志坚 江兴流 +1 位作者 乐小云 文雄伟 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期91-93,共3页
基于电场递增效应理论, 讨论了多极板赝火花脉冲电子束的特征. 通过电子束对固体变色片和金属靶的轰击, 对赝火花电子束的不稳定性、细丝效应和自箍缩效应等现象做了研究和分析.
关键词 脉冲电子束 赝火花 气体放电
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300kV的虚火花放电实验 被引量:6
7
作者 黄羽 王明常 +4 位作者 陆宾 冯诚士 陈建芳 杨斥 王之江 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期635-637,共3页
介绍了用脉冲线加速器作驱动电源产生高压虚火花放电的实验。脉冲线加速器由十级马克斯发生器和改装的脉冲形成线构成,虚火花放电室中注入低气压氮气,在300kV的放电电压下获得药10kA的高亮度电子束。
关键词 虚火花放电 高亮度 电子束 脉冲线加速器
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伪火花放电的物理机制与应用综述 被引量:5
8
作者 闫家启 申赛康 +1 位作者 孙国祥 丁卫东 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2021年第11期2408-2423,共16页
伪火花放电是一种工作于巴申曲线左半支、引燃于空心阴极结构、具有弥散的主放电通道的特殊低气压放电,在脉冲功率和等离子体等领域得到广泛应用。该文综述了近年来有关伪火花放电物理机制和典型应用的研究。首先分析伪火花放电主要过... 伪火花放电是一种工作于巴申曲线左半支、引燃于空心阴极结构、具有弥散的主放电通道的特殊低气压放电,在脉冲功率和等离子体等领域得到广泛应用。该文综述了近年来有关伪火花放电物理机制和典型应用的研究。首先分析伪火花放电主要过程的典型特征、微观机制和影响因素,依次为预放电、空心阴极放电、超密集辉光放电和真空电弧放电四个阶段;其次讨论当前伪火花放电研究中仍存在的问题,如电流淬灭和阻抗波动等;然后介绍伪火花放电的典型应用,包括伪火花开关、电子束源、极紫外光源等,并着重介绍相关装置的参数水平和技术特点;最后探讨伪火花放电研究今后的发展趋势。 展开更多
关键词 伪火花放电 物理机制 伪火花开关 电子束源 极紫外光源
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基于LaB6光电阴极的光触发赝火花电子束源实验研究 被引量:1
9
作者 霍卫杰 胡静 +2 位作者 曹晓彤 傅宇蕾 赵万生 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第8期631-636,共6页
以改善空心阴极放电的性能,提高放电产生的电子束为目标,设计了光触发多电极赝火花放电腔装置。光触发用的光电阴极材料选取低功函数的LaB6材料,并以Cu为基底材料加工制作了赝火花放电装置中的核心部件--空心阴极腔。光触发放电实验结... 以改善空心阴极放电的性能,提高放电产生的电子束为目标,设计了光触发多电极赝火花放电腔装置。光触发用的光电阴极材料选取低功函数的LaB6材料,并以Cu为基底材料加工制作了赝火花放电装置中的核心部件--空心阴极腔。光触发放电实验结果显示,LaB6阴极提高了赝火花光触发模式下放电的稳定性和可控性。电子束测量结果表明,相同放电电压下,LaB6阴极中产生的电子束束流峰值与同等实验条件下的Cu阴极相比,提高了53.6%~92%;而与此同时,电子束的半高宽只改变了10.7%~18.2%。本论文中的实验结果证实了LaB6作为触发材料能够有效的加强空心阴极腔内的气体电离,从而改善光触发放电的性能。LaB6作为阴极腔材料,促进了空心阴极腔和极间的等离子体形成和发展,显著提高了放电所产生的电子束电流密度,同时并未引入过多的能量损耗过程和低速低能量电子。 展开更多
关键词 光触发 光电阴极 LaB6 赝火花电子束 空心阴极放电
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赝火花脉冲电子束传输中束斑分析 被引量:2
10
作者 刘志坚 江兴流 +1 位作者 乐小云 文雄伟 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期4229-4235,共7页
通过赝火花强流脉冲电子束对酸敏变色片和单晶硅的轰击试验,结合束流自箍缩效应进行理论计算,对赝火花脉冲电子束传输中束斑的变形进行了研究与分析.结果表明椭圆形轰击束斑是由通过旁路电容的瞬态电流产生的方位角磁场所引起的,并且提... 通过赝火花强流脉冲电子束对酸敏变色片和单晶硅的轰击试验,结合束流自箍缩效应进行理论计算,对赝火花脉冲电子束传输中束斑的变形进行了研究与分析.结果表明椭圆形轰击束斑是由通过旁路电容的瞬态电流产生的方位角磁场所引起的,并且提出了解决束斑变形的有效方法. 展开更多
关键词 脉冲电子束 赝火花放电 束斑 自箍缩效应 强流脉冲电子束 电子束传输 束斑 火花 理论计算 箍缩效应 旁路电容 有效方法 单晶硅
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新型电子束源──虚火花放电室设计 被引量:3
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作者 朱俊彪 王明常 王之江 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第5期536-539,共4页
提出一种新型的脉冲线加速器驱动的高功率、强流密度、低发射度、高亮度电子束源──虚火花放电室的初步设计。基于空心阴极效应和虚火花放电经验公式,确定了空心阴极,多隙阴-阳极距离,以及工作气压范围。最后提出关于虚火花产生高... 提出一种新型的脉冲线加速器驱动的高功率、强流密度、低发射度、高亮度电子束源──虚火花放电室的初步设计。基于空心阴极效应和虚火花放电经验公式,确定了空心阴极,多隙阴-阳极距离,以及工作气压范围。最后提出关于虚火花产生高亮度电子束源的总体实验方案。 展开更多
关键词 电子束源 虚火花放电室 设计
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