偏压对磁控溅射纯Cr镀层组织形貌及耐腐蚀性能的影响

基于磁控溅射离子镀技术在不同偏压下于单晶硅和45钢基体上制备了纯Cr镀层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和CH1660B电化学工作站(极化曲线)分析了纯Cr镀层表面、截面微观形貌和择优生长取向的变化规律,并考察了纯Cr镀层的耐腐蚀性能。结果表明:偏压显著影响着纯Cr镀层的组织结构、择优取向以及耐腐蚀性能。基体偏压值大于90V后纯Cr镀层的组织结构由柱状晶向等轴晶转变纯Cr镀层组织形貌由柱状晶逐渐向等轴晶转变,随着偏压值增大,纯Cr镀层晶体择优生长面由(200)晶面变为(110)晶面,镀层耐腐蚀性能逐渐增强;且偏压值为120V时,镀层耐腐蚀性能表现最优;纯Cr镀层中晶体颗粒尺寸的减小和致密度的增加是耐腐蚀性提高的主要原因。

NaCl盐膜和水蒸气对纯Cr腐蚀行为的影响

研究了 50 0～ 70 0℃纯Cr在NaCl盐膜及水蒸气作用下的腐蚀行为。结果表明 ,在单纯空气或O2 +H2 O混合气氛中 ,由于表面生成了一层连续致密的Cr2 O3保护膜 ,即使在较高温度(70 0℃ )下其腐蚀增重也较小 ,表现出良好的抗腐蚀性能。但在NaCl+空气或NaCl+O2 +H2 O协同作用下 ,Cr的腐蚀明显加剧 ,且前者较后者的加速作用显著。在试验温度范围内 ,温度越高 ,Cr的腐蚀越严重。根据实验结果 ,讨论了NaCl加速Cr腐蚀的作用机制。

负偏压对纯Cr涂层表面液滴及涂层结合力的影响

采用多弧离子镀技术于不同负偏压条件下在锆合金表面沉积纯Cr涂层。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和划痕仪分析了纯Cr涂层表面形貌和择优生长取向变化规律,并对涂层膜基结合力进行表征。结果表明:负偏压不同,纯Cr涂层上液滴分布和择优生长取向都有较大的影响。其中随着负偏压的增加,纯Cr涂层表面液滴的数量和尺寸先减少后增加的趋势,同时纯Cr涂层晶体择优生长趋势由(200)晶面转向(110)晶面;纯Cr涂层的膜/基结合力随负偏压的增加逐渐增大。

纯Cr在750℃熔融LiCl-Li_2O中腐蚀行为

利用锂化还原处理技术处理乏燃料时,形成的L iC l-L i2O混合熔盐将使反应容器和传送装置材料发生强烈的腐蚀.采用浸没法腐蚀实验研究了纯C r在750℃下,不同浓度熔融L iC l-L i2O中的腐蚀行为.实验结果表明,随着L i2O浓度的增加,纯C r在750℃熔融L iC l-L i2O中的腐蚀产物发生了由L iC rO2向L i2C rO4的转变,这与热力学计算得到的相稳定图一致.腐蚀减重随L i2O浓度的升高而增大.

电场环境对磁控溅射纯Cr薄膜沉积过程的影响

基于磁控溅射离子镀技术,以纯Cr薄膜为研究对象,分析了电场环境对纯Cr薄膜微观组织结构的影响规律;结合溅射沉积和薄膜生长原理揭示了电场环境对纯Cr薄膜沉积过程的内在机理;探讨了磁控溅射离子镀技术在工程材料的纳米化和非晶化进程中应有的功能,以期为纳米材料的研发及其制备技术的创新提供参考依据。

弧电流对多弧离子镀纯Cr涂层组织性能的影响

采用多弧离子镀技术在锆合金表面制备了纯Cr涂层。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和划痕仪分析了弧电流对纯Cr涂层表面形貌、物相结构以及膜基结合力的影响,并采用Image J图像处理软件对纯Cr涂层表面大颗粒分布进行统计和分析。结果表明,随着弧电流的增大,纯Cr涂层表面大颗粒尺寸先增大后减小,单位面积内大颗粒数目则先减少后增多,同时纯Cr涂层的择优生长趋势由(110)晶面变为(200)晶面,且纯Cr涂层与锆合金基材的膜基结合力先减小后增大。

伪复空型的一般CR-积

主要研究伪复空型的一般子流形的分解问题。

CeO_2对纯铜表面料浆包渗Cr-Al渗层组织和耐磨性能的影响

采用浆料包渗法,以Cr2O3粉为渗Cr源,纯Al粉为还原剂,NH4Cl为活化剂,Al2O3为惰性添加剂,蛋白质(鸡蛋清)为粘结剂,在纯Cu表面预先镀Ni,随后表面浆料包渗Cr、Al,制备Cr、Al共渗层;研究稀土氧化物CeO2含量对Cr、Al渗层显微组织和耐磨性能的影响。采用SEM和XRD测定渗层的表面形貌和结构。结果表明:添加稀土氧化物CeO2后,渗层表面显微组织产生明显变化,颗粒由大变小,渗层变致密,组织由单一的Ni(Cr、Al)固溶体转变为由Ni3Al相和固溶体混合组成;随着稀土氧化物CeO2含量的增加,固溶体中Cr含量先增后减,渗层的摩擦因数先降后升,最小摩擦因数为纯铜的1/3。

2.25Cr-1Mo-0.25V纯净钢的冶炼及效果

分析了2.25Cr-1Mo-0.25V纯净钢的冶炼难点,同时对低硅钢的冶炼工艺进行了深入的分析研究,提出了采用钢包炉用铝预脱氧并进行VD的冶炼工艺方案和真空浇注过程中严密保护防止二次氧化的工艺思路,并制作了中间包双气封保护装置,实际使用效果十分理想,所炼钢的质量达到了纯净钢的要求。

SiC/Co-Cr体系的润湿性研究

采用座滴法研究了反应烧结SiC/Co-Cr体系的润湿性。与反应烧结SiC/纯Co体系进行对比,研究了Cr含量、实验温度和保温时间对润湿角的影响及活性元素的作用。结果表明,加入适量的活性元素Cr能够显著提高体系的润湿性。当体系的Cr含量分别为5%,7%和42%时,体系的润湿角较小,润湿性比较好。SiC/Co-Cr体系和SiC/纯Co体系的润湿过程均属于反应性润湿,实验温度和保温时间对体系的润湿角影响较大。微观结构研究和XRD分析表明,对于SiC/纯Co体系,界面区域发生了化学反应,生成了CoSi,减小了润湿角。加入活性元素Cr以后,由于Cr元素与基体发生反应,生成Cr23C6,进一步降低了体系的界面能,提高了润湿性。

ICP-MS法测定氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质

研究了直接采用ICP-MS的等离子体屏蔽技术(PS)测定高纯氢氧化钽中Mg,Fe,Cr,Zn 4种杂质元素的分析方法。实验了的仪器工作参数,用Co做内标补偿基体效应,方法的回收率在80%～130%之间,相对标准偏差均低于18.40%,检出限为0.01ng/ml～0.56ng/ml,测定结果与ICP-AES测定结果基本一致。

ICP-AES法同时测定纯铁中八种杂质元素

本文研究了用ＩＣＰ－ＡＥＳ法同时测定纯铁中８种杂质元素：Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｖ的分析方法。研究了铁基体元素对被测元素光谱线的光谱干扰与物理干扰，采用背景扣除法与基体匹配法进行校正。被测元素的检出限为０．４－３．０μｇ／Ｌ，合成试样的回收率为９１％－１１０％，杂质元素含量为０．０００３％－０．０５％时，测量的相对标准偏差＜９％。方法简便、准确、结果满意。

氯离子对2种牙科常用合金耐腐蚀性的影响

目的:在模拟口腔环境下,探讨氯离子对钴铬合金和纯钛耐腐蚀性的影响。方法:通过对两种合金在不同NaCl(0.9%,2.0%,3.0%)浓度的中性人工唾液中进行电化学腐蚀指标测试并结合扫描电镜(SEM)扫描,观察其表面形貌。结果:钴铬合金和纯钛在三种人工唾液中的自腐蚀电位(Ecorr)的变化趋势无明显规律性,但是纯钛的自腐蚀电流密度(Icorr)明显小于钴铬合金。钴铬合金的自腐蚀电流密度随NaCl浓度的升高而增大,破裂电位值随NaCl浓度的升高而降低,氧化膜阳极破裂前的电位区间随NaCl浓度的升高而降低。纯钛的自腐蚀电流密度随Na Cl浓度的升高基本无变化,并且所有纯钛试件的极化曲线均未出现破裂电位。结论:在一定范围内,氯离子浓度的升高会导致钴铬合金腐蚀加速,而对纯钛的耐腐性无明显影响。

纳米非晶金刚石薄膜与纯钛及钴铬合金表面结合强度的研究

目的:研究纳米非晶金刚石薄膜与纯钛及钴铬合金表面结合强度以及镀膜厚度对结合强度的影响。方法:制备钴铬合金和纯钛圆片试件各20个,将纯钛与钴铬合金试件随机分成a1、b1及a2、b2各两组。a1、a2组试件表面镀膜膜厚50nm;b1、b2组试件表面镀膜膜厚100nm。采用薄膜结合强度测试仪测试镀膜后试件的膜/基结合强度(Lc)。结果:a1、b1两组以及a2、b2两组Lc均存在显著性差异(P<0.05);膜厚相同时,纯钛和钴铬合金试件Lc之间也存在显著性差异(P<0.05)。结论:纳米非晶金刚石薄膜可以与纯钛及钴铬合金材料达到较好的结合;膜厚相同时,纳米非晶金刚石薄膜与纯钛表面的结合强度优于钴铬合金;镀膜厚度对纳米非晶金刚石薄膜与纯钛及钴铬合金的结合强度有明显影响,因此在镀膜时应选择适宜的膜厚。

VIM法熔炼航空用奥氏体不锈钢的工艺探讨

为提高航空用奥氏体不锈钢1Cr18Ni9Ti的纯净度,使用真空感应炉熔炼(VIM),对1Cr18Ni9Ti的冶炼工艺进行了研究,结果表明:控制Cr/Ni≤1.80,7.7≤Ti/C≤15.5,Al<0.10%,可以避免晶间腐蚀发生,并且可以减少管材开裂,提高热塑性。所生产的钢的纯净度可以满足[O]+[H]+[N]<36×10-6。

纯钛和钴铬合金铸造基托在口腔修复中的应用

目的比较纯钛铸造基托和钴铬合金铸造基托在口腔修复中的临床疗效，探讨纯钛铸造基托义齿的临床应用价值。方法采用纯钛及钴铬合金铸造基托分别修复上颌肯氏Ⅰ类或Ⅱ类缺失患者各32例（纯钛组及钴铬合金组），检测并比较两组患者备牙前及戴牙后1、3个月义齿承托区黏膜面可培养细菌总量、可培养细菌分布情况以及义齿承托区黏膜的炎症情况。结果（1）钴铬合金组戴牙后3个月义齿承托区可培养细菌总量均显著多于备牙前及戴牙后1个月（均P〈0.01），而且戴牙后3个月钴铬合金组义齿承托区可培养细菌总量显著对于纯钛组（P〈0.01）。（2）纯钛组戴牙后3个月及钴铬合金组戴牙后1个月和3个月，黏膜链球菌、乳酸杆菌、放线菌及白色念珠菌均较备牙前显著增多（均P〈0.01），奈瑟菌显著减少（P〈0.01）；在戴牙后1个月和3个月两个时点，纯钛组链球菌、放线菌、乳酸杆菌、白色念珠菌、奈瑟菌均较钴铬合金组显著减少（均P〈0.01）。（3）钴铬合金组戴牙后1个月发生黏膜义齿性口炎2例（＋），戴牙后3个月发生6例（＋）、2例（＋＋）；而纯钛组仅戴牙后3个月2例发生黏膜义齿性口炎（＋），两组患者黏膜义齿性口炎发生率差异显著（P〈0.01），尤其在戴牙后3个月钻铬合金组较严重黏膜义齿性口炎的发生率显著高于纯钛组（P〈0.01）。结论纯钛具有良好的机械性能和生物学性能，不会影响口腔微生物的的生长及定植，可以防止微生态失调导致新的并发症出现，是一种较为理想的口腔缺损金属修复体。

基于纯不连续马尔可夫过程的频谱感知研究

为解决在连续时间观测条件下认知无线电(CR:Cognitive Radio)频谱感知的问题,提出一种在纯不连续马尔可夫过程中的频谱感知方法。信道状态在任意时刻可分为空闲和忙碌两种状态,同时借助纯不连续马尔可夫过程在任意时刻停留的时间服从指数分布性质和富克-普朗克方程,导出此类过程的状态转移矩阵,主用户的累计占用时间和主用户在时间域上的分布情况。仿真结果表明,该方法能较好地完成对信道状态进行预测和对主用户状态进行跟踪的任务。

纯钛合金与钴铬合金支架式可摘局部义齿修复对牙列缺损患者咀嚼功能的影响

目的探究纯钛合金与钴铬合金支架式可摘局部义齿修复对牙列缺损患者咀嚼功能的影响。方法选取2016年6月至2020年1月于本院进行义齿修复的71例牙列缺损患者作为研究对象,按患者所选的支架类型分为纯钛组(n=34,义齿数408颗)与钴铬组(n=37,义齿数333颗)。纯钛组采用纯钛合金支架式可摘局部义齿修复,钴铬组采取钴铬合金支架式可摘局部义齿进行修复,比较两组义齿修复情况、不良反应发生率及满意度。结果纯钛组义齿就位率及咀嚼效率均明显高于钴铬组,调整率明显低于钴铬组,差异有统计学意义(P<0.05)。纯钛组不良反应发生率为9.80%,明显低于钴铬组的15.02%,差异有统计学意义(P<0.05)。两组义齿美观度比较差异无统计学意义;纯钛组固定功能、发音功能及舒适度等满意度均明显高于钴铬组,差异有统计学意义(P<0.05)。结论纯钛合金支架式可摘局部义齿修复牙列缺损效果明显,可有效提高患者咀嚼效率,降低患者不良反应发生率,患者满意度高,值得临床推广应用。

义齿清洁剂对3种活动义齿铸造支架常用金属腐蚀作用的研究

目的以电化学方法比较义齿清洁剂对活动义齿铸造用金属钴铬合金、钴铬钼合金、纯钛的腐蚀破坏程度。方法 2016年4—8月于南方医科大学深圳口腔医院将钴铬合金、钴铬钼合金、纯钛3种试件各10件分别浸泡于义齿清洁剂保丽净以及对照组自来水中。通过电化学线性扫描技术获得Tafel曲线,比较腐蚀电位(E_(corr))、腐蚀电流(I_(corr));以场发射扫描电镜观察金属表面形貌的变化,并对结果进行统计分析。结果纯钛在对照组自来水中的E_(corr)最正为(160.677±18.606)m V,在实验组清洁剂中的I_(corr)最小为(25.535±14.738)A,钴铬合金在清洁剂中的E_(corr)最负为(-72.933±15.367)mV,在自来水中I_(corr)最大为(98.199±17.421)A,3种材料间的E_(corr)、I_(corr)差异有统计学意义(P=0.000)。各合金在义齿清洁剂中的E_(corr)小于对照组(P=0.006),I_(corr)差异无统计学意义(P=0.361)。扫描电镜显示:腐蚀后,3种金属表面形貌均有差异,钴铬合金表面腐蚀凹陷较多,纯钛较少。结论钴铬合金在溶液中的腐蚀倾向最大,钴铬钼合金较小,纯钛最稳定。义齿清洁剂对支架金属的腐蚀性大于自来水。

占空比对多弧离子镀纯Cr涂层表面形貌的影响

利用多弧离子镀技术于不同的占空比条件下在锆合金表面制备出纯Cr涂层,采用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)分析了纯Cr涂层表面形貌和择优生长取向的变化规律,并利用Image J软件对纯Cr涂层表面的孔隙率进行分析。结果表明:占空比的改变显著影响着纯Cr涂层的微观形貌、择优生长取向和孔隙率。随着占空比的增大,纯Cr涂层的表面大颗粒数目和孔隙率逐渐减少,表面形貌得到改善,同时纯Cr涂层晶体择优生长趋势由(110)晶面转向(200)晶面。