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Radiation-induced 1/f noise degradation of PNP bipolar junction transistors at different dose rates 被引量:1
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作者 赵启凤 庄奕琪 +1 位作者 包军林 胡为 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第4期261-267,共7页
It is found that ionizing-radiation can lead to the base current and the 1/f noise degradations in PNP bipolar junction transistors. In this paper, it is suggested that the surface of the space charge region of the em... It is found that ionizing-radiation can lead to the base current and the 1/f noise degradations in PNP bipolar junction transistors. In this paper, it is suggested that the surface of the space charge region of the emitter-base junction is the main source of the base surface 1/f noise. A model is developed which identifies the parameters and describes their interactive contributions to the recombination current at the surface of the space charge region. Based on the theory of carrier number fluctuation and the model of surface recombination current, a 1/f noise model is developed. This model suggests that 1/f noise degradations are the result of the accumulation of oxide-trapped charges and interface states. Combining models of ELDRS, this model can explain the reason why the 1/f noise degradation is more severe at a low dose rate than at a high dose rate. The radiations were performed in a Co60 source up to a total dose of 700 Gy(Si). The low dose rate was 0.001 Gy(Si)/s and the high dose rate was 0.1 Gy(Si)/s. The model accords well with the experimental results. 展开更多
关键词 radiation 1/f noise bipolar junction transistors
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Radiation-induced 1/f noise degradation of bipolar linear voltage regulator
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作者 赵启凤 庄奕琪 +1 位作者 包军林 胡为 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2016年第3期53-57,共5页
Radiation-induced 1/f noise degradation in the LM117 bipolar linear voltage regulator is studied. Based on the radiation-induced degradation mechanism of the output voltage, it is suggested that the band-gap reference... Radiation-induced 1/f noise degradation in the LM117 bipolar linear voltage regulator is studied. Based on the radiation-induced degradation mechanism of the output voltage, it is suggested that the band-gap reference subcircuit is the critical component which leads to the 1/f noise degradation of the LM117. The radiation makes the base surface current of the bipolar junction transistors of the band-gap reference subcircuit increase, which leads to an increase in the output 1/f noise of the LM117. Compared to the output voltage, the 1/f noise parameter is more sensitive, it may be used to evaluate the radiation resistance capability of LM117. 展开更多
关键词 radiation bipolar linear voltage regulator 1/f noise degradation
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DPSA双极器件中的1/f噪声特性研究
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作者 邱盛 夏世琴 +1 位作者 邓丽 张培健 《微电子学》 CAS 北大核心 2021年第6期929-932,共4页
在现代高性能模拟集成电路设计中,噪声水平是影响电路性能的关键因素之一。研究了双多晶自对准高速互补双极NPN器件中发射极结构对器件直流和低频噪声性能的影响。实验结果表明,多晶硅发射极与单晶硅界面超薄氧化层以及发射极几何结构... 在现代高性能模拟集成电路设计中,噪声水平是影响电路性能的关键因素之一。研究了双多晶自对准高速互补双极NPN器件中发射极结构对器件直流和低频噪声性能的影响。实验结果表明,多晶硅发射极与单晶硅界面超薄氧化层以及发射极几何结构是影响多晶硅发射极双极器件噪声性能的主要因素。 展开更多
关键词 1/f噪声 双极器件 界面氧化层
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双极晶体管的新的1/f 噪声参数
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作者 方如章 A.C.Young A.VanderZiel 《华东工学院学报》 CSCD 1990年第4期12-17,共6页
文中引入一个新的描述1/f 噪声的重要参数β_H,并给出了双极晶体管1/f 噪声的实验结果。通过对结果的分析比较提出了三个论点:(1)单用 Hooge 参数α_H 不能恰当地反映1/f 噪声的大小,而用α_H 同载流子扩散时间τ_d 的比值比较合适;(2)... 文中引入一个新的描述1/f 噪声的重要参数β_H,并给出了双极晶体管1/f 噪声的实验结果。通过对结果的分析比较提出了三个论点:(1)单用 Hooge 参数α_H 不能恰当地反映1/f 噪声的大小,而用α_H 同载流子扩散时间τ_d 的比值比较合适;(2)收集极1/f 噪声电流谱的大小可用转换频率 f_c 来表示,即有 S_(Ic)(f)-S_(Ic)(∞)=2eI_cf_c/f;(3)转换频率 f_c 决定了1/f 噪声的大小;而 fc 仅由噪声参数β_H 所决定。 展开更多
关键词 双极晶体管 噪声 1/f噪声
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基于1/f噪声变化的pn结二极管辐射效应退化机理研究 被引量:3
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作者 孙鹏 杜磊 +3 位作者 何亮 陈文豪 刘玉栋 赵瑛 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期534-540,共7页
基于pn结二极管辐射效应退化机理中位移效应和电离效应之间的关系,并结合pn结二极管辐射退化的噪声机理,得到了pn结二极管辐射诱导低频噪声的变化规律,发现两种效应引起的二极管噪声变化规律之间的不一致性.根据实验得到的噪声变化规律... 基于pn结二极管辐射效应退化机理中位移效应和电离效应之间的关系,并结合pn结二极管辐射退化的噪声机理,得到了pn结二极管辐射诱导低频噪声的变化规律,发现两种效应引起的二极管噪声变化规律之间的不一致性.根据实验得到的噪声变化规律,判断出了辐射应力条件下两种效应之间的关系,很好地解释了实验中出现的不符合原有理论解释的现象,对器件加固的研究有着重要意义. 展开更多
关键词 PN结 辐照损伤 1/f噪声 损伤
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锑基异质结晶体管的总剂量效应和低剂量率损伤增强效应
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作者 杨桂霞 庞元龙 +2 位作者 王晓东 徐家云 蒋洞微 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2021年第2期124-130,共7页
锑化物异质结晶体管是新型的高速低功率电子器件,航天上具有良好的应用前景,但是对其耐辐照能力的研究并不深入。本文利用低频噪声和霍尔效应首次研究了分子束外延生长的锑基异质结晶体管在1.95×10^(-1) Gy·s^(-1)和1.50×... 锑化物异质结晶体管是新型的高速低功率电子器件,航天上具有良好的应用前景,但是对其耐辐照能力的研究并不深入。本文利用低频噪声和霍尔效应首次研究了分子束外延生长的锑基异质结晶体管在1.95×10^(-1) Gy·s^(-1)和1.50×10^(-2) Gy·s^(-1)低剂量率下的γ辐照效应。结果显示,在300 Gy(Si)~1500 Gy(Si)总吸收剂量范围内,表征缺陷浓度的噪声功率谱密度较之辐照前变小,辐照前后噪声功率谱密度差值随着吸收剂量的增大而缓慢增大,噪声功率谱密度、载流子迁移率和载流子浓度在不同的吸收剂量率之间没有明显差异。上述结果表明γ辐照下锑基异质结晶体管未表现出明显低剂量率损伤增强效应,虽然存在微弱的总剂量效应,但是总体而言γ辐射使得锑基异质结晶体管性能变得更为优良,其载流子迁移率较之辐照前增大了1.35%~6.48%,载流子浓度较之辐照前增大了1.43%~6.88%。 展开更多
关键词 分子束外延 1/f噪声 总剂量效应 低剂量率损伤增强效应 异质结双极晶体管
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基于辐照前1/f噪声的金属-氧化物-半导体场效应晶体管辐照退化模型 被引量:5
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作者 彭绍泉 杜磊 +3 位作者 庄奕琪 包军林 何亮 陈伟华 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第8期5205-5211,共7页
基于金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)噪声的载流子数涨落和迁移率涨落理论,建立了MOSFET辐照前1/f噪声参量与辐照后分别由氧化层陷阱和界面陷阱诱使阈值电压漂移之间的定量数学模型,并通过实验予以验证.研究结果表明,辐照诱生... 基于金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)噪声的载流子数涨落和迁移率涨落理论,建立了MOSFET辐照前1/f噪声参量与辐照后分别由氧化层陷阱和界面陷阱诱使阈值电压漂移之间的定量数学模型,并通过实验予以验证.研究结果表明,辐照诱生的氧化层陷阱通过俘获和发射过程与沟道交换载流子,在引起载流子数涨落的同时也通过库仑散射导致沟道迁移率的涨落,因此辐照前的1/f噪声幅值正比于辐照诱生的氧化层陷阱数.利用该模型对MOSFET辐照前1/f噪声与辐照退化的相关性从理论上进行了解释,同时也为MOSFET抗辐照能力预测提供理论依据. 展开更多
关键词 1/f噪声 辐照 金属-氧化物-半导体场效应晶体管 陷阱
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低温、低频双极晶体管的噪声分析
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作者 杨拥军 《半导体情报》 1996年第3期23-29,共7页
建立了低温双极晶体管的低频噪声模型,对低温、低频双极晶体管的噪声进行了分析,并给出了噪声电压随工作温度、工作电流以及频率的三维变化曲线,指出了双极晶体管获得最小噪声的最佳工作温度和最佳工作电流。通过对低温双极晶体管的... 建立了低温双极晶体管的低频噪声模型,对低温、低频双极晶体管的噪声进行了分析,并给出了噪声电压随工作温度、工作电流以及频率的三维变化曲线,指出了双极晶体管获得最小噪声的最佳工作温度和最佳工作电流。通过对低温双极晶体管的CAT噪声测试,证明了我们的噪声分析结果。 展开更多
关键词 低温 低频 低噪声 1/f噪声 双极晶体管
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工作在液氮温度下的低频低噪声双极晶体管的研究 被引量:2
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作者 杨拥军 王长河 白淑华 《半导体情报》 1995年第3期8-15,共8页
对双极晶体管的低温物理模型和低频噪声模型进行了研究,认为低温下硅双极晶体管电流增益下降的主要原因是低温下非理想基极电流的增加。同时指出,低温下硅双极晶体管1/f噪声的增大,是由于低温下电流增益的减小和载流子在体内和表... 对双极晶体管的低温物理模型和低频噪声模型进行了研究,认为低温下硅双极晶体管电流增益下降的主要原因是低温下非理想基极电流的增加。同时指出,低温下硅双极晶体管1/f噪声的增大,是由于低温下电流增益的减小和载流子在体内和表面的复合增加。通过优化设计,做出了一种低温、低频、低噪声硅双极晶体管。测试表明,在室温(300K)下,电流增益、低频转折频率、1kHz点的噪声电压分别为β≥800,f_L≤30Hz,En(1kHz)≤1.5nV/  ;低温(77K)下,电流增益、低频转折频率、1kHz点的噪声电压分别为β≥30,f_L≤300Hz,En(1kHz)≤1.2nV/。 展开更多
关键词 低频 低噪声 1/f噪声 双极晶体管
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