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题名基于跳频的自适应频谱共享方案
被引量:11
- 1
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作者
刘琪
苏伟
李承恕
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机构
清华大学电子工程系信息网络与复杂工程系统实验室
北京交通大学电子信息工程学院
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出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第1期105-110,116,共7页
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基金
国家973重点基础研究发展规划(No.2007CB307105)
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文摘
本文针对异种网络之间的频谱共享问题,提出了基于跳频的自适应频谱共享方案.该方案中,频谱注册网络负责配置跳频频率表等跳频参数,并且将其在覆盖区域内广播.频谱共享网络中的可重构终端(CR-MTs)使用认知无线电(CR)技术对周围频谱进行监测,通过跳频频谱共享策略实现通信.本文设计了跳频频谱共享的信号发射模型和信令交换机制,提出了不同情况下的干扰避免(IA)策略.最后,对跳频频谱共享方案的性能进行了分析,基于干扰计算模型得到的仿真结果表明该方案具有较好的IA性能.
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关键词
频谱共享
干扰避免
跳频
认知无线电
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Keywords
spectrum sharing interference avoidance(IA) frequency hopping(FH) cognitive radio(CR)
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分类号
TN929
[电子电信—通信与信息系统]
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题名干扰避免的认知无线电图着色频谱分配算法
被引量:1
- 2
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作者
章坚武
赵琪
邹婧媛
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机构
杭州电子科技大学通信工程学院
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出处
《科技通报》
北大核心
2010年第2期240-244,共5页
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基金
浙江省自然科学基金人才项目资助(No.R105473)
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文摘
对传统的认知无线电图着色频谱分配算法进行了改进。在分配过程中动态更新干扰矩阵,使更多节点共享同一频段而不相互干扰,以此提高频谱利用率,对授权用户的干扰也可通过发射功率门限的设置来避免。在此基础上算法以最大化认知网络吞吐量为优化目标,仿真结果表明,采用新算法后,在无干扰条件下的网络吞吐量和信道传输速率都明显高于同类算法。
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关键词
认知无线电
干扰避免
吞吐量
算法
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Keywords
cognitive radio
interference avoidance
throughput
algorithm.
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分类号
TN277
[电子电信—物理电子学]
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题名射电望远镜远场区域强干扰源规避方法研究
被引量:4
- 3
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作者
李欢
刘奇
王娜
蔡明辉
王玥
朱春花
苏晓明
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机构
新疆大学物理科学与技术学院
中国科学院新疆天文台
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出处
《天文学报》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第6期29-38,共10页
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基金
新疆维吾尔自治区自然科学基金项目(2021D01E07)
国家自然科学基金项目(11973077)
+1 种基金
中国科学院“西部之光”人才培养引进计划(2019-XBQNXZ-B-020)
中国科学院天文台站设备更新及重大仪器设备运行专项经费资助。
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文摘
随着频率使用率的提高,射电天文台址地面或空间存在强电磁干扰致使望远镜接收机系统处于非线性状态.为减少强电磁干扰的影响、提高天文观测效率,提出了一种基于望远镜远场区域的强干扰源规避方法.首先,通过仿真分析确定的射电望远镜远场方向图,结合望远镜与干扰源之间的位置关系,分析了强电磁干扰到达射电望远镜焦点处的功率响应,并依据接收机第2阶中频放大器性能参数,确定射电望远镜处于非饱和状态的规避角度计算方法.其次,采用该方法计算分析了民航飞机对射电望远镜的影响,若民航飞机上有主动发射的干扰源,且不经过反射等传播现象,当射电望远镜主波束轴偏开一定方向后,可有效降低对射电望远镜的干扰强度.
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关键词
射频干扰
远场
强干扰源
规避方法
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Keywords
radio frequency interference(RFI)
far field
strong RFI
avoidance method
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分类号
P112
[天文地球—天文学]
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题名基于变换域设计的抗干扰无线传输技术
- 4
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作者
康桂华
陈文芳
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机构
河海大学计算机及信息工程学院
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出处
《河海大学常州分校学报》
2007年第4期13-16,82,共5页
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基金
河海大学常州校区博士启动基金资助项目(2004XZX/04B006-06)
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文摘
论述了基于变换域设计(TDD)的抗干扰技术的基本原理,详细给出了基于DFT设计的抗干扰系统的实现方案.在给定的干扰条件下,对该系统进行了仿真实验.实验结果表明:基于DFT的TDD系统的抗干扰性能优于基于DWT的TDD系统;与DS-SS系统和无抗干扰措施系统相比,抗干扰性能得到了明显的提高.
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关键词
变换域设计
抗干扰
频谱管理
认知无线电
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Keywords
transform- domain design
interference- avoiding
spectrum management
cognitive radio
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分类号
TN919.3
[电子电信—通信与信息系统]
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题名表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:5
- 5
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作者
董启明
郭小伟
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机构
电子科技大学光电信息学院
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
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基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
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文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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Keywords
interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very fine period and only suitable for small-area interference.To avoid the fabrication of the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations of the parameters are allowed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two beams by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense electromagnetic fields confined to the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,plasma waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名常见的无线电干扰及其规避措施探讨
被引量:3
- 6
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作者
先巴才旦
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机构
青海海西无线电管理处
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出处
《通信技术》
2012年第10期27-29,共3页
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文摘
无线电干扰查处工作,是无线电管理工作中的一项重要的任务,作为无线电管理工作者对监测设备的工作原理、功能、技术性能、指标要深刻领会理解,要求掌握电磁环境随地形、频率、天气、距离等外部条件的变化规律。掌握各类干扰的成因及其规避措施,是有效降低无线电干扰发生率的主要途径。如何科学有效地规避频率间的干扰,介绍常见的无线电干扰类型、特征、危害性及其抑制干扰采取的措施。
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关键词
无线电干扰
规避措施
探讨
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Keywords
radio interference: avoidance: exploration
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分类号
TN918
[电子电信—通信与信息系统]
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