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IC互连金属及其阻挡层化学机械抛光的研究进展
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作者 李雯浩宇 高宝红 +3 位作者 霍金向 贺斌 梁斌 刘鸣瑜 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第16期228-235,共8页
集成电路的产业发展作为衡量一个国家经济实力的重要指标,反映该国的整体实力。在集成电路的众多制备工艺中,化学机械抛光(Chemical mechanical planarization,CMP)是关键制造技术之一,也是目前应用最广且能够实现全局和局部平坦化的技... 集成电路的产业发展作为衡量一个国家经济实力的重要指标,反映该国的整体实力。在集成电路的众多制备工艺中,化学机械抛光(Chemical mechanical planarization,CMP)是关键制造技术之一,也是目前应用最广且能够实现全局和局部平坦化的技术。互连技术与CMP紧密相关,芯片互连属于后段制程,目前的互连技术主要包括铜互连、钴互连,在使用这些互连技术时不可避免地会影响芯片的性能,包括金属离子扩散速率快、薄膜与衬底的结合强度差等,学者们通过加入阻挡层来解决这些问题。互连金属和阻挡层都要进行CMP工序,它直接决定芯片良率和可靠性。本文总结了互连金属及其阻挡层化学机械抛光的研究进展,以技术节点出发介绍了三种典型的互连金属以及它们常用的阻挡层材料,分析总结了各种材料的抛光机理、抛光液组分、抛光效果及其材料的应用优势与缺陷,简述了在CMP互连与阻挡层的研究中存在的局限性,最后对新的材料、新型互连技术的研发及应用进行了展望。 展开更多
关键词 铜互连 钴互连 钌互连 钽/氮化钽阻挡层 钴阻挡层 钌阻挡层 化学机械抛光
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海水浸泡对表皮屏障影响的超微结构观察及其机制研究 被引量:4
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作者 姜少军 潘敏鸿 +2 位作者 吴晋蓉 刘晓红 周晓军 《医学研究生学报》 CAS 2007年第8期812-815,共4页
目的:探讨海水浸泡对裸鼠表皮屏障功能的影响及其意义。方法:成年雄性裸鼠随机分为4个组,分别浸泡0、3、6和12 h,标本分别经锇酸和四氧化钌固定,在电镜下观察海水浸泡后裸鼠表皮角质层损伤的变化规律。结果:表皮经海水浸泡后,角质层结... 目的:探讨海水浸泡对裸鼠表皮屏障功能的影响及其意义。方法:成年雄性裸鼠随机分为4个组,分别浸泡0、3、6和12 h,标本分别经锇酸和四氧化钌固定,在电镜下观察海水浸泡后裸鼠表皮角质层损伤的变化规律。结果:表皮经海水浸泡后,角质层结构发生改变,表现为上部角质细胞间空腔形成,角质细胞剥脱;四氧化钌固定后的标本显示角质层脂质结构也发生了改变,表现为角质细胞间隙中出现异常的排列紊乱的絮凝块状电子致密或透明物质,脂质膜状结构异常并在膜结构间形成腔隙,上述改变随浸泡时间的延长其变化愈明显。结论:海水浸泡可引起表皮角质层脂质超微结构的改变从而导致表皮屏障的损伤,本实验结果可为海战训练以及长期海上作业或渔业生产的防护有一定的指导意义。 展开更多
关键词 海水 角质层脂质 超微结构 屏障功能 四氧化钌
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二氧化碳插入单氢钌配合物反应中的水效应研究 被引量:4
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作者 尹传奇 吴少文 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第5期666-670,共5页
分别研究了在干燥THF及H2 O/THF条件下CO2 与TpRu(PPh3 ) (CH3 CN)H [Tp =Hydrotris(pyrazolyl)borate]的反应 ,发现水对CO2 插入TpRu(PPh3 ) (CH3 CN)H的反应具有显著促进作用 .原位高压1H ,3 1P和13 C核磁共振研究显示 ,在水存在下 ,C... 分别研究了在干燥THF及H2 O/THF条件下CO2 与TpRu(PPh3 ) (CH3 CN)H [Tp =Hydrotris(pyrazolyl)borate]的反应 ,发现水对CO2 插入TpRu(PPh3 ) (CH3 CN)H的反应具有显著促进作用 .原位高压1H ,3 1P和13 C核磁共振研究显示 ,在水存在下 ,CO2 插入Ru—H键形成水合甲酸盐配合物TpRu(PPh3 ) (CH3 CN) ( η1 OCHO)·H2 O ,其中甲酸盐配体与溶剂中水分子形成分子间氢键 .在B3LYP水平上的密度泛涵理论计算表明 ,在过渡态 ,CO2 分子中碳原子的亲电性由于其氧原子与水分子形成氢键而得到增强 ,进而显著降低CO2 插入TpRu(PPh3 ) (CH3 CN)H中Ru—H键的活化能 .TpRu(PPh3 ) (CH3 CN) ( η1 OCHO)·H2 O很快部分转化为另一甲酸盐配合物TpRu(PPh3 ) (H2 O) ( η1 OCHO) ,二者最后达成平衡 。 展开更多
关键词 二氧化碳 单氢钌配合物 水效应 甲酸盐钌配合物 亲电性 氢健 后过渡态 能垒 密度泛涵理论
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裸鼠表皮角质层超微结构观察 被引量:4
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作者 张焱 周晓军 +1 位作者 孙桂勤 姜少军 《医学研究生学报》 CAS 2003年第9期656-658,共3页
目的 :观察皮肤角质细胞间脂质的形态结构。 方法 :裸鼠表皮分别用四氧化钌和锇酸固定后电镜下观察裸鼠表皮角质层脂质的超微结构。 结果 :经四氧化钌和锇酸固定后的标本均能显示表皮颗粒层中被膜颗粒的结构 ,但分泌于角质层与颗粒层... 目的 :观察皮肤角质细胞间脂质的形态结构。 方法 :裸鼠表皮分别用四氧化钌和锇酸固定后电镜下观察裸鼠表皮角质层脂质的超微结构。 结果 :经四氧化钌和锇酸固定后的标本均能显示表皮颗粒层中被膜颗粒的结构 ,但分泌于角质层与颗粒层之间的被膜颗粒内含物 ,特别是角质细胞间脂质的膜状结构 ,只能用四氧化钌固定后才能观察到。 结论 :角质层脂质以其独特的结构组合分布于角质细胞间隙之中。另外 。 展开更多
关键词 被膜颗粒 角质层脂质 表皮屏障 四氧化钌 超微结构
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不同抑制剂对铜图形片化学机械抛光后碟形坑及蚀坑的影响 被引量:2
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作者 张雪 周建伟 +1 位作者 王辰伟 王超 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2020年第22期1545-1549,共5页
研究了苯并三氮唑(BTA)、1,2,4−三氮唑(TAZ)和2,2′−{[(甲基−1H−苯并三唑−1−基)甲基]亚氨基}双乙醇(TT)3种不同抑制剂对铜互连Ru/TaN阻挡层图形片化学机械抛光(CMP)后碟形坑及蚀坑的影响。静态腐蚀实验结果表明,BTA与TT能够较好地抑制... 研究了苯并三氮唑(BTA)、1,2,4−三氮唑(TAZ)和2,2′−{[(甲基−1H−苯并三唑−1−基)甲基]亚氨基}双乙醇(TT)3种不同抑制剂对铜互连Ru/TaN阻挡层图形片化学机械抛光(CMP)后碟形坑及蚀坑的影响。静态腐蚀实验结果表明,BTA与TT能够较好地抑制铜的腐蚀,TAZ的抑制作用相对较弱。铜图形片CMP的结果表明,BTA和TT钝化能力强,仅1 mmol/L的用量即可较好地修正各种线宽/线间距的碟形坑及蚀坑。对于线宽/线间距为100μm/100μm和50μm/50μm的碟形坑,用BTA时修正了约1500Å,用TT时修正了约1900Å,而用TAZ时仅修正了约500Å。其平坦化机理为BTA和TT能够与铜形成Cu-TT和Cu-BTA钝化膜吸附在铜表面,阻挡了Cu的进一步腐蚀。 展开更多
关键词 钌/氮化钽阻挡层 化学机械抛光 铜图形片 静态腐蚀 碟形坑 蚀坑
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Effect of Pretreatment of TaN Substrates on Atomic Layer Deposition Growth of Ru Thin Films
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作者 周觅 陈韬 +4 位作者 谭晶晶 茹国平 蒋玉龙 高冉 屈新萍 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2007年第5期1400-1402,共3页
The polycrystalline ruthenium films are grown on TaN substrates by atomic layer deposition (ALD) using bis(cyclopentadienyl) ruthenium [RuCp2] and oxygen as ruthenium precursor and reactant respectively at a depos... The polycrystalline ruthenium films are grown on TaN substrates by atomic layer deposition (ALD) using bis(cyclopentadienyl) ruthenium [RuCp2] and oxygen as ruthenium precursor and reactant respectively at a deposition temperature of 330℃. The low-energy Ar ion bombardment and Ru pre-deposition are performed to the underlying TaN substrates before ALD process in order to improve the Ru nucleation. X-ray diffraction, x-ray photoelectron spectroscopy, scanning electron microscopy and atomic force microscopy are carried out to characterize the properties of ALD Ru films. The results show that the nucleation density of Ru films with Ar^+ bombardment to the underlying TaN substrates is much higher than that of the ones without any pretreatment. The possible reasons are discussed. 展开更多
关键词 CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION ruthenium FILMS NANOSTRUCTURE barrier
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Effects of the mitochondrial calcium uniporter on cerebral edema in a rat model of cerebral ischemia reperfusion injury 被引量:4
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作者 Linlin Li Shilei Wang Haihong Luan 《Neural Regeneration Research》 SCIE CAS CSCD 2011年第22期1720-1724,共5页
The present study investigated the effects of the mitochondrial calcium uniporter inhibitor ruthenium red and the agonist spermine on cerebral edema in rats with cerebral ischemia reperfusion injury. Left middle cereb... The present study investigated the effects of the mitochondrial calcium uniporter inhibitor ruthenium red and the agonist spermine on cerebral edema in rats with cerebral ischemia reperfusion injury. Left middle cerebral artery occlusion (MCAO) was induced in rats using the suture method. Following 24 hours of ischemic reperfusion, neurological function scores of rats with MCAO, and rats pretreated with ruthenium red and spermine were significantly lower, however, water content of brain tissue, aquaporin 4 expression and immunoglobulin G (IgG) exudation were significantly higher than those of sham-operated rats. Compared with MCAO rats and spermine-treated rats, neurological function scores were considerably higher, and brain tissue water content, aquaporin 4 expression and IgG exudation decreased in ruthenium red-treated rats. These findings suggest that preventive application of the mitochondrial calcium uniporter inhibitor ruthenium red can significantly decrease aquaporin 4 and IgG expression, influence the permeability of the blood brain barrier, and thereby decrease the extent of cerebral edema. 展开更多
关键词 cerebral ischemic reperfusion aquaporin 4 blood brain barrier brain edema mitochondrial calcium uniporter ruthenium red SPERMINE neural regeneration
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水对二氧化碳插入TpRu(PPh_3)(CH_3CN)H生成甲酸根配合物的影响(英文) 被引量:3
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作者 尹传奇 吴莉 +2 位作者 付晓滨 许志涛 吴少文 《分子催化》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期22-28,共7页
分别研究了在干燥THF及H2O/THF条件下CO2与TpRu(PPh3)(CH3CN)H(Tp=Hy-drotris(pyrazolyl)borate)的反应,发现水对CO2插入TpRu(PPh3)(CH3CN)H的反应具有显著促进作用.原位高压NMR研究显示,在水存在下,CO2插入Ru-H键形成水合甲酸根配合物T... 分别研究了在干燥THF及H2O/THF条件下CO2与TpRu(PPh3)(CH3CN)H(Tp=Hy-drotris(pyrazolyl)borate)的反应,发现水对CO2插入TpRu(PPh3)(CH3CN)H的反应具有显著促进作用.原位高压NMR研究显示,在水存在下,CO2插入Ru-H键形成水合甲酸根配合物TpRu(PPh3)(CH3CN)(η1-OCHO)·H2O,其中甲酸根配体与溶剂中水分子形成分子间氢键.B3LYP水平的理论计算表明,CO2插入TpRu(PPh3)(CH3CN)H中Ru-H键的能垒由于水的存在而显著降低;在过渡态,CO2分子中碳原子的亲电性由于其氧原子与水分子形成氢键而得到增强.TpRu(PPh3)(CH3CN)(η1-OCHO)·H2O很快转化为另一甲酸根配合物TpRu(PPh3)(H2O)(η1-OCHO),并与之达成平衡.后者由于甲酸根配体与水分子配体间形成分子内氢键而稳定. 展开更多
关键词 TpRu(PPh3)(CH3CN)H 甲酸根配合物 钌配合物 亲电性 氢键 过渡态 能垒 二氧化钛
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