采样定理与天线综合的研究

天线口径场分布与其方向性之间构成了一对傅里叶变换 ,而采样定理又在工程上为它们之间的变换提供了方便 ,借此可对特殊方向性要求的天线进行综合设计。该文对采样原理在天线综合中的应用进行了分析 ,并进行了数值模拟计算 ,从中总结出了一些有用结论 :采样频率的提高并不改变原场分布的恢复 ;对方向图的奇对称采样比偶对称采样所恢复的口径场分布均匀等。这些结论对理论分析和工程应用是相当有帮助的。

结合傅里叶变换合成法设计均匀薄膜

基于傅里叶变换合成法的基本原理,合成了一个K9基底上的负滤光片,合成的渐变折射率薄膜具有期望光学特性,但实际制备难度很大,因此将其细分为足够多层离散折射率的均匀薄膜,由于实际薄膜材料种类有限,不能获得任意折射率膜层,鉴于两层高低折射率薄层可近似为一层中间折射率膜层的思想,将膜系转化成一个可实际制备的膜系结构:膜系采用ZrO2和SiO2两种膜料,膜层总数为183层,经单纯形调法优化后,膜层总厚度为7.09μm,通带和截止带内平均透射比分别为97.56%和3.13%,其结果优于直接采用傅里叶方法合成的非均匀膜系,与期望透射比曲线吻合更好。说明通过这种思想设计任意光谱特性的膜系是可行的,也使傅里叶变换合成法设计的薄膜实际制备成为可能。