γ-甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷与n-HA的界面作用研究

用傅立叶红外光谱(FT IR)、激光拉曼光谱(Raman)和X光电子能谱(XPS)等技术研究了纳米羟基磷灰石(n HA)与γ甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷(KH 570)偶联剂的界面作用。结果表明,用硅烷处理后的n HA 表面的羟基(—OH)出现较大变化,说明—OH 是与KH 570 相互作用的主要基团,C O 键的伸缩振动新峰及Si 峰的出现,说明硅烷已成功接枝在HA晶体表面。n HA晶体与有机硅烷之间的界面结合相互作用主要包括氢键和化学键,但也存在羰基与钙离子之间产生静电荷吸引的可能。用此改性的n HA与高分子或牙科树脂复合可大大改善n HA与复合材料的力学性能,并发挥n HA 的生物功能效应。

介孔有机硅分子筛表面的碱改性及其催化性能

采用水热法直接合成出表面含有机碱中心的介孔有机硅分子筛PMOs催化剂 .XRD分析结果表明 ,3种有机碱改性的催化剂都具有介孔分子筛的完整晶体结构 .红外光谱IR分析结果证明了在分子筛的表面含有机碱基团 .热失重 (TGA)分析认为各种有机碱中心在有机介孔分子筛表面的热稳定性高于 30 0℃ ,骨架中的乙烷基在低于 5 0 0℃下保持稳定 .甲醇与十八碳烯酸的酯化反应结果表明 ,十八碳烯酸的转化率随碱强度和碱中心数增加而升高 ,催化剂活性的顺序为PMO DN >PMO Py >PMO N ;3个催化剂反应后的XRD衍射强度比反应前都加强 ,分析认为与模板剂的脱除方法———碱化乙醇溶液有关 .

材料表面处理新工艺——自蔓延高温合成

介绍了60年代后期提出的一种材料合成新工艺——自蔓延高温合成(SHS)法,提出了SHS技术作为一种材料表面处理新工艺在石化设备上的应用前景.

等离子体技术在材料领域中的应用研究进展

详述了等离子体在材料领域的应用研究进展,在材料表面处理方面可实现材料的表面粗糙化、表面清洁、表面化学基团引入和表面亲水性调变等,在催化材料制备方面可用于催化剂的还原、氧化、掺杂、刻蚀以及特殊化合物的合成等。还分析了等离子体技术在材料制备领域具备诸多优势,但仍然面临一些挑战,如等离子体处理具有时效性、处理量小、等离子体发生作用机制不清晰、工程放大困难等。因此,需要从等离子体反应机理及工程技术两个层面进行更深入研究,以期该技术在材料领域获得更广泛的应用。