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Analysis of stress-induced inhomogeneous electroluminescence in GaN-based green LEDs grown on mesh-patterned Si(111)substrates with n-type AlGaN layer
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作者 Quan-Jiang Lv Yi-Hong Zhang +3 位作者 Chang-Da Zheng Jiang-Dong Gao Jian-Li Zhang Jun-Lin Liu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第8期474-478,共5页
Inhomogeneous electroluminescence(EL)of InGaN green LEDs grown on mesh-patterned Si(111)substrate had been investigated.Sample with n-AlGaN inserted between the pre-strained layers and the first quantum well showed th... Inhomogeneous electroluminescence(EL)of InGaN green LEDs grown on mesh-patterned Si(111)substrate had been investigated.Sample with n-AlGaN inserted between the pre-strained layers and the first quantum well showed the inhomogeneous EL in the low current density range.Near-field EL emission intensity distribution images depicted that inhomogeneity in the form of premature turn-on at the periphery of the LED chip,results in stronger emission intensity at the edges.This premature turn-on effect significantly reduces the luminous efficacy and higher ideality factor value due to locally current crowding effect.Raman measurement and fluorescence microscopy results indicated that the partially relaxed in-plane stress at the edge of the window region acts as a parasitic diode with a smaller energy band gap,which is a source of edge emission.Numerical simulations showd that the tilted triangular n-AlGaN functions like a forward-biased Schottky diode,which not only impedes carrier transport,but also contributes a certain ideality factor. 展开更多
关键词 gan on silicon edge emission n-Algan Ingan green led
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Status of GaN-based green light-emitting diodes 被引量:1
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作者 刘军林 张建立 +10 位作者 王光绪 莫春兰 徐龙权 丁杰 全知觉 王小兰 潘拴 郑畅达 吴小明 方文卿 江风益 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第6期39-46,共8页
GaN-based blue light emitting diodes (LEDs) have undergone great development in recent years, but the improvement of green LEDs is still in progress. Currently, the external quantum efficiency (EQE) of GaN-based g... GaN-based blue light emitting diodes (LEDs) have undergone great development in recent years, but the improvement of green LEDs is still in progress. Currently, the external quantum efficiency (EQE) of GaN-based green LEDs is typically 30%, which is much lower than that of top-level blue LEDs. The current challenge with regard to GaN-based green LEDs is to grow a high quality InGaN quantu.m well (QW) with low strain. Many techniques of improving efficiency are discussed, such as inserting A1GaN between the QW and the barrier, employing prestrained layers beneath the QW and growing semipolar QW. The recent progress of GaN-based green LEDs on Si substrate is also reported: high efficiency, high power green LEDs on Si substrate with 45.2% IQE at 35 A/cm2, and the relevant techniques are detailed. 展开更多
关键词 silicon substrate gan green led
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硅基与蓝宝石衬底上的GaN-LEDs性能差异分析 被引量:2
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作者 王美玉 朱友华 +3 位作者 施敏 黄静 邓洪海 马青兰 《实验技术与管理》 CAS 北大核心 2016年第3期62-65,共4页
在简要阐述硅基与蓝宝石衬底的GaN研究与发展基础上,就此两种不同衬底上GaN-LEDs性能进行了对比分析,并对这两种衬底上的LED进行了相应的表征实验。通过AFM和XRD等分析手段揭示了器件的结构特性,对器件性能(I-V和EL以及I-L测试)进行了... 在简要阐述硅基与蓝宝石衬底的GaN研究与发展基础上,就此两种不同衬底上GaN-LEDs性能进行了对比分析,并对这两种衬底上的LED进行了相应的表征实验。通过AFM和XRD等分析手段揭示了器件的结构特性,对器件性能(I-V和EL以及I-L测试)进行了相应的评价。通过分析相关实验数据得出:在电学特性与光学性能两方面,蓝宝石衬底上的LED均优于硅衬底上的LED。 展开更多
关键词 氮化镓基发光二极管 硅衬底 蓝宝石衬底 电学特性 光学特性
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硅衬底GaN基LED外延生长的研究 被引量:2
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作者 彭冬生 王质武 +1 位作者 冯玉春 牛憨笨 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2009年第4期544-546,共3页
采用在AlN缓冲层后原位沉积SiN掩膜层,然后横向外延生长GaN薄膜。通过该法在硅衬底上获得了1.7μm无裂纹的GaN薄膜,并在此基础上外延生长出了GaN基发光二极管(LED)外延片,其外延片的总厚度约为1.9μm。采用高分辨率双晶X-射线衍射(DCXRD... 采用在AlN缓冲层后原位沉积SiN掩膜层,然后横向外延生长GaN薄膜。通过该法在硅衬底上获得了1.7μm无裂纹的GaN薄膜,并在此基础上外延生长出了GaN基发光二极管(LED)外延片,其外延片的总厚度约为1.9μm。采用高分辨率双晶X-射线衍射(DCXRD)、原子力显微镜(AFM)测试分析。结果表明,GaN薄膜(0002)面的半峰全宽(FWHM)降低到403 arcsec,其表面平整度得到了很大的改善;InGaN/GaN多量子阱的界面较平整,结晶质量良好。光致发光谱表明,GaN基LED峰值波长为469.2 nm。 展开更多
关键词 硅衬底 gan薄膜 发光二极管(led)
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Preparation of GaN-on-Si based thin-film flip-chip LEDs
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作者 章少华 封波 +1 位作者 孙钱 赵汉民 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第5期35-37,共3页
GaN based MQW epitaxial layers were grown on Si (111) substrate by MOCVD using AIN as the buffer layer. High light extraction LEDs were prepared by substrate transferring technology in combination with thin-film and... GaN based MQW epitaxial layers were grown on Si (111) substrate by MOCVD using AIN as the buffer layer. High light extraction LEDs were prepared by substrate transferring technology in combination with thin-film and flip-chip design. The blue and white 1.1 × 1.1 mm2 LED lamps are measured. The optical powers and external quantum efficiency for silicone encapsulated blue lamp are 546 mW, and 50.3% at forward current of 350 mA, while the photometric light output for a white lamp packaged with standard YAG phosphor is 120.1 lm. 展开更多
关键词 silicon substrate gan flip chip led
原文传递
硅衬底GaN基LED研究进展 被引量:2
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作者 洪炜 朱丽萍 +3 位作者 叶志镇 唐海平 倪贤锋 赵浙 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期97-100,共4页
由于硅具有价格低、热导率高、大直径单晶生长技术成熟等优势以及在光电集成方面的应用潜力,GaN/Si 基器件成为一个研究热点。然而,GaN 与 Si 之间的热失配容易引起薄膜开裂,这是限制 LED 及其它电子器件结构生长的一个关键问题。近年来... 由于硅具有价格低、热导率高、大直径单晶生长技术成熟等优势以及在光电集成方面的应用潜力,GaN/Si 基器件成为一个研究热点。然而,GaN 与 Si 之间的热失配容易引起薄膜开裂,这是限制 LED 及其它电子器件结构生长的一个关键问题。近年来,随着工艺的发展,GaN 晶体质量得到大幅度的提高。同时不少研究小组成功地在Si 衬底上制造出 LED。介绍了 GaN 薄膜开裂问题及近期硅衬底 GaN 基 LED 的研究进展。 展开更多
关键词 led 硅衬底 光电集成 gan薄膜 电子器件 SI衬底 失配 研究进展 成方 近期
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基于Si衬底的功率型GaN基LED制造技术 被引量:1
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作者 胡爱华 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第5期447-450,共4页
介绍了Si衬底功率型GaN基LED芯片和封装制造技术,分析了Si衬底功率型GaN基LED芯片制造和封装工艺及关键技术,提供了产品测试数据。Si衬底LED芯片制备采用上下电极垂直结构与Ag反射镜工艺,封装采用仿流明大功率封装,封装后白光LED光通量... 介绍了Si衬底功率型GaN基LED芯片和封装制造技术,分析了Si衬底功率型GaN基LED芯片制造和封装工艺及关键技术,提供了产品测试数据。Si衬底LED芯片制备采用上下电极垂直结构与Ag反射镜工艺,封装采用仿流明大功率封装,封装后白光LED光通量达80 lm,光效达70 lm/W,产品已达商品化。与蓝宝石和SiC衬底技术路线相比,Si衬底LED芯片具有原创技术产权,可销往任何国家而不受国际专利的限制。产品抗静电性能好,寿命长,可承受的电流密度高,具有单引线垂直结构,器件封装工艺简单,而且生产效率高,成本低廉。其应用前景广阔,是值得大力发展的一门新技术。 展开更多
关键词 硅衬底 氮化镓基 led芯片 封装 光通量
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p-GaN插入层调控InGaN基黄绿双波长LED发光光谱
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作者 魏铎垒 张建立 +4 位作者 刘军林 王小兰 吴小明 郑畅达 江风益 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第2期146-152,共7页
采用MOCVD技术在硅衬底上生长了含有7个黄光量子阱和1个绿光量子阱的混合有源区结构的InGaN基黄绿双波长LED外延材料,研究了电子阻挡层前p-GaN插入层厚度对黄绿双波长LED载流子分布及外量子效率(EQE)的影响。通过LED变温电致发光测试系... 采用MOCVD技术在硅衬底上生长了含有7个黄光量子阱和1个绿光量子阱的混合有源区结构的InGaN基黄绿双波长LED外延材料,研究了电子阻挡层前p-GaN插入层厚度对黄绿双波长LED载流子分布及外量子效率(EQE)的影响。通过LED变温电致发光测试系统对LED光电性能进行了表征。结果表明,100 K小电流时随着电流密度的增大,三组样品的绿光峰与黄光峰相对强度的比值越来越大,且5.5 A·cm^-2的电流密度下,随着温度从300 K逐步降低至100 K,三组样品的绿光峰与黄光峰相对强度的比值也越来越大,说明其载流子都在更靠近p型层的位置发生辐射复合。三组样品的p-GaN插入层厚度为0,10,30 nm时,EQE峰值依次为29.9%、29.2%和28.2%,呈现依次减小的趋势,归因于p-GaN插入层厚度越大,p型层越远离有源区,空穴注入也越浅。电子阻挡层前p-GaN插入层可以有效减小器件EL光谱中绿光峰随着电流密度增加时峰值波长的蓝移(33 nm),实现了对低温发光光谱的调控。 展开更多
关键词 硅衬底 黄绿双波长led p-gan插入层 发光光谱
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Si衬底LED薄膜芯片Ni/Ag反射镜保护技术
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作者 王光绪 熊传兵 +2 位作者 王立 刘军林 江风益 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期283-287,共5页
Ag基反射镜提高了薄膜型LED芯片的出光效率,但其易受破坏,通常选择抗腐蚀金属作为其保护材料,同时需要研究保护金属与p-GaN的接触性能,避免在p-GaN上同时形成两种欧姆接触引入的电流分流效应。通过传输线的方法研究了Pt,Cr,Ni/Ag与p-Ga... Ag基反射镜提高了薄膜型LED芯片的出光效率,但其易受破坏,通常选择抗腐蚀金属作为其保护材料,同时需要研究保护金属与p-GaN的接触性能,避免在p-GaN上同时形成两种欧姆接触引入的电流分流效应。通过传输线的方法研究了Pt,Cr,Ni/Ag与p-GaN的接触行为(在不同的合金条件),讨论了Cr和Pt作为保护材料的可行性。结果发现,N2中500℃合金后,NiAg/p-GaN的比接触电阻率(ρc)达到最低,ρc最低值为1.42×10-3Ω.cm2;同条件下,80 nm Pt/p-GaN的ρc为6.63×10-3Ω.cm2,30 nm Cr/p-GaN的ρc为2.03×10-2Ω.cm2,且其合金前的ρc为5.74×10-2Ω.cm2,比合金后的ρc更高。这说明,Cr是更为理想的Ni/Ag保护材料,若Ni/Ag合金后再蒸Cr,效果更佳。最后,通过芯片老化实验,验证了Cr是一种较为理想的、可靠的反射镜保护材料,采用其制备的薄膜型功率芯片具有很高的可靠性。 展开更多
关键词 氮化镓 发光二极管 薄膜芯片 Ag基反射镜 SI衬底
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硅衬底高光效GaN基蓝色发光二极管 被引量:17
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作者 江风益 刘军林 +13 位作者 王立 熊传兵 方文卿 莫春兰 汤英文 王光绪 徐龙权 丁杰 王小兰 全知觉 张建立 张萌 潘拴 郑畅达 《中国科学:物理学、力学、天文学》 CSCD 北大核心 2015年第6期14-31,共18页
经过近十年的探索,作者在国际上率先突破了硅衬底高光效Ga N基蓝光LED材料生长技术及其薄膜型芯片制造技术,制备了内量子效率和取光效率均高达80%的单面出光垂直结构Ga N基蓝光LED,并实现了产业化和商品化,成功地应用于路灯、球炮灯、... 经过近十年的探索,作者在国际上率先突破了硅衬底高光效Ga N基蓝光LED材料生长技术及其薄膜型芯片制造技术,制备了内量子效率和取光效率均高达80%的单面出光垂直结构Ga N基蓝光LED,并实现了产业化和商品化,成功地应用于路灯、球炮灯、矿灯、筒灯、手电和显示显像等领域.本文就相关关键技术进行全面系统地介绍.发明了选区生长、无掩模微侧向外延等技术,仅用100 nm厚的单一高温Al N作缓冲层,制备了无裂纹、厚度大于3μm的器件级Ga N基LED薄膜材料,位错密度为5×108 cm-2.发明了自成体系的适合硅衬底Ga N基薄膜型LED芯片制造的工艺技术,包括高反射率低接触电阻p型欧姆接触电极、高稳定性低接触电阻n型欧姆接触电极、表面粗化、互补电极、Ga N薄膜应力释放等技术,获得了高光效、高可靠性的硅基LED,蓝光LED(450 nm)在350 m A(35 A/cm2)下,光输出功率达657 m W,外量子效率为68.1%. 展开更多
关键词 硅衬底 高光效 氮化镓 发光二极管
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