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IN-SITU TEM OBSERVATION OF NANOSILICON FIBRE GROWTH 被引量:1
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作者 F.C.Zhang 1) ,B.T.Hu 1) ,L.X.Zhang 1) and C.F.Lin 2) 1) Department of Materials Science and Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, China 2) Institute of Metal Research,The Chinese Academy of Sciences, Shenyang 110015, C 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 1999年第5期1069-1072,共4页
Nano silicon particles can be become nano fibre under low energy electron beam bombarding. The formation of the nano silicon fibre include two stages. At first, on the nano silicon particle surface many ... Nano silicon particles can be become nano fibre under low energy electron beam bombarding. The formation of the nano silicon fibre include two stages. At first, on the nano silicon particle surface many silicon atoms are gasified, then these silicon atoms deposit in the place where have more charge on account of the static electrical absorption and the point effect of the charge accumulation , these atoms grow into non crystalline silicon fibres. The second stage is the non crystalline silicon fibres crystallizing. Its crystallizing temperature is about 180℃. The growth mechanism of the nano silicon fibre is vapour solid mode. 展开更多
关键词 nano fibre silicon in situ tem observation
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A thick yet dense silicon anode with enhanced interface stability in lithium storage evidenced by in situ TEM observations 被引量:6
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作者 Junwei Han Dai-Ming Tang +6 位作者 Debin Kong Fanqi Chen Jing Xiao Ziyun Zhao Siyuan Pan Shichao Wu Quan-Hong Yang 《Science Bulletin》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第18期1563-1569,M0004,共8页
Increasing the density and thickness of electrodes is required to maximize the volumetric energy density of lithium-ion batteries for practical applications.However,dense and thick electrodes,especially highmass-conte... Increasing the density and thickness of electrodes is required to maximize the volumetric energy density of lithium-ion batteries for practical applications.However,dense and thick electrodes,especially highmass-content(>50 wt%) silicon anodes,have poor mechanical stability due to the presence of a large number of unstable interfaces between the silicon and conducting components during cycling.Here we report a network of mechanically robust carbon cages produced by the capillary shrinkage of graphene hydrogels that can contain the silicon nanoparticles in the cages and stabilize the silicon/carbon interfaces.In situ transmission electron microscope characterizations including compression and tearing of the structure and lithiation-induced silicon expansion experiments,have provided insight into the excellent confinement and buffering ability of this interface-strengthened graphene-caged silicon nanoparticle anode material.Consequently,a dense and thick silicon anode with reduced thickness fluctuations has been shown to deliver both high volumetric(>1000 mAh cm^-3) and areal(>6 mAh cm^-2)capacities together with excellent cycling capability. 展开更多
关键词 Lithium-ion battery silicon anode Interface stability In situ tem Dense and thick electrodes
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Quantitative Evaluation of an Epitaxial Silicon-Germanium Layer on Silicon
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作者 Jie-Yi Yao Kun-Lin Lin Chiung-Chih Hsu 《Microscopy Research》 2015年第4期41-49,共9页
An epitaxial SixGey layer on a silicon substrate was quantitatively evaluated using rocking curve (RC) and reciprocal space map (RSM) obtained by powder X-ray diffraction (XRD), energy-dispersive X-ray spectroscopy (E... An epitaxial SixGey layer on a silicon substrate was quantitatively evaluated using rocking curve (RC) and reciprocal space map (RSM) obtained by powder X-ray diffraction (XRD), energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDS) in conjunction with transmission electron microscopy (TEM), and EDS in conjunction with scanning electron microscopy (SEM). To evaluate the relative deviation of the quantitative analysis results obtained by the RC, RSM, SEM/EDS, and TEM/EDS methods, a standard sample comprising a Si0.7602Ge0.2398 layer on a Si substrate was used. The correction factor (K-factor) for each technique was determined using multiple measurements. The average and standard deviation of the atomic fraction of Ge in the Si0.7602Ge0.2398 standard sample, as obtained by the RC, RSM, TEM/EDS, and SEM/EDS methods, were 0.2463 ± 0.0016, 0.2460 ± 0.0015, 0.2350 ± 0.0156, and 0.2433 ± 0.0059, respectively. The correction factors for the RC, RSM, TEM/EDS, and SEM/EDS methods were 0.9740, 0.9740, 1.0206, and 0.9856, respectively. The SixGey layer on a silicon substrate was quantitatively evaluated using the RC, RSM, and EDS/TEM methods. The atomic fraction of Ge in the epitaxial SixGey layer, as evaluated by the RC and RSM methods, was 0.1833 ± 0.0007, 0.1792 ± 0.0001, and 0.1631 ± 0.0105, respectively. After evaluating the results of the atomic fraction of Ge in the epitaxial layer, the error was very small, i.e., less than 3%. Thus, the RC, RSM, TEM/EDS, and SEM/EDS methods are suitable for evaluating the composition of Ge in epitaxial layers. However, the thickness of the epitaxial layer, whether the layer is strained or relaxed, and whether the area detected in the TEM and SEM analyses is consistent must be considered. 展开更多
关键词 silicon-GERMANIUM EPITAXIAL LAYER ROCKING Curve Reciprocal SPACING Map tem SEM EDS
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基于MEMS芯片的磁性材料TEM表征技术
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作者 殷智伟 张学林 +2 位作者 姚镭 于海涛 李昕欣 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2023年第8期1288-1294,共7页
传统透射电子显微镜(TEM)以电磁场为透镜,通常情况下磁性材料不能直接在TEM下进行观测,一般使用以碳为支撑膜的双联铜网作为样品载网,但仍然有一定的破损概率。设计并实现了一种新型的基于微电子机械系统(MEMS)芯片的磁性材料TEM表征技... 传统透射电子显微镜(TEM)以电磁场为透镜,通常情况下磁性材料不能直接在TEM下进行观测,一般使用以碳为支撑膜的双联铜网作为样品载网,但仍然有一定的破损概率。设计并实现了一种新型的基于微电子机械系统(MEMS)芯片的磁性材料TEM表征技术。该技术通过磁性TEM芯片和配套的样品杆,在TEM内形成一个密闭空间。将磁性样品上载到磁性TEM芯片上,从而实现在TEM下对磁性样品的安全观测。该芯片的核心结构是可以透射电子束的超薄氮化硅窗口,该窗口采用低压化学气相沉积(LPCVD)法制备,具有极高的机械强度,最高可以承受接近400 kPa的气压差。实验结果表明,利用该TEM表征技术可以在TEM下成功观测铁包硅和NiO两种磁性材料,分辨率可以达到原子级。 展开更多
关键词 微电子机械系统(MEMS) 透射电子显微镜(tem) 磁性tem芯片 磁性材料 氮化硅薄膜
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n-nc-Si:H低温制备工艺及其在柔性钙钛矿太阳电池中的应用
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作者 靳果 王记昌 闫奇 《河南科技》 2024年第9期83-87,共5页
【目的】为在低温工艺下制备出适用于柔性钙钛矿太阳电池的高性能电子传输层,需要对电子传输层材料及制备条件进行研究。【方法】将n型氢化纳米晶硅薄膜作为柔性钙钛矿太阳电池电子传输层,研究衬底温度对薄膜性能的影响,并优化电子传输... 【目的】为在低温工艺下制备出适用于柔性钙钛矿太阳电池的高性能电子传输层,需要对电子传输层材料及制备条件进行研究。【方法】将n型氢化纳米晶硅薄膜作为柔性钙钛矿太阳电池电子传输层,研究衬底温度对薄膜性能的影响,并优化电子传输层与钙钛矿层界面处理工艺和结构。【结果】得到暗电导率、光透过率、表面形貌适用于柔性钙钛矿太阳电池电子传输层的n型氢化纳米晶硅薄膜低温制备条件,经过界面优化处理的柔性钙钛矿太阳电池转换效率达到14.66%。【结论】在低温工艺下制备出了高性能的电子传输层及柔性钙钛矿太阳电池,对进一步开展叠层钙钛矿太阳电池的研究具有指导意义。 展开更多
关键词 柔性钙钛矿太阳电池 n-nc-Si:H 衬底温度 薄膜性能 界面优化
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Formation and growth of fractal patterns in high energy P^+-implanted silicon and N+Zn-implanted SiO_2/GaAsP during thermal annealing 被引量:1
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作者 吴瑜光 张通和 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 1997年第4期343-349,共7页
The fractal patterns in implanted samples are observed. Possible correlation of fractal patterns with the annealing temperature and the electrical activation ratio are given. The formation and growth process of fracta... The fractal patterns in implanted samples are observed. Possible correlation of fractal patterns with the annealing temperature and the electrical activation ratio are given. The formation and growth process of fractal patterns are compared for implanted layers both in silicon and in SiO2/GaAsP during thermal annealing. The mechanism of formation and growth process of fractal pattern is discussed. 展开更多
关键词 fractal patterns P+ high energy IMPLANTATION into silicon Zn + N IMPLANTATION into GAASP thermal annealing tem observation.
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TEM STUDY ON LOCALIZED RECRYSTALLIZATION SOI
7
作者 Liu, Ansheng Shao, Beiling +3 位作者 Li, Yonghong Liu, Zheng Zhang, Pengfei Tsien, Peixin 《中国有色金属学会会刊:英文版》 EI CSCD 1997年第1期47-51,共5页
TEMSTUDYONLOCALIZEDRECRYSTALLIZATIONSOI①LiuAnsheng,ShaoBeiling,LiYonghong,LiuZhengGeneralResearchInstitutefo... TEMSTUDYONLOCALIZEDRECRYSTALLIZATIONSOI①LiuAnsheng,ShaoBeiling,LiYonghong,LiuZhengGeneralResearchInstituteforNonferrousMetal... 展开更多
关键词 SOI(silicon on insulator) LOCALIZED RECRYSTALLIZATION crystallographic ORIENTATIONS characters defects tem
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TEM电子束诱导硅表面氧化的分析
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作者 杨德仁 姚鸿年 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第11期834-837,共4页
洁净硅表面在电子束的作用下产生诱导氧化现象,在AES分析中已得到证实。本文利用TEM 200CX型电镜研究了洁净硅表面在电子束作用下的结果,实验表明,在TEM中同样存在着电子束诱导硅表面氧化的现象,氧化生成了SiO_2微晶,其氧主要来自硅晶... 洁净硅表面在电子束的作用下产生诱导氧化现象,在AES分析中已得到证实。本文利用TEM 200CX型电镜研究了洁净硅表面在电子束作用下的结果,实验表明,在TEM中同样存在着电子束诱导硅表面氧化的现象,氧化生成了SiO_2微晶,其氧主要来自硅晶体内氧的局部富集和电镜中残余气体在硅表面的吸附。 展开更多
关键词 硅表面 氧化 电子束诱导 tem
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Compressive elastic behavior of single-crystalline 4H-silicon carbide(SiC) nanopillars
9
作者 FAN SuFeng LI XiaoCui +1 位作者 FAN Rong LU Yang 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第1期37-43,共7页
As a wide-bandgap semiconductor, 4H-SiC is an ideal material for high-power and high-frequency devices, and plays an increasingly important role in developing our country’s future electric vehicles and 5G techniques.... As a wide-bandgap semiconductor, 4H-SiC is an ideal material for high-power and high-frequency devices, and plays an increasingly important role in developing our country’s future electric vehicles and 5G techniques. Practical applications of SiCbased devices largely depend on their mechanical performance and reliability at the micro-and nanoscales. In this paper, singlecrystal [0001]-oriented 4H-SiC nanopillars with the diameter ranging from ~200 to 700 nm were microfabricated and then characterized by in situ nanomechanical testing under SEM/TEM at room temperature. Loading-unloading compression tests were performed, and large, fully reversible elastic strain up to ~6.2% was found in nanosized pillars. Brittle fracture still occurred when the max strain reached ~7%, with corresponding compressive strength above 30 GPa, while in situ TEM observation showed few dislocations activated during compression along the [0001] direction. Besides robust microelectromechanical system(MEMS), flexible device and nanocomposite applications, the obtained large elasticity in [0001]-oriented 4H-SiC nanopillars can offer a fertile opportunity to modulate their electron mobility and bandgap structure by nanomechanical straining,the so called "elastic strain engineering", for novel electronic and optoelectronic applications. 展开更多
关键词 silicon carbide elastic deformation compressive behavior in situ SEM/tem elastic strain engineering
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基于MEMS的原位液体TEM芯片的设计与制作 被引量:3
10
作者 焦磊涛 蒋文静 欧文 《微纳电子技术》 北大核心 2018年第7期493-497,共5页
传统透射电子显微镜(TEM)观察液态样品特征时,通常将其先速冻成固态,而原位TEM可以动态地观察液态样品的变化,避免了一些额外因素的影响。设计了一款基于微机电系统(MEMS)技术的非流动原位液体TEM芯片,用于对液态样品结构动态变化... 传统透射电子显微镜(TEM)观察液态样品特征时,通常将其先速冻成固态,而原位TEM可以动态地观察液态样品的变化,避免了一些额外因素的影响。设计了一款基于微机电系统(MEMS)技术的非流动原位液体TEM芯片,用于对液态样品结构动态变化的实时观测。采用低压化学气相沉积(LPCVD)法制备50 nm厚的低应力氮化硅薄膜作为芯片的电子束透射窗的材料,并在窗口层上面制作金属网格来加固其承载能力,采用MEMS技术完成了芯片的制造。实验结果表明,TEM芯片在相应的TEM样品杆的辅助下,成功实现了对铜纳米粒子生长过程中形态变化的实时观测。 展开更多
关键词 原位透射电子显微镜(tem) 微机电系统(MEMS) 低应力氮化硅 液体tem芯片 铜纳米粒子
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SOI材料微结构的TEM分析
11
作者 沈仲汉 周永宁 +6 位作者 张昕 吴晓京 张苗 叶斐 陈猛 王曦 林成鲁 《电子显微学报》 CAS CSCD 2005年第5期453-459,共7页
SOI晶圆材料正在成为制备IC芯片的主要原材料。SOI材料的质量很大程度上取决于顶层硅及埋层的结构。利用TEM,系统地研究了3种实验条件下的SOI材料的微结构,对其顶层硅及埋层的厚度、厚度的均匀性进行了定量分析,对高剂量SIMOX样品中存... SOI晶圆材料正在成为制备IC芯片的主要原材料。SOI材料的质量很大程度上取决于顶层硅及埋层的结构。利用TEM,系统地研究了3种实验条件下的SOI材料的微结构,对其顶层硅及埋层的厚度、厚度的均匀性进行了定量分析,对高剂量SIMOX样品中存在的硅岛密度进行了估算,并对顶层硅中的结构缺陷进行了观察分析。 展开更多
关键词 SOI晶圆 tem分析 微结构 硅岛 结构缺陷
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单晶硅片磨削损伤的透射电子显微分析 被引量:5
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作者 张银霞 郜伟 +1 位作者 康仁科 郭东明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第8期1552-1556,共5页
为了揭示硅片自旋转磨削加工表面层损伤机理,采用透射电子显微镜对硅片磨削表面层损伤特性进行了分析.结果表明:粗磨Si片的损伤层中有大量微裂纹和高密度位错;半精磨和精磨Si片的损伤层中除了微裂纹和位错外,还存在非晶硅和多晶硅(Si-I... 为了揭示硅片自旋转磨削加工表面层损伤机理,采用透射电子显微镜对硅片磨削表面层损伤特性进行了分析.结果表明:粗磨Si片的损伤层中有大量微裂纹和高密度位错;半精磨和精磨Si片的损伤层中除了微裂纹和位错外,还存在非晶硅和多晶硅(Si-I相和Si-III相).从粗磨到半精磨,Si片的非晶层厚度从约0nm增大到约110nm;从半精磨到精磨,Si片的非晶层厚度由约110nm减小至约30nm,且非晶层厚度的分布均匀性提高.从粗磨到精磨,Si片损伤深度、微裂纹深度及位错滑移深度逐渐减小,材料的去除方式由脆性断裂方式逐渐向塑性方式过渡. 展开更多
关键词 单晶硅片 磨削 损伤 tem分析
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Nb_2O_5薄膜的溶胶凝胶法制备 被引量:7
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作者 吴云 胡丽丽 姜中宏 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第3期269-273,共5页
以金属醇盐(Nb(OEt)5)为前驱体获得涂膜液,采用浸渍提拉法(dip-coating)制备Nb2O5薄膜;研究了不同催化环境对涂膜液溶胶的影响,不同涂膜次数样品的反射透过情况,并由此推算了薄膜的厚度及折射率。XR... 以金属醇盐(Nb(OEt)5)为前驱体获得涂膜液,采用浸渍提拉法(dip-coating)制备Nb2O5薄膜;研究了不同催化环境对涂膜液溶胶的影响,不同涂膜次数样品的反射透过情况,并由此推算了薄膜的厚度及折射率。XRD结果表明:560℃热处理1h后得到正交晶相的Nb2O5薄膜;Nb2O5薄膜着色为淡黄色。 展开更多
关键词 金属醇盐 氧化铌薄膜 溶胶凝胶法 涂膜 涂层
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FP法在SDD-EDXRF无标样分析技术中的应用研究 被引量:3
14
作者 刘敏 庹先国 +1 位作者 李哲 石睿 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第9期1096-1099,1104,共5页
为实现能量色散X荧光(EDXRF)技术对元素含量的无标样分析,建立了基本参数法(FP法)数理分析模型,并计算得到了模型中质量吸收系数(μ)、激发因子(E)等关键参数。实验中,利用基于硅漂移探测器(SDD)的EDXRF测量系统(SDD-EDXRF),对Fe-Cu、Fe... 为实现能量色散X荧光(EDXRF)技术对元素含量的无标样分析,建立了基本参数法(FP法)数理分析模型,并计算得到了模型中质量吸收系数(μ)、激发因子(E)等关键参数。实验中,利用基于硅漂移探测器(SDD)的EDXRF测量系统(SDD-EDXRF),对Fe-Cu、Fe-Ti两种伪二元体系样品进行能谱测量,并采用自行开发的FP法计算程序,分析得到了混合样品中各元素含量,含量的计算值与实际值的最低相对误差小于2%,精密度相对标准偏差低于0.8%。结果表明,所建立的FP法分析模型,能较好克服元素间的吸收增强效应,可应用于SDD-EDXRF的无标样分析过程。 展开更多
关键词 能量色散X荧光分析 基本参数法 硅漂移探测器 伪二元系
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纳米晶体硅量子点薄膜的制备及表征 被引量:1
15
作者 张生才 吴成昌 +3 位作者 肖夏 王云峰 姚素英 赵新为 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2007年第3期211-214,共4页
利用激光烧蚀沉积法在n-Si(100)衬底上制备非晶硅(-αSi)薄膜,再经过高温退火技术处理使-αSi晶化成纳米硅晶体(nc-Si)量子点.利用拉曼(Raman)光谱仪、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)以及原子力显微镜(AFM)等测试仪器对nc-Si薄... 利用激光烧蚀沉积法在n-Si(100)衬底上制备非晶硅(-αSi)薄膜,再经过高温退火技术处理使-αSi晶化成纳米硅晶体(nc-Si)量子点.利用拉曼(Raman)光谱仪、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)以及原子力显微镜(AFM)等测试仪器对nc-Si薄膜进行表征,发现制备的nc-Si量子点排列紧密、尺寸均匀,具有很好的单晶结构,制备的nc-Si薄膜晶化比例很高,并且优先选择在[111]方向晶化. 展开更多
关键词 nc—Si量子点 激光烧蚀 拉曼光谱 X射线衍射仪 透射电子显微镜 原子力显微镜
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挤压铸造SiCp/ZL101复合材料中Si相的电镜观察 被引量:1
16
作者 梅志 洪建明 赵晓宁 《电子显微学报》 CAS CSCD 1999年第5期540-543,共4页
利用透射电镜观察了挤压铸造SiCp/ZL101 复合材料中 Si相的分布形态,分别发现在基体中析出和依附SiC颗粒表面生长这两类 Si的分布形态,还有少量 Mg2 Si粒子在后者界面附近析出。
关键词 透射电镜 复合材料 硅相形态 电镜观察
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NICALON(SiC)纤维增强铝预制丝透射电镜样品的研制 被引量:2
17
作者 胡君遂 黄大暾 +1 位作者 杨志涛 张家春 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第2期107-111,共5页
文中研究了用离子减薄法制备NICALON(SiC)/A1预制丝的透射电镜(TEM)样品。结果表明:用离子减薄法制备含有性质非常不同的组元(如碳化硅-铝复合材料)TEM样品是一种方便、有效的方法。运用TEM初步分析了所制出的预制丝样品。
关键词 复合材料 碳化硅 tem样品
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化学气相反应法合成SiC超细粉的成核和生长过程的研究 被引量:2
18
作者 杨修春 韩高荣 +1 位作者 杜丕一 丁子上 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第3期332-338,共7页
借助于TEM观察,讨论了化学气相反应法合成SiC超细粉的成长机理,分析结果显示,由于气体流速不同,合成的SiC超细粉颗粒尺寸和颗粒形貌有较大变化,颗粒尺寸和颗粒形貌的变化由成核和生长机理决定,一般涉及到均匀成核、异相... 借助于TEM观察,讨论了化学气相反应法合成SiC超细粉的成长机理,分析结果显示,由于气体流速不同,合成的SiC超细粉颗粒尺寸和颗粒形貌有较大变化,颗粒尺寸和颗粒形貌的变化由成核和生长机理决定,一般涉及到均匀成核、异相成核。 展开更多
关键词 化学气相反应 超细粉 碳化硅陶瓷 成核
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两种考虑温度影响的SiC JFET仿真模型 被引量:2
19
作者 王莉娜 邓洁 Muhammad Ali 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 2018年第2期562-572,共11页
针对目前物理建模方法参数获取困难、行为建模方法需要大量实验数据的问题,该文提出两种简单易用的考虑温度影响的Si C JFET功率器件Saber环境建模方法。模型I基于Saber软件提供的JFET模板实现,问题的难点转化为如何准确提取建模对象Si ... 针对目前物理建模方法参数获取困难、行为建模方法需要大量实验数据的问题,该文提出两种简单易用的考虑温度影响的Si C JFET功率器件Saber环境建模方法。模型I基于Saber软件提供的JFET模板实现,问题的难点转化为如何准确提取建模对象Si C JFET的相关模板参数;模型II根据器件厂商提供的Si C JFET的PSpice模型,在Saber环境中搭建相应的电路实现,问题的难点转化为如何分析透彻器件厂商提供的模型中各参数的物理意义,并如何调整这些参数使其能准确模拟建模对象的静态和动态特性。该文详细阐述两种仿真模型的特点及具体实现方法,并从静态特性和动态特性两个方面,从仿真和实验两个角度,验证两种仿真模型的正确性和有效性,比较两种建模方法的适用性。 展开更多
关键词 碳化硅 JFET 仿真模型 温度影响 静态特性 动态特性
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普通取向硅钢生产工艺和磁性的研究 被引量:2
20
作者 董爱锋 张文康 《特殊钢》 北大核心 2012年第2期29-32,共4页
研究了普通取向硅钢(/%:0.03~0.05C、3.0Si、0.065~0.080Mn、0.004~0.007P、0.018~0.025S、0.02Cu)2.20~2.30mm热轧板经二次冷轧和中间退火生产0.30mm板的工艺过程。重点分析了化学成分(C、Mn、S、P)、加热温度(1350~1400℃,1200... 研究了普通取向硅钢(/%:0.03~0.05C、3.0Si、0.065~0.080Mn、0.004~0.007P、0.018~0.025S、0.02Cu)2.20~2.30mm热轧板经二次冷轧和中间退火生产0.30mm板的工艺过程。重点分析了化学成分(C、Mn、S、P)、加热温度(1350~1400℃,1200~1320℃)、常化工艺、二次冷轧压下率(56%~62%)和二次再结晶温度(900~1000℃)对普通取向硅钢铁损P_(17)和磁感应强度B_8的影响。结果表明,化学成分,加热温度和二次再结晶温度对普通取向硅钢的磁性能影响较大,常化工艺和中间板厚对钢的磁性影响不显著;普通取向硅钢合适的主要成分的范围为(/%):0.03~0.05C、2.9~3.1Si、0.05~0.10Mn、0.015~0.03S,热轧加热温度~1380℃,终轧930~960℃,二次再结晶温度~950℃。 展开更多
关键词 普通取向硅钢化学成分二次再结晶温度磁性能
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