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单电子晶体管研究进展
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作者 郭宝增 宋登元 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2001年第3期294-305,共12页
在简单介绍了单电子晶体管 (SET)的工作原理后 ,综述了 SET在制造和应用方面的研究进展。
关键词 单电子晶体管 库仑阻塞效应 纳米结构
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计算机的发展 被引量:2
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作者 曹来发 《科技情报开发与经济》 2002年第5期99-100,共2页
简要介绍了计算机的发展历程,探讨了当前正在发展的生物计算机的机理及其功能,阐述了我国巨型机的开发情况。
关键词 计算机 发展 电子管 晶体管 集成电路 生物计算机 巨型机
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A unified charge-based model for SOI MOSFETs applicable from intrinsic to heavily doped channel
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作者 张健 何进 +8 位作者 周幸叶 张立宁 马玉涛 陈沁 张勖凯 杨张 王睿斐 韩雨 陈文新 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第4期478-485,共8页
A unified charge-based model for fully depleted silicon-on-insulator (SOI) metal oxide semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) is presented. The proposed model is accurate and applicable from intrinsic to... A unified charge-based model for fully depleted silicon-on-insulator (SOI) metal oxide semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) is presented. The proposed model is accurate and applicable from intrinsic to heavily doped channels with various structure parameters. The framework starts from the one-dimensional Poisson Boltzmann equa- tion, and based on the full depletion approximation, an accurate inversion charge density equation is obtained. With the inversion charge density solution, the unified drain current expression is derived, and a unified terminal charge and intrinsic capacitance model is also derived in the quasi-static case. The validity and accuracy of the presented analytic model is proved by numerical simulations. 展开更多
关键词 charge-based model silicon-on-insulator metal-oxide semiconductor field-effect transis- tors compact model double gate
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铜-钼源漏电极对非晶氧化铟镓锌薄膜晶体管性能的改善 被引量:3
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作者 宁洪龙 胡诗犇 +9 位作者 朱峰 姚日晖 徐苗 邹建华 陶洪 徐瑞霞 徐华 王磊 兰林锋 彭俊彪 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第12期65-71,共7页
在铜(Cu)和非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)之间插入30 nm厚的钼(Mo)接触层,制备了具有Cu-Mo源漏电极的a-IGZO薄膜晶体管(TFT).Mo接触层不仅能够抑制Cu与a-IGZO有源层之间的扩散,而且提高了Cu电极与玻璃基底以及栅极绝缘层的结合强度.制备的Cu... 在铜(Cu)和非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)之间插入30 nm厚的钼(Mo)接触层,制备了具有Cu-Mo源漏电极的a-IGZO薄膜晶体管(TFT).Mo接触层不仅能够抑制Cu与a-IGZO有源层之间的扩散,而且提高了Cu电极与玻璃基底以及栅极绝缘层的结合强度.制备的Cu-Mo结构TFT与纯Cu结构TFT相比,具有较高的迁移率(~9.26 cm2·V-1·s-1)、更短的电流传输长度(~0.2μm)、更低的接触电阻(~1072Ω)和有效接触电阻率(~1×10-4Ω·cm2),能够满足TFT阵列高导互联的要求. 展开更多
关键词 高导互联 非晶氧化铟镓锌 薄膜晶体管 铜-钼源漏电极
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