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Soft thermal nanoimprint lithography using a nanocomposite mold 被引量:2
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作者 Viraj Bhingardive Liran Menahem Mark Schvartzman 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第5期2705-2714,共10页
Soft nanoimprint lithography has been limited to ultraviolet (UV) curable resists. Here, we introduce a novel approach for soft thermal nanoimprinting. This unprecedented combination of the terms "soft" and "ther... Soft nanoimprint lithography has been limited to ultraviolet (UV) curable resists. Here, we introduce a novel approach for soft thermal nanoimprinting. This unprecedented combination of the terms "soft" and "thermal" for nanoimprinting became possible thanks to an innovative nanocomposite mold consisting of a flexible polydimethylsiloxane (PDMS) substrate with chemically attached rigid relief features. We used soft thermal nanoimprinting to produce high-resolution nanopatterns with a sub-100 nm feature size. Furthermore, we demonstrate the applicability of our nanoimprint approach for the nanofabrication of thermally imprinted nanopattems on non-planar surfaces such as lenses. Our new nanofabrication strategy paves the way to numerous applications that require the direct fabrication of functional nanostructures on unconventional substrates. 展开更多
关键词 soft lithography nanoimprint lithography polydimethylsiloxane(pdms) non-planar substrates
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硅油稀释PDMS法制备紫外纳米压印软模板 被引量:2
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作者 李海鑫 黄其煜 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第3期188-192,共5页
软模板的制作是紫外纳米压印中关键的技术,模版的分辨率直接决定了压印图形的最小分辨率。使用具有高度均匀、100nm级孔洞阵列结构的多孔氧化铝作为母版,使用基于液态浇铸的硅油稀释聚二甲基硅氧烷(硅油和聚二甲基硅氧烷的质量比为1:2)... 软模板的制作是紫外纳米压印中关键的技术,模版的分辨率直接决定了压印图形的最小分辨率。使用具有高度均匀、100nm级孔洞阵列结构的多孔氧化铝作为母版,使用基于液态浇铸的硅油稀释聚二甲基硅氧烷(硅油和聚二甲基硅氧烷的质量比为1:2)法制备出具有规则点阵结构的软模板。通过SEM和AFM表征发现,特征图形得到了有效转移,特征尺度保持在100nm左右。相对于传统的模板制备方法,此方法成本低、流程简单、适合大规模生产,是一种非常有前途的软模板制备方法。 展开更多
关键词 聚二甲基硅氧烷 硅油 紫外纳米压印 软模板 浇铸法
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