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An improved performance of copper phthalocyanine OFETs with channel and source/drain contact modifications
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作者 党焕芹 吴晓明 +3 位作者 孙小卫 邹润秋 章若川 印寿根 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第10期60-64,共5页
We report an effective method to improve the performance of p-type copper phthalocyanine (CuPc) based organic field-effect transistors (OFETs) by employing a thin para-quaterphenyl (p-4p) film and simultane- ous... We report an effective method to improve the performance of p-type copper phthalocyanine (CuPc) based organic field-effect transistors (OFETs) by employing a thin para-quaterphenyl (p-4p) film and simultane- ously applying V205 to the source/drain regions. The p-4p layer was inserted between the insulating layer and the active layer, and V205 layer was added between CuPc and A1 in the source-drain (S/D) area. As a result, the field- effect saturation mobility and on/off current ratio of the optimized device were improved to 5 × 10-2 cm2/(V.s) and 104, respectively. We believe that because p-4p could induce CuPc to form a highly oriented and continuous film, this resulted in the better injection and transport of the carriers. Moreover, by introducing the V205 electrode's modified layers, the height of the carrier injection barrier could be effectively tuned and the contact resistance could be reduced. 展开更多
关键词 organic field-effect transistors copper phthalocyanine active layer para-quaterphenyl buffer layer source/drain contact modifications
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poly—Si TFT 制作工艺探索
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作者 张建军 吴春亚 +4 位作者 李俊峰 周祯华 孟志国 赵颖 孙钟林 《液晶与显示》 CAS CSCD 1998年第1期40-45,共6页
对poly—SiTFT的制作工艺进行了研究。采用准分子激光晶化法制备了多晶硅薄膜,并以Mo、Al两种金属直接与有源层接触形成源漏电极,对这两种不同金属源漏电极poly—SiTFT的性能进行了比较。研究了退火对其性能的... 对poly—SiTFT的制作工艺进行了研究。采用准分子激光晶化法制备了多晶硅薄膜,并以Mo、Al两种金属直接与有源层接触形成源漏电极,对这两种不同金属源漏电极poly—SiTFT的性能进行了比较。研究了退火对其性能的影响,结果表明材料性能是符合要求的。 展开更多
关键词 poly-SiTFT 源漏接触 退火 制作工艺 准分子激光晶化 多晶硅薄膜 源漏电极
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微波GaAs金属-半导体场效应管可靠性研究的进展
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作者 袁泽亮 《真空与低温》 1995年第2期91-100,共10页
综述了近年来微波GaAsMESFET可靠性的研究进展。重点介绍了影响其可靠性的因素如栅肖特基结和源/漏欧姆结的相互扩散及表面效应等。
关键词 微波 砷化镓 MESFET 半导体器件 可靠性 电迁移
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WSe_(2)场效应晶体管的源漏接触特性研究
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作者 张璐 张亚东 +3 位作者 孙小婷 贾昆鹏 吴振华 殷华湘 《半导体光电》 北大核心 2021年第3期371-374,384,共5页
二硒化钨(WSe_(2))具有双极导电特性,可以通过外界掺杂或改变源漏金属来调节载流子传输类型,是一类特殊的二维纳米材料,有望在未来集成电路中成为硅(Si)的替代材料。文章采用理论与实验相结合的方式系统分析了WSe_(2)场效应晶体管中的... 二硒化钨(WSe_(2))具有双极导电特性,可以通过外界掺杂或改变源漏金属来调节载流子传输类型,是一类特殊的二维纳米材料,有望在未来集成电路中成为硅(Si)的替代材料。文章采用理论与实验相结合的方式系统分析了WSe_(2)场效应晶体管中的源漏接触特性对器件导电类型及载流子传输特性的影响,通过制备不同金属作为源漏接触电极的WSe_(2)场效应晶体管,发现金属/WSe_(2)接触的实际肖特基接触势垒高低极大地影响了晶体管的开态电流。源漏金属/WSe_(2)接触特性不仅取决于接触前理想的费米能级差,还受到界面特性,特别是费米能级钉扎效应的影响。 展开更多
关键词 二硒化钨 双极特性 金属功函数 肖特基势垒 源漏接触 费米能级钉扎
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源、漏到栅距离对次亚微米ggNMOS ESD保护电路鲁棒性的影响 被引量:13
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作者 张冰 柴常春 杨银堂 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期8063-8070,共8页
基于对静电放电(electrostatic discharge,ESD)应力下高电压、大电流特性的研究,本文通过优化晶格自加热漂移-扩散模型和热力学模型,并应用优化模型建立了全新的0.6μm CSMC6S06DPDM-CT02CMOS工艺下栅接地NMOS(gate grounded NMOS,ggNMO... 基于对静电放电(electrostatic discharge,ESD)应力下高电压、大电流特性的研究,本文通过优化晶格自加热漂移-扩散模型和热力学模型,并应用优化模型建立了全新的0.6μm CSMC6S06DPDM-CT02CMOS工艺下栅接地NMOS(gate grounded NMOS,ggNMOS)ESD保护电路3D模型,对所建模型中漏接触孔到栅距离(drain contact togate spacing,DCGS)与源接触孔到栅距离(source contact to gate spacing,SCGS)对保护电路鲁棒性指标--开启电压、击穿电压、自热峰值等参数的影响进行了系统研究.仿真结果表明,DCGS和SCGS的改变对保护电路的开启电压和热平衡没有影响,而DCGS比起SCGS对保护电路的击穿电压和器件的自热峰值敏感度更高,但持续增大DCGS和SCGS并不能单调提升保护电路的击穿电压值以及降低器件的自热峰值,因此不宜单一通过增大DCGS和SCGS的方式来改善ESD保护电路的鲁棒性.仿真结果与0.5μm和0.6μm CMOS工艺流片的传输线脉冲(transmission line pulse,TLP)测试结果对比显示,本文建立模型的仿真结果较好地反映了保护电路在ESD条件下的电、热特性趋势,其结论与测试结果符合.本文的研究结果为次亚微米ggNMOS ESD保护电路版图设计中的参数选取提供了依据. 展开更多
关键词 栅接地NMOS 静电放电 漏接触孔到栅的距离 源接触孔到栅的距离
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易于集成的有机薄膜场效应晶体管的制备 被引量:2
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作者 王伟 石家纬 +7 位作者 郭树旭 全宝富 刘明大 张宏梅 梁昌 张素梅 游汉 马东阁 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1262-1265,共4页
用有机半导体并五苯作为有源层,聚四氟乙烯作为绝缘层,采用全蒸镀方式在真空室一次性制备了正装结构的有机薄膜场效应晶体管(OTFT)。薄的有机绝缘层使得器件工作在低电压下,有机薄膜场效应晶体管易于与显示像素(有机发光二极管(OLED))... 用有机半导体并五苯作为有源层,聚四氟乙烯作为绝缘层,采用全蒸镀方式在真空室一次性制备了正装结构的有机薄膜场效应晶体管(OTFT)。薄的有机绝缘层使得器件工作在低电压下,有机薄膜场效应晶体管易于与显示像素(有机发光二极管(OLED))集成在同一个透明的刚性或者柔性衬底上。研究了有机薄膜场效应晶体管的源漏接触电阻和沟道电阻对器件性能的影响,结果表明接触电阻是影响器件性能的主要因素。在透明的玻璃衬底上实现了有机薄膜场效应晶体管对同一衬底上100μm×200μm红色有机发光二极管的驱动。 展开更多
关键词 光电子学 并五苯 有机薄膜场效应晶体管 源漏接触电阻 全蒸镀制备
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