简易匀胶机系统研制与应用

主要就简易匀胶机系统的结构设计、控制电路设计、技术特点、工作原理、性能、应用场合、影响质量的关键因素等进行了阐述。

XTJ-200旋转涂胶机的研制

XTJ-200旋转涂胶机是电镀法芯片凸点制造过程中的关键设备之一。XTJ-200旋转涂胶机主要是利用离心力的作用使滴在基片上的溶胶凝胶或其他胶液均匀涂在基片上,主要由机架、旋转系统、自动滴胶系统、旋涂盖、热板、加热盖及控制系统等组成。

一种彩膜光刻胶实验室涂膜均匀性研究

目前旋转涂膜仍是光刻胶实验室评价最主要的方法。从玻璃基板的尺寸、匀胶设备及人员作业细节等方面研究如何有效提升实验室光刻胶评价时涂膜的均匀性及重复性,确保检测数据的稳定性、准确性。其中在玻璃基板的尺寸从8 cm*8 cm变为15 cm*15 cm,同时在旋涂设备设置Slope时,涂膜均一性由6.5%提升至1.5%的水平,满足客户对高品质光刻胶的检测要求。