基于磁控溅射系统的大尺寸Ga_(2)O_(3)薄膜沉积模型与性能研究

薄膜型Ga_(2)O_(3)光电探测器具有成本低廉、性能优异、可重复性高等优点,实现Ga_(2)O_(3)薄膜大尺寸均匀生长对批量制备薄膜型Ga_(2)O_(3)光电探测器具有重要意义。为了实现大尺寸Ga_(2)O_(3)薄膜的高效生长,采用Matlab软件对磁控溅射系统中倾斜圆形平面靶与旋转水平工作台上Ga_(2)O_(3)薄膜沉积模型进行了仿真,分析了靶基距和溅射靶转动角度对薄膜性能的影响,并进行了实验验证。结果表明:靶基距的增加会提高沉积薄膜的均匀性,在一定的靶基距下溅射靶转动角度的增加会使薄膜均匀性先提高后降低,Ga_(2)O_(3)薄膜均匀性实验分析结果与仿真结果基本一致;在靶基距为100 mm、溅射靶转动角度为35°的条件下,在蓝宝石衬底上沉积得到了平均厚度偏差为1.27%的Ga_(2)O_(3)薄膜;以沉积的薄膜批量制备Ga_(2)O_(3)光电探测器,得到的光电探测器对254 nm的光源具有基本一致的光响应。该研究为大批量制备高质量Ga_(2)O_(3)薄膜探测器提供了一定的理论依据。

小靶材实现大平面基片均匀性膜层沉积的方法

常规的实验用磁控溅射设备,其固定的靶基工况,导致膜层均匀性区域有限,只能用于较小基片上膜层的沉积。提出一种新的方法,将靶材固定,基片自转或公自转工位变更为靶材可移动,基片自转的方式,并控制靶材的移动及基片自转速率的调节,可以用较小的靶材在较大平面上沉积膜层,所制备膜层具有良好的膜厚均匀性;建立了计算模型,分析了小靶材实现大平面基片均匀性膜层沉积的途径;在Φ260 mm的平片上进行了Ge膜的实际制备,证实了上述思路的可行性。

广西农田水利规划灌溉面积及灌区布局分析

广西现有耕地面积6538万亩,有效灌溉面积2583万亩,其中30万亩以上的灌区343万亩,1万亩以上的中型灌区795万亩,1万亩以下的小型灌区1445万亩。本文以最严格水资源管理制度控制下的灌溉可供水量为约束,结合灌溉水利用系数、灌溉净定额、规划种植结构等分析成果,按以水定地的原则,合理规划广西全区灌溉面积,结合各设区市的发展需求及条件,科学布局大中小型灌区。

提高平板显示屏镀膜应用中的靶材利用率

平板显示屏的经济生产，不仅要求可靠的工艺技术，而且绝对要求较高的靶利用率。本文介绍了在保持ＩＴＯ工艺的标准阴极法所获得的膜特性基础上，用移动磁场的方法可以获得＞５０％的靶利用率。