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将平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置
1
作者
范洪远
张西鹏
+4 位作者
沈保罗
邢忠虎
龙冲生
邱绍宇
邹红
《新技术新工艺》
2007年第9期78-80,共3页
采用在真空室内加旋转筒的方法,将某平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置。运行结果表明,利用筒体旋转的方法,可以在粒度100μm左右的微粒表面包覆均匀完整的铬膜层,微粒形状对表面涂层的均匀、完整、涂层速度等有重要影响,微粒被筒体...
采用在真空室内加旋转筒的方法,将某平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置。运行结果表明,利用筒体旋转的方法,可以在粒度100μm左右的微粒表面包覆均匀完整的铬膜层,微粒形状对表面涂层的均匀、完整、涂层速度等有重要影响,微粒被筒体带动的力主要为二者间的分子间作用力,离心力起的作用很小。若将用于平面镀涂的溅射装置改造为处理微粒,需对溅射装置中的溅射靶和真空系统进行较大的改造。
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关键词
溅射装置
改造
微粒
铬膜层
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职称材料
题名
将平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置
1
作者
范洪远
张西鹏
沈保罗
邢忠虎
龙冲生
邱绍宇
邹红
机构
四川大学制造学院
核燃料及材料国家级重点实验室
出处
《新技术新工艺》
2007年第9期78-80,共3页
基金
核燃料及材料国家级重点实验室基金(51481080101SC0101)资助
文摘
采用在真空室内加旋转筒的方法,将某平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置。运行结果表明,利用筒体旋转的方法,可以在粒度100μm左右的微粒表面包覆均匀完整的铬膜层,微粒形状对表面涂层的均匀、完整、涂层速度等有重要影响,微粒被筒体带动的力主要为二者间的分子间作用力,离心力起的作用很小。若将用于平面镀涂的溅射装置改造为处理微粒,需对溅射装置中的溅射靶和真空系统进行较大的改造。
关键词
溅射装置
改造
微粒
铬膜层
Keywords
sputtering equipment
,
altering
,
chromium films
,
particulates
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
将平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置
范洪远
张西鹏
沈保罗
邢忠虎
龙冲生
邱绍宇
邹红
《新技术新工艺》
2007
0
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职称材料
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