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将平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置
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作者 范洪远 张西鹏 +4 位作者 沈保罗 邢忠虎 龙冲生 邱绍宇 邹红 《新技术新工艺》 2007年第9期78-80,共3页
采用在真空室内加旋转筒的方法,将某平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置。运行结果表明,利用筒体旋转的方法,可以在粒度100μm左右的微粒表面包覆均匀完整的铬膜层,微粒形状对表面涂层的均匀、完整、涂层速度等有重要影响,微粒被筒体... 采用在真空室内加旋转筒的方法,将某平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置。运行结果表明,利用筒体旋转的方法,可以在粒度100μm左右的微粒表面包覆均匀完整的铬膜层,微粒形状对表面涂层的均匀、完整、涂层速度等有重要影响,微粒被筒体带动的力主要为二者间的分子间作用力,离心力起的作用很小。若将用于平面镀涂的溅射装置改造为处理微粒,需对溅射装置中的溅射靶和真空系统进行较大的改造。 展开更多
关键词 溅射装置 改造 微粒 铬膜层
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