Nafion复合铋膜修饰丝网印刷电极测定痕量镉离子

制备了Nafion修饰的丝网印刷电极,并用于同位镀铋膜法测定痕量重金属离子Cd2＋.将Nafion溶液滴涂在丝网印刷电极表面制得修饰电极.在含Bi3的0.1 mol/L醋酸缓冲溶液（pH为4.7）中,将Bi3＋与Cd2＋共同电沉积在修饰电极表面,再以方波阳极溶出伏安法（SWSV）检测Cd2＋的浓度.优化了镀膜条件,考察了Nafion膜厚度及Bi3＋浓度对溶出电流的影响.在优化的条件下,0～ 100 μg/L质量浓度范围内Cd2＋浓度与溶出峰电流呈现良好的线性关系,检出限为1 μg/L,重现性良好,可用于大米中痕量重金属离子Cd2＋的快速测定.

方波溶出伏安法同时测定废水中微量的锌、镉、铅和铜

报道了用方波溶出伏安法同时测定废水中微量锌、镉、铅和铜的一种方法.在浓度为0.15mol/L,pH=5.0的氯化铵分散体系中,温度18℃的条件下,Zn2+、Cd2+、Pb2+和Cu2+均灵敏地产生溶出峰,峰位分别为:-1.13V、-0.72V、-0.50V、-0.22V(vs,S.C.E).线性范围分别为2×10-7～2×10-5、2×10-7～2×10-5、1×10-7～2×10-5和5×10-7～5×10-5mol/L,检测限为2×10-8～2×10-7mol/L,回收率为87.7～102.4%.

芦丁的方波溶出伏安行为及其分析检测

应用方波溶出伏安法研究了芦丁在0．1mol·L^-1 HAc-NaAc缓冲溶液中于玻碳电极上的电化学行为．考察了溶液酸度、沉积电位、沉积时间等因素对芦丁方波溶出伏安行为的影响，优化了实验参数．结果表明，在pH3．0的HAc-NaAc缓冲溶液中，芦丁在-0．46V产生溶出峰，峰电流与芦丁的浓度在5．0×10^-8 mol·L^-1～1．0×10^-6 mol·L^-1范围内呈现良好的线性关系，相关系数0．99799，检测限1．1×10^-8 mol·L^-1．可用于药剂中芦丁含量的测定．

方波溶出伏安法快速测定染发剂中对苯二胺

采用循环伏安法研究了对苯二胺在铂电极上的电化学行为。实验发现,在0.1 mol/LpH=6.0的磷酸盐缓冲溶液中,对苯二胺能在铂盘电极上产生良好的氧化还原峰,对苯二胺氧化还原峰峰电位分别为＋0.25 V和＋0.19 V（vs.Ag/AgC l,饱和KC l溶液）。考察了扫描速度和pH对峰电位和峰电流的影响,结果表明对苯二胺在铂盘电极上的电极反应属于等电子等质子反应,反应过程受吸附控制。基于此建立了方波溶出伏安法快速测定染发剂中对苯二胺的分析方法。该方法具有分析时间短、操作简单等优点。该方法的线性范围为3.24-108.14 mg/L,R=0.9990,检出限为1.1mg/L,浓度为43.2 mg/L时相对标准偏差（n=11）为1.57%,对4种市售染发剂中对苯二胺含量进行了测定,结果满意。

方波溶出伏安法同时测定水体中的重金属

应用方波溶出伏安法同时测定水体中几种微量重金属离子浓度,在浓度为8.0g/L的氯化铵底液中,合适的条件和参数下,Mn2+、Zn2+、Hg2+均灵敏地产生溶出峰。峰电位分别为:-1.94V、-1.05V、1.31V。此方法灵敏度高,检测限低,重现性好,适合进行微量重金属离子的快速同时检测。

方波溶出法分析铜锌含量的研究

应用方波溶出伏安法,玻炭汞膜电极为工作电极对铜、锌测定进行了研究。在NH3-NH4Cl体系中,得出铜对锌测定最低影响浓度为5×10-6 mol/L,低于此浓度时,适合单一锌离子标准曲线ip(10-6A)=0.609 1 c(10-5 mol/L)+4.1495,r=0.995 4;锌对铜测定最低影响浓度为5×10-3mol/L,铜在含锌5×10-5 mol/L时适用标准曲线ip(10-5A)=0.662 2 c(10-5 mol/L)+0.966 5,r=0.995 2,铜在含锌低于10-7 mol/L时适用单一铜离子的标准曲线ip(10-5A)=0.891 2 c(10-5mol/L)+0.848 5,r=0.992 0,同时测得回收率为94%～97%。

方波溶出伏安法同时测定食盐中的痕量铅、镉

在4%的盐酸介质中,应用方波溶出伏安法,在电位-0.508V、-0.712V附近分别产生铅和镉的灵敏溶出峰,方法线性良好,具有简便、快速、灵敏度高的优点,以连续标准加入法定量分析,可适用于食盐中痕量铅、镉的连续分析检测。