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PECVD氯化硅介质膜Si／N比值的工艺监控
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作者 李惠军 龙莹山 武广栋 《山东科学》 CAS 1995年第1期14-17,共4页
本文介绍了作者在微电子工艺ＰＥＣＶＤ氮化硅制备过程中对其Ｓｉ／Ｎ比值进行测定及工艺监控的技术手段和方法．
关键词 钝化工艺 氮化硅 硅/氮 PECVD 薄膜 集成电路
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