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铜(Ⅱ)存在下痕量巯基醋酸钠的吸附伏安法研究 被引量:1
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作者 朱亚尔 孙缨 包晓莹 《浙江医科大学学报》 CSCD 1997年第3期103-107,共5页
作者以悬汞电极研究了铜(Ⅱ)存在下,痕量巯基醋酸钠(SMA)的差分脉冲吸附伏安行为,认为其电极过程为化学反应-吸附富集-电极反应,即CAE过程,并通过电子转移数、反应氢离子数、络合比的测定,提出了可能的电极反应方程式。在选定... 作者以悬汞电极研究了铜(Ⅱ)存在下,痕量巯基醋酸钠(SMA)的差分脉冲吸附伏安行为,认为其电极过程为化学反应-吸附富集-电极反应,即CAE过程,并通过电子转移数、反应氢离子数、络合比的测定,提出了可能的电极反应方程式。在选定的Britton-Robinson(pH3.4)溶液中,在过量的Cu(Ⅱ)存在下,巯基醋酸钠吸附还原峰峰形敏锐,其线性范围为1.0×10-9~1.0×10-7mol/L,富集10min,其检测限降低至20×10-10mol/L。用于人发、指甲试样的测定,结果令人满意。 展开更多
关键词 头发 指甲 吸附伏安法 巯基醋酸钠
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