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Selection diagram of design algorithms for neutron-focusing supermirrors
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作者 Wen-Bo Mo Hua-Rui Wu Xue-Wu Wang 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第8期106-117,共12页
The neutron supermirror is an important neutron optical device that can significantly improve the efficiency of neutron transport in neutron guides and has been widely used in research neutron sources.Three types of a... The neutron supermirror is an important neutron optical device that can significantly improve the efficiency of neutron transport in neutron guides and has been widely used in research neutron sources.Three types of algorithms,including approximately ten algorithms,have been developed for designing high-efficiency supermirror structures.In addition to its applications in neutron guides,in recent years,the use of neutron supermirrors in neutronfocusing mirrors has been proposed to advance the development of neutron scattering and neutron imaging instruments,especially those at compact neutron sources.In this new application scenario,the performance of supermirrors strongly affects the instrument performance;therefore,a careful evaluation of the design algorithms is needed.In this study,we examine two issues:the effect of nonuniform film thickness distribution on a curved substrate and the effect of the specific neutron intensity distribution on the performance of neutron supermirrors designed using existing algorithms.The effect of film thickness nonuniformity is found to be relatively insignificant,whereas the effect of the neutron intensity distribution over Q(where Q is the magnitude of the scattering vector of incident neutrons)is considerable.Selection diagrams that show the best design algorithm under different conditions are obtained from these results.When the intensity distribution is not considered,empirical algorithms can obtain the highest average reflectivity,whereas discrete algorithms perform best when the intensity distribution is taken into account.The reasons for the differences in performance between algorithms are also discussed.These findings provide a reference for selecting design algorithms for supermirrors for use in neutron optical devices with unique geometries and can be very helpful for improving the performance of focusing supermirror-based instruments. 展开更多
关键词 Neutron-focusing supermirror Design algorithm Thickness nonuniformity Intensity distribution over Q Selection diagram
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Design,fabrication and characterization of the X-ray supermirrors 被引量:2
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作者 WANG Zhanshan WANG Fengli +3 位作者 ZHANG Zhong CHENG Xinbin QIN Shuji CHEN Lingyan 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2005年第5期559-574,共16页
The design,fabrication and characterization of the X-ray supermirrors are discussed in this paper.Using the local optimization method of simplex algorithm and the global one of simulated annealing algorithm with diffe... The design,fabrication and characterization of the X-ray supermirrors are discussed in this paper.Using the local optimization method of simplex algorithm and the global one of simulated annealing algorithm with different initial multilayer structures,we designed the broad angular band supermirrors with different grazing incidence angle intervals at the energy of 8.0 keV(the Kαline of Cu)and the broad energetic band supermirrors with different energy intervals at fixed grazing incidence angles.The fabricating techniques for depositing non-periodic multilayers are also studied.The W/C and W/Si supermirrors are deposited on silicon substrates and characterized by a high resolution X-ray D1 diffractometer from Bede Company,UK.Choosing the interface roughness and the densities of the materials as independent variables,some measured reflectivity curves are fitted using the Debye-Waller factor with interface roughness.The experimental results show that the optical performances of the fabricated supermirrors are in agreement with the designed ones. 展开更多
关键词 X-RAY supermirror magnetron sputter MULTILAYER reflectivity.
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宽角度X射线超反射镜的设计 被引量:10
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作者 张众 王占山 +2 位作者 秦树基 王凤丽 陈玲燕 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期253-256,共4页
阐述了一种新的X射线超反射镜的设计方法 .该方法将Frensnel反射系数公式和单纯形调优法相结合 ,可以设计出满足不同要求的X射线超反射镜 .依据周期多层膜确定膜层数 ,给出了一种确定超反射镜膜层数的方法 .设计了在铜 (Cu)的Kα线下 ,... 阐述了一种新的X射线超反射镜的设计方法 .该方法将Frensnel反射系数公式和单纯形调优法相结合 ,可以设计出满足不同要求的X射线超反射镜 .依据周期多层膜确定膜层数 ,给出了一种确定超反射镜膜层数的方法 .设计了在铜 (Cu)的Kα线下 ,具有不同掠入射角宽度的多种钨(W ) /碳 (C)超反射镜 .设计中考虑了多层膜结构的界面粗糙度和相互扩散对多层膜反射性能的影响 ,并做了模拟计算 .实验结果表明 :用这种方法设计X射线超反射镜优于现有的其他方法 . 展开更多
关键词 X射线超反射镜 多层膜 单纯形调优
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X射线超反射镜设计 被引量:8
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作者 张众 王占山 +2 位作者 王风丽 秦树基 陈玲燕 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2003年第1期49-54,共6页
阐述了一种新的X射线超反射镜的设计方法 ,它是基于经验理论公式的解析设计方法和基于计算机的数值优化设计方法相结合的产物。利用前者提供比较好的初始膜系 ,再利用后者对该初始膜系进行优化处理 ,从而获得比较好的设计结果 ,并大大... 阐述了一种新的X射线超反射镜的设计方法 ,它是基于经验理论公式的解析设计方法和基于计算机的数值优化设计方法相结合的产物。利用前者提供比较好的初始膜系 ,再利用后者对该初始膜系进行优化处理 ,从而获得比较好的设计结果 ,并大大减少了计算时间。讨论了实际制作出的多层膜存在的表面粗糙度及膜层材料间的相互扩散对多层膜反射性能的影响 ,并给出了模拟计算的结果。依据上述方法 ,在比较大的掠入射角情况下 ,设计出了具有较宽反射带宽的W /CX射线超反射镜。 展开更多
关键词 X射线超反射镜 梯度多层膜 单纯形调优
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X射线Kirkpatrick-Baez显微镜用超反射镜的研制 被引量:5
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作者 顾春时 王占山 +4 位作者 王风丽 张众 穆宝忠 秦树基 陈玲燕 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1095-1098,共4页
介绍了一种可应用于X射线Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的光学元件X射线超反射镜。选用的W和B4C作为镀膜材料,膜对数为20,采用单纯型调优的方法实现了X射线超反射镜设计,用磁控溅射的方法在Si基片上完成了W/B4C X射线超反射镜的制备。采... 介绍了一种可应用于X射线Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的光学元件X射线超反射镜。选用的W和B4C作为镀膜材料,膜对数为20,采用单纯型调优的方法实现了X射线超反射镜设计,用磁控溅射的方法在Si基片上完成了W/B4C X射线超反射镜的制备。采用高分辨率X射线衍射仪(8 keV)测量了X射线超反射镜的反射特性。制备的X射线超反射镜在掠入射角分别为1.052°和1.143°处,反射角度带宽为0.3°,反射率达到20%,可满足KB型显微镜的要求。 展开更多
关键词 多层膜 X射线超反射镜 KB型显微镜 磁控溅射 反射
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中子超镜的优化设计 被引量:6
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作者 张众 王占山 +1 位作者 吴永荣 陈玲燕 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期84-88,共5页
中子超镜的主要光学性能指标是反射临界角,反射临界角通常由镍块体材料的全反射临界角的倍数m来表征。本文采用增加帽层、优化关键参数和引入新设计参数的方法,弥补了中子超镜算法在m≤1区域内的局限性,实现了包含较少膜对数K的大m值中... 中子超镜的主要光学性能指标是反射临界角,反射临界角通常由镍块体材料的全反射临界角的倍数m来表征。本文采用增加帽层、优化关键参数和引入新设计参数的方法,弥补了中子超镜算法在m≤1区域内的局限性,实现了包含较少膜对数K的大m值中子超镜结构设计。利用Nevot-Croce模型模拟了多层膜的非理想界面,讨论了多层膜表界面粗糙度对超镜反射特性的影响。结果表明,对m=3的Ni/Ti中子超镜仅需200个膜对,在制作工艺上,要求制备m=3的Ni/Ti超镜的膜层界面粗糙度应小于1.5 nm,以保证其反射率不低于80%。 展开更多
关键词 中子超镜 多层膜 全反射临界角 粗糙度
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冷中子导管模拟和参数优化计算 被引量:3
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作者 黄朝强 宋建明 +2 位作者 李新喜 夏庆中 陈波 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第12期905-909,共5页
根据冷中子源及后续中子导管的布局参数,采用蒙特卡罗方法模拟计算了冷中子导管C3出口处中子束均匀性、准直性及注量率等数据。优化表明:a)冷源与后续导管入口间距离应尽可能短;b)中子注量率及发散度均随导管超镜因子m值增大,m值由1.5增... 根据冷中子源及后续中子导管的布局参数,采用蒙特卡罗方法模拟计算了冷中子导管C3出口处中子束均匀性、准直性及注量率等数据。优化表明:a)冷源与后续导管入口间距离应尽可能短;b)中子注量率及发散度均随导管超镜因子m值增大,m值由1.5增至3.0,其Y方向发散度增大24%,注量率提高61%;c)垂直于导管弯曲面方向的发散可以用高斯分布来描述,而导管偏转方向则呈条纹状发散;d)在m=1.5、冷源与堆内导管入口距离为2.29m情况下,束流垂直发散宽度为0.86°,中子注量率为2.44×107cm–2·s–1。 展开更多
关键词 冷中子导管 超镜 中子束表征 冷中子源 蒙特卡罗模拟
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中子反射谱仪的闸门与会聚导管组合设计 被引量:2
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作者 李新喜 王燕 +1 位作者 黄朝强 陈波 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期2983-2989,共7页
为提高水平散射几何中子反射谱仪的前端束流特性,针对前端闸门与会聚中子导管的组合设计进行了优化计算。根据闸门通道截面、会聚导管入、出口截面及相应内表面超镜因子不同分成多组,采用数值方法对多个组合设计进行优化计算。结合水平... 为提高水平散射几何中子反射谱仪的前端束流特性,针对前端闸门与会聚中子导管的组合设计进行了优化计算。根据闸门通道截面、会聚导管入、出口截面及相应内表面超镜因子不同分成多组,采用数值方法对多个组合设计进行优化计算。结合水平散射几何中子反射谱仪的客观需求进行比较分析,选取比较理想的组合。计算结果表明:会聚导管的最佳组合是采用水平面会聚,垂直面不会聚,而闸门内表面超镜因子选为2,会聚导管水平面超镜因子为3,垂直面超镜因子为2。通过多组比较分析,获得了水平散射几何中子反射谱仪的前端闸门与会聚导管的相关物理参数的优化组合,为谱仪的概念设计奠定了基础。 展开更多
关键词 中子反射谱仪 闸门 会聚导管 超镜因子 组合优化
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中子薄膜器件与光学系统的研究进展 被引量:1
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作者 张众 张琪雅 +5 位作者 何佳莲 伊圣振 王占山 黄秋实 王昆 余俊 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第21期2752-2764,共13页
中子散射和衍射是现代科学检测技术的重要领域之一,中子谱仪是实现中子检测的核心装置。中子薄膜器件及其光学系统可以实现中子束传输、聚焦、准直、极化等状态的调制,是构成中子导管、准直器、弯管、极化器、翻转器等中子光学装置的核... 中子散射和衍射是现代科学检测技术的重要领域之一,中子谱仪是实现中子检测的核心装置。中子薄膜器件及其光学系统可以实现中子束传输、聚焦、准直、极化等状态的调制,是构成中子导管、准直器、弯管、极化器、翻转器等中子光学装置的核心器件,可以提升中子传输效率,简化中子光学仪器结构,是中子谱仪功能实现和性能提升的关键。同济大学精密光学工程技术研究所,面向我国各类中子源应用谱仪开发的需求,聚焦中子薄膜器件关键制作技术创新,解决了中子超镜和极化中子薄膜翻转元件的制作问题;以高端薄膜器件支撑了高性能中子光学系统的研制,成功研制出中子导管部件、基于超镜的多层嵌套式中子聚焦系统、高通量高空间分辨率的中子多通道KB聚焦系统,成功应用于国内大型和小型中子源的谱仪装置,支撑了我国小角散射、粉末衍射、自旋回波等中子谱仪的自主研发和升级改造。 展开更多
关键词 中子 超镜 聚焦 导管 翻转器
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中子粉末衍射谱仪导管选型设计与计算 被引量:1
10
作者 谢雷 陈喜平 +3 位作者 刘颖 樊志剑 李新喜 王晓影 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期797-801,共5页
由于中子粉末衍射谱仪新导管需要确定选型,用McStas模拟软件计算了不同宽度和超镜因子的三类弯导管对特定波段中子的传输效率,从中选择了三种传输效率较好又满足现场安装条件的弯曲导管做了更进一步的计算,为了比较不同形状导管的性能... 由于中子粉末衍射谱仪新导管需要确定选型,用McStas模拟软件计算了不同宽度和超镜因子的三类弯导管对特定波段中子的传输效率,从中选择了三种传输效率较好又满足现场安装条件的弯曲导管做了更进一步的计算,为了比较不同形状导管的性能和对谱仪性能的影响,同时也计算了直导管和锥型导管。五种导管对分辨率影响计算中,最小晶格分辨可达3.5‰左右。综合考虑结果表明,选取弯曲导管比较合适。 展开更多
关键词 中子导管 分辨率 注量率 超镜因子
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中子超镜技术及应用 被引量:1
11
作者 刘显坤 郑洲 兰晓华 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第10期1352-1357,1382,共7页
介绍了Ni/Ti多层膜中子超镜的基本原理和特点,概括了中子超镜的研究内容与研究方法,包括理论设计、镀膜工艺、形貌结构和中子反射率及其稳定性评估等,在此基础上对影响中子超镜性能的可能因素及其原因进行了分析,阐述了中子超镜的国内... 介绍了Ni/Ti多层膜中子超镜的基本原理和特点,概括了中子超镜的研究内容与研究方法,包括理论设计、镀膜工艺、形貌结构和中子反射率及其稳定性评估等,在此基础上对影响中子超镜性能的可能因素及其原因进行了分析,阐述了中子超镜的国内外研究现状,展望了其发展趋势。同时,指出现阶段提升中子超镜综合性能的有效方法是进一步提高超镜镀膜基体材料表面的制造精度,优化超镜镀膜工艺过程参数和引入杂质元素来抑制超镜用双分子膜反射材料(Ni/Ti)间的相互扩散。 展开更多
关键词 中子超镜 全反射 临界角 Ni/Ti
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X射线超反射镜的设计与制备 被引量:5
12
作者 王风丽 张众 +4 位作者 吴文娟 王利 王占山 秦树基 陈玲燕 《光学仪器》 2004年第2期136-142,共7页
介绍了一种可用于X射线成像望远镜中的高能X射线反射元件的设计和制备。结合Spiller和Yamamoto方法选择了W、C作为膜层材料,用Yamshita设计方法给出初始膜系,经单纯形调优算法设计出掠入射角为8.7mrad时,对波长范围在0.0475nm~0.0886n... 介绍了一种可用于X射线成像望远镜中的高能X射线反射元件的设计和制备。结合Spiller和Yamamoto方法选择了W、C作为膜层材料,用Yamshita设计方法给出初始膜系,经单纯形调优算法设计出掠入射角为8.7mrad时,对波长范围在0.0475nm~0.0886nm范围内的X射线计算反射率达21%宽波段X射线超反射镜。样品采用高精度磁控溅射方法制备,并用X射线衍射仪(XRD)测得在8.7mrad~15.7mrad内反射率为15%左右。 展开更多
关键词 宽波段超反射镜 单纯形调优 粗糙度 磁控溅射 X射线成像望远镜 X射线超反射镜 设计 制备
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最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响 被引量:3
13
作者 王风丽 张众 +4 位作者 朱京涛 王洪昌 吴文娟 王占山 陈玲燕 《光学仪器》 2006年第4期48-51,共4页
选用能制备小周期的钨/硅(W/S i)作为膜层材料对,着重研究最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响。基于矩阵法计算多层膜反射率和单纯形数值优化方法,设计了入射光子能量为8.0keV,掠入射角的宽度分别为0.85°~1.10°,1... 选用能制备小周期的钨/硅(W/S i)作为膜层材料对,着重研究最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响。基于矩阵法计算多层膜反射率和单纯形数值优化方法,设计了入射光子能量为8.0keV,掠入射角的宽度分别为0.85°~1.10°,1.40°~1.70°的X射线超反射镜。结合实际实验制备技术,考虑了W/S i两种膜层材料的最小成膜厚度,确定了膜堆中最小膜层厚度为0.5nm^1.0nm。通过改变最小膜层厚度的值,优化设计了上述条件下的非周期多层膜并对其光学性能进行比较。结果表明:同一个工作波长下,随着多层膜工作角度(掠入射)的增加,膜堆中膜层的厚度减小,最小膜层厚度对其光学性能的影响增加,其光学性能变差。 展开更多
关键词 非周期多层膜 光学性能 最小膜层厚度 掠入射角 X射线超反射镜
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超镜因子对会聚导管输运特性的影响模拟
14
作者 李新喜 王燕 +1 位作者 黄朝强 陈波 《现代科学仪器》 2009年第5期26-30,共5页
针对水平散射几何中子反射谱仪中导管设计的客观要求,采用Mcstas模拟计算软件对会聚导管内表面超镜因子的不同选择模型进行了模拟计算,获得了不同超镜因子组合模型聚焦导管的中子传输特性。由于水平散射几何中子反射谱仪对中子束流水平... 针对水平散射几何中子反射谱仪中导管设计的客观要求,采用Mcstas模拟计算软件对会聚导管内表面超镜因子的不同选择模型进行了模拟计算,获得了不同超镜因子组合模型聚焦导管的中子传输特性。由于水平散射几何中子反射谱仪对中子束流水平方向发散要求比较严格,导管水平面的超镜因子可选用较大的超镜因子m=3,垂直面的超镜因子可根据要求的发散不同,选择超镜因子小于3的超镜或吸收材料。不同组合设计模型模拟计算结果可为中子散射谱仪设计中子导管以及内表面超镜因子的选择提供理论参考。 展开更多
关键词 会聚中子导管 超镜因子m 模拟计算 选择
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层间扩散对多层膜镜单色器性能的影响
15
作者 李新喜 王燕 +1 位作者 黄朝强 陈波 《现代科学仪器》 2009年第4期81-85,共5页
结合新近发展的多层膜极化超镜涂层材料CoFe/TiZr,采用中子反射实验测量数据,以矩阵方法为基础,对有无考虑层间扩散、表层氧化两种情况进行了进行了理论计算。采用超镜实际结构设计方法(Real Structure Design,RSD),运用双势函数处理模... 结合新近发展的多层膜极化超镜涂层材料CoFe/TiZr,采用中子反射实验测量数据,以矩阵方法为基础,对有无考虑层间扩散、表层氧化两种情况进行了进行了理论计算。采用超镜实际结构设计方法(Real Structure Design,RSD),运用双势函数处理模型,考虑表层氧化,获得了新型超镜涂层材料CoFe/TiZr镀制多层膜镜单色器的工艺要求以及有效中子损失情况。计算结果可为采用CoFe/TiZr作为涂层材料镀制多层膜镜单色器或者多层膜镜单色器的制备及理论设计优化工作提供有价值的参考。 展开更多
关键词 层间扩散 多层膜材料 中子镜单色器
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磁控溅射制备Ni/Ti多层膜表面粗糙度 被引量:5
16
作者 潘磊 朱京涛 +6 位作者 王晓强 蒋励 李浩川 徐敬 张众 王占山 陈玲燕 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1239-1242,共4页
采用磁控溅射方法制备了周期数分别为10,30,50和75的Ni/Ti多层膜,利用X射线掠入射反射测量了多层膜表面和界面的状态,并用原子力显微镜测量了多层膜的表面粗糙度,研究了不同周期数的Ni/Ti多层膜表面粗糙度的变化规律。结果表明:Ni/Ti多... 采用磁控溅射方法制备了周期数分别为10,30,50和75的Ni/Ti多层膜,利用X射线掠入射反射测量了多层膜表面和界面的状态,并用原子力显微镜测量了多层膜的表面粗糙度,研究了不同周期数的Ni/Ti多层膜表面粗糙度的变化规律。结果表明:Ni/Ti多层膜表面粗糙度随着膜层数增加而增加,当Ni/Ti多层膜的周期数从10变化到75时,其表面粗糙度由0.80 nm增大到1.69 nm。实验数据拟合表明:Ni/Ti多层膜表面粗糙度与周期数成3次方关系;但在周期数较小时,粗糙度与周期数成线性关系。 展开更多
关键词 中子超反射镜 粗糙度 原子力显微镜 X射线反射
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基于Mezei算法的FeCo-Si中子多层膜极化镜优化设计 被引量:1
17
作者 王俊杰 张众 王占山 《光学仪器》 2015年第5期461-465,共5页
多层膜极化镜是构成中子极化装置的核心元件,为了实现中子多层膜极化镜的研制,开展了中子多层膜极化镜的设计方法研究。首先阐述了中子多层膜极化镜的原理,基于不同材料的光学特性,提出了中子多层膜极化镜的材料选择方法;其次,介绍了Me... 多层膜极化镜是构成中子极化装置的核心元件,为了实现中子多层膜极化镜的研制,开展了中子多层膜极化镜的设计方法研究。首先阐述了中子多层膜极化镜的原理,基于不同材料的光学特性,提出了中子多层膜极化镜的材料选择方法;其次,介绍了Mezei设计方法,并针对Mezei设计方法的缺陷,分别通过引入新的膜层结构(亚帽层法)和新的设计参数(乘系数法),对原设计方法进行了改进,实现了上旋中子反射率和极化率较为理想的m=2的中子极化超镜的设计。计算结果表明,两种方法均可以提升上旋中子反射率,但都会增加极化镜的膜层数,其中帽层法增加的膜层数相对较少。 展开更多
关键词 中子极化超镜 多层膜 反射率 极化率
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Research of multilayers in EUV, soft X-ray and X-ray 被引量:6
18
作者 WANG Zhan-shan WANG Feng-li ZHANG Zhong WANG Hong-chang WU Wen-juan ZHANG Shu-min XU Yao GU Zhong-xiang CHENG Xin-bin L1 Cun-xia WU Yong-rong WANG Bei QIN Shu-jin CHEN Ling-yan 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期512-518,共7页
To develop beam splitters for soft X-ray laser Michelson interferometer at 13.9 nm, Mo/Si multilayers of 100 nm thickness deposited on both sides of silicon nitride were fabricated by using DC magnetron sputtering. In... To develop beam splitters for soft X-ray laser Michelson interferometer at 13.9 nm, Mo/Si multilayers of 100 nm thickness deposited on both sides of silicon nitride were fabricated by using DC magnetron sputtering. Initial evaluation of their reflectivity and transmission showed that reflectivity and transmission were above 10% and 25%. The broadband analyzers have been designed, fabricated and characterized for 13~20 nm polarization measurements. The measured results are in good agreement with the design. The supermirrors with different angular intervals at 0.154 nm have been designed, fabricated and characterized. 展开更多
关键词 EUV X射线 多层性 激光 宽带 光纤
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Development of Multilayer Optics for the EUV, Soft X-ray and X-ray Regions in Tongji University
19
作者 WANG Zhan-shan ZHU Jing-tao WANG Hong-chang WANG Feng-li CHEN Ling-yan 《光机电信息》 2005年第12期12-21,共10页
In EUV and X- ray regions, multilayer mirrors are the essential and necessary optics elements. The good prospects of the EUV and X- rays for next generation lithography system, microscopy in the “water windows”, ast... In EUV and X- ray regions, multilayer mirrors are the essential and necessary optics elements. The good prospects of the EUV and X- rays for next generation lithography system, microscopy in the “water windows”, astro- nomical telescope, spectroscopy, plasma diagnostics, and X- ray laser have impelled the development of multilayer optics. The paper introduces the recent results of the multilayer optics elements in Tongji University, including beam splitters, broadband/angular polarizers, supermirrors and high- reflectance mirrors. The product of reflectivity and transmissivity is above 4% for the Mo/Si multilayer beam splitter. Over the 15 ̄17 nm wavelength range, the s- re- flectivity of the non- periodic Mo/Si broadband multilayer polarizers is reasonably constant, as high as 36.6%, and the degree of polarization is more than 97.8%. At the fixed energy of 8 keV (Cu Kαline), the W/Si supermirror has the reflectivity of above 30% in the angle range of 0.4° ̄0.85°, and a W/B4C supermirror has the reflectivity of about 20% in the angle range of 0.9° ̄1.2°, and the reflectivity of W/C supermirror working in the grazing incident angle range of 0.9° ̄1.2°is about 20%. The experimental results of some high- reflectance mirrors in our lab are also pre- sented, such as Mo/Si, Mo/Y, Cr/C, La/B4C, Si/C and Si/SiC. The reflectivity of Mo/Si multilayer is as high as 61.1% at wavelength of 13.4 nm. 展开更多
关键词 EUV 软X射线 同济大学 多层膜 应用光学 电子束 宽带偏振器
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超高精细度光学腔中低损耗的测量 被引量:15
20
作者 李利平 刘涛 +2 位作者 李刚 张天才 王军民 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期1401-1405,共5页
对高精细度光学腔的微弱损耗进行了测量 .利用不同扫描速度下的腔衰减振荡信号 ,得到了腔的衰荡时间 .通过与相同镜面组成的超短微腔的直接精细常数的测量对比 ,说明了这种方法的可靠性 .本实验通过对所得到的光腔衰荡信号的衰荡时间、... 对高精细度光学腔的微弱损耗进行了测量 .利用不同扫描速度下的腔衰减振荡信号 ,得到了腔的衰荡时间 .通过与相同镜面组成的超短微腔的直接精细常数的测量对比 ,说明了这种方法的可靠性 .本实验通过对所得到的光腔衰荡信号的衰荡时间、衰荡强度变化进行计算处理得到光学腔的精细度为F =(2 .13± 0 .0 9)× 10 5;得到腔镜的反射率为R =0 .999985 2± 0 .0 0 0 0 0 0 6 ,即腔的总损耗为 (2 9.5 0± 1.2 4 )ppm .由于该腔的线宽在 10 0kHz以下 ,远低于一般的半导体激光器线宽 ,因此可以利用此腔来测其线宽 .实验中测得DBR半导体激光器的线宽为 1.4 9MHz. 展开更多
关键词 高精细度光学腔 光腔衰荡光谱技术 F-P腔 衰荡强度 衰荡时间 反射率 激光器结构 光腔损耗
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