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B含量对(AlSiTiCrNbVB_(x))N薄膜微观结构与性能影响
被引量:
1
1
作者
张军鹏
徐大鹏
+2 位作者
苏霖深
房晓彤
邵文婷
《西安工业大学学报》
CAS
2021年第5期507-514,共8页
为了研究B含量对(AlSiTiCrNbVB_(x))N薄膜微观结构和力学性能的影响,文中采用放电等离子烧结技术制备了B靶,并与AlSiTiCrNbV合金靶材进行镶嵌设计,向真空腔室通入N2进行反应磁控溅射,制备了(AlSiTiCrNbVB_(x))N薄膜,分析了薄膜物相结构...
为了研究B含量对(AlSiTiCrNbVB_(x))N薄膜微观结构和力学性能的影响,文中采用放电等离子烧结技术制备了B靶,并与AlSiTiCrNbV合金靶材进行镶嵌设计,向真空腔室通入N2进行反应磁控溅射,制备了(AlSiTiCrNbVB_(x))N薄膜,分析了薄膜物相结构、元素含量、形貌、成分以及硬度。试验结果表明:随着B元素含量的增加,薄膜由面心立方结构(FCC)转变为非晶结构;当原子数分数x(B)=18.20%时,硬度达62.32 GPa,其硬度接近人造金刚石。
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关键词
磁控溅射
硬质薄膜
靶材镶嵌设计
微观结构
力学性能
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职称材料
题名
B含量对(AlSiTiCrNbVB_(x))N薄膜微观结构与性能影响
被引量:
1
1
作者
张军鹏
徐大鹏
苏霖深
房晓彤
邵文婷
机构
西安工业大学材料与化工学院
出处
《西安工业大学学报》
CAS
2021年第5期507-514,共8页
基金
陕西省重点研发项目(2021GY-230)
陕西省教育厅科研计划项目(21JP053)
中国博士后科学基金(2020M683670XB)。
文摘
为了研究B含量对(AlSiTiCrNbVB_(x))N薄膜微观结构和力学性能的影响,文中采用放电等离子烧结技术制备了B靶,并与AlSiTiCrNbV合金靶材进行镶嵌设计,向真空腔室通入N2进行反应磁控溅射,制备了(AlSiTiCrNbVB_(x))N薄膜,分析了薄膜物相结构、元素含量、形貌、成分以及硬度。试验结果表明:随着B元素含量的增加,薄膜由面心立方结构(FCC)转变为非晶结构;当原子数分数x(B)=18.20%时,硬度达62.32 GPa,其硬度接近人造金刚石。
关键词
磁控溅射
硬质薄膜
靶材镶嵌设计
微观结构
力学性能
Keywords
magnetron sputtering
hard film
target mosaic design
microstructure
mechanical properties
分类号
TG174.453 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
B含量对(AlSiTiCrNbVB_(x))N薄膜微观结构与性能影响
张军鹏
徐大鹏
苏霖深
房晓彤
邵文婷
《西安工业大学学报》
CAS
2021
1
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职称材料
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参考文献
引证文献
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