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Research on the electrical characteristics of an organic thin-film field-effect transistor based on alternating-current resistance
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作者 陈跃宁 徐征 +4 位作者 赵谡玲 尹飞飞 张成文 焦碧媛 董宇航 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第12期385-388,共4页
In this article, an organic thin-film field-effect transistor (OTFFET) with top-gate and bottom-contact geometry based on pentacene as the active layer is fabricated. The experimental data of the I-V are obtained fr... In this article, an organic thin-film field-effect transistor (OTFFET) with top-gate and bottom-contact geometry based on pentacene as the active layer is fabricated. The experimental data of the I-V are obtained from the OTFFET device. The alternating-current (AC) resistance value of the OTFFET device is calculated using the derivation method from the experimental data, and the AC resistance trend curves of the OTFFET device are obtained with the region fitting method. We analyse the characteristics of the OTFFET device with an AC resistance trend curve. To discover whether it has a high resistance, it is proposed to judge the region of the source/drain voltage (VDs) less than the transition voltage, thereby determining whether the contact between the metal electrode and the organic semiconductor layer of the OTFFET device is Ohmic or non-Ohmic. The theoretical analysis shows that the field-effect mobility and the AC resistance are in reverse proportion. Therefore, we point out that reducing AC resistance is necessary if field-effect mobility is to be improved. 展开更多
关键词 organic thin-film field-effect transistor alternating-current resistance Ohmic contact
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不同工艺条件对柔性低温多晶硅薄膜晶体管性能影响
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作者 朱慧 孙烨镕 +4 位作者 李屹林 姚智文 张轶群 张之壤 刘行 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第8期914-920,共7页
为了探究不同工艺对柔性低温多晶硅薄膜晶体管性能的影响,对比了3种不同工艺薄膜晶体管的电学特性和陷阱特性。首先,通过瞬态电流法研究陷阱,运用陷阱对载流子的捕获和释放的特点测量得到瞬态电流曲线,通过分别改变栅压和漏压并结合不... 为了探究不同工艺对柔性低温多晶硅薄膜晶体管性能的影响,对比了3种不同工艺薄膜晶体管的电学特性和陷阱特性。首先,通过瞬态电流法研究陷阱,运用陷阱对载流子的捕获和释放的特点测量得到瞬态电流曲线,通过分别改变栅压和漏压并结合不同温度的陷阱去俘获峰值曲线提取的激活能分析得到不同俘获过程所对应的不同位置的3种陷阱。其次,用仪器测量器件的I-V特性曲线,提取器件的阈值电压V_(TH)、亚阈值摆幅S和迁移率μ进行比对分析。结果显示,样品A2的工艺改善了膜质,降低了器件的阈值电压和关态漏电流,同时降低了栅氧化层的陷阱密度;样品A4的工艺填补了界面和沟道内的悬挂键,优化了器件的迁移率和亚阈值摆幅,同时降低了界面和晶界的陷阱密度。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 陷阱 瞬态电流法 界面陷阱密度 晶界陷阱密度 电学特性
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不同宽长比的柔性LTPS TFT的电应力可靠性
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作者 张之壤 朱慧 +3 位作者 刘行 张轶群 徐朝 郑文轩 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第6期589-595,共7页
为了研究不同宽长比的柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)的电应力可靠性,测试了器件的I-V特性,以表征器件在强电场直流应力下由于自热效应和热载流子效应带来的电学性能退化。通过瞬态电流法表征了器件在强电场直流应力下的时间常数谱... 为了研究不同宽长比的柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)的电应力可靠性,测试了器件的I-V特性,以表征器件在强电场直流应力下由于自热效应和热载流子效应带来的电学性能退化。通过瞬态电流法表征了器件在强电场直流应力下的时间常数谱,并对其产生的新陷阱进行定位,分析了产生陷阱的内在机理。结果表明,在相同的强电场直流应力下宽长比为3/2.5的器件,其电学参数变化最大,自热效应以及热载流子效应带来的影响也最大。自热效应导致器件性能退化的主要原因是较大的栅源电压导致Si/SiO2界面处和栅氧化层中的陷阱增多,而热载流子效应导致器件性能退化的主要原因则是由于较大的漏源电压使得漏极晶界陷阱态密度急剧升高。 展开更多
关键词 柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT) 自热效应 热载流子效应 瞬态电流 强电场直流应力
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A physical surface-potential-based drain current model for polysilicon thin-film transistors
4
作者 李希越 邓婉玲 黄君凯 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2012年第3期32-37,共6页
A physical drain current model of polysilicon thin-film transistors based on the charge-sheet model, the density of trap states and surface potential is proposed.The model uses non-iterative calculations,which are sin... A physical drain current model of polysilicon thin-film transistors based on the charge-sheet model, the density of trap states and surface potential is proposed.The model uses non-iterative calculations,which are single-piece and valid in all operation regions above flat-band voltage.The distribution of the trap states,including both Gaussian deep-level states and exponential band-tail states,is also taken into account,and parameter extraction of trap state distribution is developed by the optoelectronic modulation spectroscopy measurement method. Comparisons with the available experimental data are accomplished,and good agreements are obtained. 展开更多
关键词 polysilicon thin-film transistors surface potential drain current model trap state distribution
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Modeling of current–voltage characteristics for dual-gate amorphous silicon thin-film transistors considering deep Gaussian density-of-state distribution
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作者 秦剑 姚若河 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第12期97-104,共8页
Accounting for the deep Gaussian and tail exponential distribution of the density of states, a physical approximation for potentials of amorphous silicon thin-film transistors using a symmetric dual gate (sDG a-Si:H... Accounting for the deep Gaussian and tail exponential distribution of the density of states, a physical approximation for potentials of amorphous silicon thin-film transistors using a symmetric dual gate (sDG a-Si:H TFT) has been presented. The proposed scheme provides a complete solution of the potentials at the surface and center of the layer without solving any transcendental equations. A channel current model incorporating features of gate voltage-dependent mobility and coupling factor is derived. We show the parameters required for accurately describing the current-voltage (l-V) characteristics of DG a-Si:H TFT and just how sensitively these parameters affect TFT current. Particularly, the parameters' dependence on the I-V characteristics with respect to the density of deep state and channel thickness has been investigated in detail. The resulting scheme and model are successively verified through comparison with numerical simulations as well as the available experimental data. 展开更多
关键词 amorphous silicon thin-film transistor STATES drain current dual gate surface potential density of states Gaussian deep
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a-Si双栅TFT对电泳显示器响应速度的改善 被引量:4
6
作者 杨澍 荆海 +1 位作者 付国柱 马凯 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期565-571,共7页
第一次提出了共栅极双栅结构用于不定形硅薄膜晶体管(a-SiTFTs)的像素结构,通过控制高源漏电压下的过大漏电流,解决有源矩阵电泳显示器(AM-EPD)响应速度慢的问题。文章通过与单栅a-SiTFTs的对比分析,预期到采用等沟道长度双栅结构将在... 第一次提出了共栅极双栅结构用于不定形硅薄膜晶体管(a-SiTFTs)的像素结构,通过控制高源漏电压下的过大漏电流,解决有源矩阵电泳显示器(AM-EPD)响应速度慢的问题。文章通过与单栅a-SiTFTs的对比分析,预期到采用等沟道长度双栅结构将在保持开态电流基本不变的情况下有效减小关态漏电流。SPICE模拟结果证明,双栅结构使关态漏电流减小一倍左右。为了衡量该结构对缩短电泳显示器响应时间的作用,建立了响应时间t与漏电流Ioff之间的函数关系。通过Matlab模拟,证明双栅结构在漏电流为20pA时可将响应时间从380ms降至320ms;漏电流为35pA时可将响应时间从530ms降至360ms,帧频由2Hz提高到3Hz。根据建立的t-Ioff关系,指出降低电泳粒子半径和增大存储电容是进一步提高电泳显示器响应速度的关键。 展开更多
关键词 电泳显示器 不定形硅双栅薄膜晶体管 漏电流 响应时间 SPICE模拟
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一种能有效抑制背光照影响的非晶硅薄膜晶体管 被引量:2
7
作者 王长安 周雪梅 +2 位作者 张少强 赵伯芳 徐重阳 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期100-103,共4页
提出一种能有效抑制背光照影响的非晶硅薄膜晶体管 (a -Si:HTFT)结构。详细地分析了源、漏电极接触区和沟通区内载流子的输运特性。论述了在背光照射下 ,这种结构的TFT能有效抑制关态电流 (Ioff)上升的机理。研究了有源层a -Si:H膜层厚... 提出一种能有效抑制背光照影响的非晶硅薄膜晶体管 (a -Si:HTFT)结构。详细地分析了源、漏电极接触区和沟通区内载流子的输运特性。论述了在背光照射下 ,这种结构的TFT能有效抑制关态电流 (Ioff)上升的机理。研究了有源层a -Si:H膜层厚度对TFT关态电流和开态电流的影响。检测了这种结构TFT在暗态和背光照射下的静态特性。 展开更多
关键词 非晶硅薄膜 薄膜晶体管 背光照射
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非晶硅薄膜晶体管中不饱和输出电流的数值仿真 被引量:5
8
作者 刘远 姚若河 李斌 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期15-18,33,共5页
针对氢化非晶硅薄膜晶体管中的输出电流不饱和现象,采用半导体器件模拟软件对非晶硅薄膜晶体管的输出特性进行了数值仿真,并探讨了不饱和输出电流的产生机理.仿真结果表明:在长沟道器件中,随着漏源电压的增加,体电流的传输机制将转变为... 针对氢化非晶硅薄膜晶体管中的输出电流不饱和现象,采用半导体器件模拟软件对非晶硅薄膜晶体管的输出特性进行了数值仿真,并探讨了不饱和输出电流的产生机理.仿真结果表明:在长沟道器件中,随着漏源电压的增加,体电流的传输机制将转变为空间电荷限制传导,此即为器件中产生不饱和输出电流的主要原因;而在短沟道器件中,还需要同时考虑漏致势垒降低效应的影响. 展开更多
关键词 非晶硅 薄膜晶体管 不饱和输出电流 数值仿真 空间电荷限制传导 漏致势垒降低
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非晶硅薄膜晶体管的泄漏电流模型 被引量:2
9
作者 刘远 姚若河 李斌 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期150-154,共5页
当对a-Si∶H TFT施加较大的漏-栅电压时,其泄漏电流主要取决于空穴在漏端耗尽区内的产生过程以及被有源层内中立陷阱捕获的过程。基于价带空穴和被陷阱所捕获空穴的一维连续性方程,推导出空穴在有源层内纵向传导的逃逸率。通过描述漏端... 当对a-Si∶H TFT施加较大的漏-栅电压时,其泄漏电流主要取决于空穴在漏端耗尽区内的产生过程以及被有源层内中立陷阱捕获的过程。基于价带空穴和被陷阱所捕获空穴的一维连续性方程,推导出空穴在有源层内纵向传导的逃逸率。通过描述漏端耗尽区内空穴的产生率以及在a-Si∶H层内空穴传导的逃逸率,建立了a-Si∶H TFT的泄漏电流模型,并进行了相应验证。 展开更多
关键词 非晶硅薄膜晶体管 泄漏电流 空穴传导 逃逸率
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几种电流型AM OLED像素电路及其电流缩放比的分析 被引量:1
10
作者 王龙彦 王中健 +2 位作者 马仙梅 付国柱 荆海 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期204-209,共6页
分析了4种典型的电流型AM OLED像素驱动电路的工作原理,从中总结出了补偿阈值电压漂移的方法——自动调节存储电容的电压以保证电流不变。着重提出了电流缩放比的定义,对传统结构、电流镜结构、分压结构和电容耦合结构这4种电流型AM OLE... 分析了4种典型的电流型AM OLED像素驱动电路的工作原理,从中总结出了补偿阈值电压漂移的方法——自动调节存储电容的电压以保证电流不变。着重提出了电流缩放比的定义,对传统结构、电流镜结构、分压结构和电容耦合结构这4种电流型AM OLED像素驱动电路的电流缩放比进行了比较和分析。在这4种电路中,电流缩放比依次增大,显示出电流型像素电路在解决电容充电时间问题上的进步与完善。 展开更多
关键词 有源矩阵OLED 电流型像素电路 薄膜晶体管 阈值电压漂移 电流缩放比
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多晶硅薄膜晶体管的电流和电容分析模型(英文) 被引量:1
11
作者 郑学仁 邓婉玲 陈荣盛 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期221-226,共6页
提出一种用于电路模拟的基于表面势的多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFTs)的电流和电容分析模型.采用非迭代方法计算poly-Si TFTs表面势随端电压的变化,从而大大地提高了上述模型的计算效率.基于表面势的解析计算和薄层电荷方法,提出了包括... 提出一种用于电路模拟的基于表面势的多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFTs)的电流和电容分析模型.采用非迭代方法计算poly-Si TFTs表面势随端电压的变化,从而大大地提高了上述模型的计算效率.基于表面势的解析计算和薄层电荷方法,提出了包括小尺寸效应和翘曲效应的电流电压模型.同时,文中还提出了基于电荷的电容模型.电流和电容模型在线性区和饱和区都是连续和准确的,不需要没有物理意义的光滑处理.与实验数据的比较发现,模型和实验数据符合得较好,这也证明了所提出模型的准确性.并且,该模型适用于电路仿真器. 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 表面势 电流模型 电容模型
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非晶硅薄膜晶体管关态电流的物理模型 被引量:1
12
作者 恩云飞 刘远 +2 位作者 何玉娟 师谦 郝跃 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期135-140,共6页
基于器件有源层内纵向电场变化模型,提出了背沟界面能带弯曲量与栅源电压的近似方程,并针对背沟电子传导机制建立器件反向亚阈电流模型;基于空穴的一维连续性方程,提出有源层内空穴逃逸率的物理模型,并针对前沟空穴传导机制建立器件泄... 基于器件有源层内纵向电场变化模型,提出了背沟界面能带弯曲量与栅源电压的近似方程,并针对背沟电子传导机制建立器件反向亚阈电流模型;基于空穴的一维连续性方程,提出有源层内空穴逃逸率的物理模型,并针对前沟空穴传导机制建立器件泄漏电流模型.实验结果验证了所提关态电流物理模型的准确性,曲线拟合良好. 展开更多
关键词 非晶硅 薄膜晶体管 关态电流 泄漏电流 反向亚阈电流
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一种精确的有机薄膜晶体管模型参数提取方法研究
13
作者 尹飞飞 徐征 +4 位作者 赵谡玲 乔泊 张成文 陈跃宁 徐叙瑢 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2017年第4期281-286,共6页
提出了一种可以精确获得有机薄膜晶体管(OTFT)的直流电流-电压模型中的参数提取方法。该方法通过对实验获得的输出特性曲线和转移特性曲线进行计算和处理,精确获得OTFT器件模型中的7个参数。实验制备了两种采用不同绝缘栅的基于并五苯... 提出了一种可以精确获得有机薄膜晶体管(OTFT)的直流电流-电压模型中的参数提取方法。该方法通过对实验获得的输出特性曲线和转移特性曲线进行计算和处理,精确获得OTFT器件模型中的7个参数。实验制备了两种采用不同绝缘栅的基于并五苯的底栅顶接触的OTFT,并对其进行了参数提取。利用提取的参数及直流电流-电压模型对OTFT进行模拟,将模拟结果与实验测试结果相比较发现,模拟得到的输出特性及转移特性与测试结果拟合得很好,验证了本文中参数提取方法的正确性。应用建立的模型及本文中的参数提取方法可以用于OTFT器件的设计与模拟。 展开更多
关键词 有机薄膜晶体管 直流电流-电压模型 参数提取
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OLED有源驱动TFT阵列的一种测试方法
14
作者 刘雪强 张彤 +3 位作者 王丽杰 夏志强 李明友 刘式墉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1161-1164,共4页
提出了一种检测有源驱动OLED TFT阵列的方法,这种电流检测方法是结合TFT的制作工艺进行的.在只增加一块光刻版的情况下,有效地解决了在含有2个TFT的单元像素电路中,检测驱动管困难的难题.这种检测方法能够进行快速的全屏检测,具有精度高... 提出了一种检测有源驱动OLED TFT阵列的方法,这种电流检测方法是结合TFT的制作工艺进行的.在只增加一块光刻版的情况下,有效地解决了在含有2个TFT的单元像素电路中,检测驱动管困难的难题.这种检测方法能够进行快速的全屏检测,具有精度高,对TFT阵列无损伤的特点. 展开更多
关键词 TFT OLED 有源驱动 电流检测 仿真模拟
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多晶硅薄膜晶体管的泄漏电流和噪声模型
15
作者 黄君凯 郑学仁 邓婉玲 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期24-29,35,共7页
为了建立适用于电路仿真器的泄漏区模型,通过泄漏电流、激活能和低频噪声等研究了多晶硅薄膜晶体管的泄漏产生机制.在不同的电场条件下,基于不同的泄漏产生机制,提出了产生-复合率的分区近似计算模型,并统一成适用于1×106~5×1... 为了建立适用于电路仿真器的泄漏区模型,通过泄漏电流、激活能和低频噪声等研究了多晶硅薄膜晶体管的泄漏产生机制.在不同的电场条件下,基于不同的泄漏产生机制,提出了产生-复合率的分区近似计算模型,并统一成适用于1×106~5×108V/m电场范围的泄漏电流模型.同时,建立了中低电场区的激活能模型和泄漏区低频噪声紧凑模型.将模型仿真结果与实验数据进行了比较,证明了所建立模型的有效性,且模型适用于电路仿真器. 展开更多
关键词 多晶硅 薄膜晶体管 泄漏电流 激活能 低频噪声模型
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多晶硅薄膜晶体管泄漏电流建模研究与进展
16
作者 胡云峰 李斌 吴为敬 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期392-396,共5页
泄漏电流是多晶硅薄膜晶体管应用的一个主要问题。多晶硅薄膜晶体管泄漏电流的建模对集成多晶硅薄膜晶体管设计和工艺改进具有重要意义。总结了多晶硅薄膜晶体管泄漏电流建模思想,并对三种基于不同物理机制的典型模型进行了评述,分析讨... 泄漏电流是多晶硅薄膜晶体管应用的一个主要问题。多晶硅薄膜晶体管泄漏电流的建模对集成多晶硅薄膜晶体管设计和工艺改进具有重要意义。总结了多晶硅薄膜晶体管泄漏电流建模思想,并对三种基于不同物理机制的典型模型进行了评述,分析讨论了其优缺点;最后,对当前建模工作进行了总结与展望。 展开更多
关键词 多晶硅 薄膜晶体管 泄漏电流建模
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非晶硅薄膜晶体管室温红外探测器的优化设计
17
作者 刘兴明 方华军 刘理天 《微纳电子技术》 CAS 2007年第7期219-221,共3页
介绍了基于非晶硅薄膜晶体管的室温红外探测器的基本特征及性能指标,对晶体管宽长比对探测器性能的影响进行了理论分析,分析表明,提高晶体管的宽长比可以改善探测器的探测率。为了克服传统微桥结构室温红外探测器成品率低的不足,提出了... 介绍了基于非晶硅薄膜晶体管的室温红外探测器的基本特征及性能指标,对晶体管宽长比对探测器性能的影响进行了理论分析,分析表明,提高晶体管的宽长比可以改善探测器的探测率。为了克服传统微桥结构室温红外探测器成品率低的不足,提出了一种新的热绝缘材料,并将该材料应用到了非制冷红外探测器中,实际制备了探测器单元,对该材料的热绝缘能力进行了验证。 展开更多
关键词 非晶硅薄膜晶体管 非制冷红外探测器 电流温度系数 插指结构
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InGaZnO薄膜晶体管泄漏电流模型 被引量:3
18
作者 邓小庆 邓联文 +3 位作者 何伊妮 廖聪维 黄生祥 罗衡 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第5期219-225,共7页
研究了非晶氧化锌镓铟薄膜晶体管(amorphous InGaZnO thin-film transistor,InGaZnO TFT)的泄漏电流模型.基于Poole-Frenkel热发射效应和热离子场致发射效应的泄漏电流产生机制,分别得到了高电场和低电场条件下的载流子产生-复合率.在... 研究了非晶氧化锌镓铟薄膜晶体管(amorphous InGaZnO thin-film transistor,InGaZnO TFT)的泄漏电流模型.基于Poole-Frenkel热发射效应和热离子场致发射效应的泄漏电流产生机制,分别得到了高电场和低电场条件下的载流子产生-复合率.在此基础上推导得到了InGaZnO TFT的分段式泄漏电流-电压数学模型,并利用平滑函数得到了关断区和亚阈区连续统一的泄漏电流模型.所提出的泄漏电流模型的计算值和TCAD模拟值与实验结果较为吻合.利用所提出的InGaZnO TFT泄漏电流模型和TCAD模拟,讨论了InGaZnO TFT不同的沟道宽度、沟道长度和栅介质层厚度对泄漏电流值的影响.研究结果对InGaZnO TFT集成传感电路的设计具有一定参考价值. 展开更多
关键词 INGAZNO 泄漏电流 thin-film transistor 器件模型
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源漏轻掺杂结构多晶硅薄膜晶体管模拟研究 被引量:3
19
作者 纪世阳 李牧菊 杨柏梁 《液晶与显示》 CAS CSCD 2001年第2期129-134,共6页
采用同型结模型模拟计算了源漏轻掺杂结构的关态漏极电流 ,同时考虑热电子效应修正漏极电流模拟结果 ,使漏极电流降低到 1 0 - 11A量级 ,晶体管的开关电流比值达到 1 0 6量级。模拟研究掺杂区浓度和宽度与多晶硅薄膜晶体管开关电流比的... 采用同型结模型模拟计算了源漏轻掺杂结构的关态漏极电流 ,同时考虑热电子效应修正漏极电流模拟结果 ,使漏极电流降低到 1 0 - 11A量级 ,晶体管的开关电流比值达到 1 0 6量级。模拟研究掺杂区浓度和宽度与多晶硅薄膜晶体管开关电流比的变化关系。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 同型结 热电子 漏电流 源漏轻掺杂结构 高清晰度彩色有源平板显示 模拟研究
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新型有源矩阵有机发光显示电流编程像素电路 被引量:3
20
作者 周雷 张立荣 +2 位作者 宋小锋 吴为敬 姚若河 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期386-391,共6页
提出了一种新型有源矩阵有机发光显示用电流编程型像素驱动电路。该像素电路由3个开关薄膜晶体管、一个驱动薄膜晶体管、一个存储电容和两条控制线构成。仿真结果表明,该4T1C像素电路可以补偿薄膜晶体管阈值电压的非均匀性以及有机发光... 提出了一种新型有源矩阵有机发光显示用电流编程型像素驱动电路。该像素电路由3个开关薄膜晶体管、一个驱动薄膜晶体管、一个存储电容和两条控制线构成。仿真结果表明,该4T1C像素电路可以补偿薄膜晶体管阈值电压的非均匀性以及有机发光二极管阈值电压的漂移,发光电流的平均非均匀性为4.63%。值得指出的是,同传统的电流编程型像素电路相比,本像素电路存储电容的接法可有效提高电路响应速度。此外,还分析了寄生电容对像素电路工作的影响。 展开更多
关键词 有源有机发光二极管 薄膜晶体管 像素电路 电流编程
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