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Influence of In-doping on resistivity of chemical bath deposited SnS films 被引量:3
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作者 葛艳辉 郭余英 +2 位作者 史伟民 邱永华 魏光普 《Journal of Shanghai University(English Edition)》 CAS 2007年第4期403-406,共4页
SnS and SnS:In films were deposited onto glass substrates by chemical bath technique. The structure and surface morphology of the SnS:In films were studied by X-ray diffraction (XRD) and scanning electron microsco... SnS and SnS:In films were deposited onto glass substrates by chemical bath technique. The structure and surface morphology of the SnS:In films were studied by X-ray diffraction (XRD) and scanning electron microscope (SEM) respectively. Energy dispersive spectroscopy (EDS) showed the existence of In in the films. The undoped SnS film exhibited a rather high resistivity and InCl3 could reduce the resistivity of these films by two orders approximately. The band gaps of the SnS and SnS:In films were evaluated from the optical transmission spectra. 展开更多
关键词 tin sulfide chemical bath deposition doping.
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DOPED SnO_2 FILMS GROWN BY THE METALLORGANIC CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION TECHNIQUE
2
作者 罗文秀 任鹏程 谭忠恪 《Chinese Journal of Chemical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 1993年第4期62-65,共4页
1 INTRODUCTIONStannic oxide as a wide-band gap semiconductor(Eg≈3.5eV),has high transparency in thevisible spectral region(index of refraction,n≈1.9)and resistance to acids and bases at roomtemperature.The SnO&l... 1 INTRODUCTIONStannic oxide as a wide-band gap semiconductor(Eg≈3.5eV),has high transparency in thevisible spectral region(index of refraction,n≈1.9)and resistance to acids and bases at roomtemperature.The SnO<sub>2</sub> thin film.the most useful form in application,has been prepared by avariety of physical and chemical deposition processes.It has been found that undoped SnO<sub>2</sub>films have high resistivity(about 10<sup>8--15</sup>Ω·cm)at room temperature[1].For manyapplications requiring not too low sheet resistance。 展开更多
关键词 Metallorganic chemical vapor deposition tin OXIDE DOPED stannic OXIDE FILM thin FILM growth PHOTOELECTROchemical properties
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Influence of Thickness on the Photosensing Properties of Chemically Synthesized Copper Sulfide Thin Films
3
作者 Abhiman Dattatray Dhondge Sunil Rameshgir Gosavi +4 位作者 Narayani Madhukar Gosavi Chatur Pundlik Sawant Amar Maruti Patil Abhijeet Ravsaheb Shelke Nishad Gopal Deshpande 《World Journal of Condensed Matter Physics》 2015年第1期1-9,共9页
We report here the influence of thickness on the photosensing properties of copper sulfide (CuS) thin films. The CuS films were deposited onto glass substrate by using a simple and cost effective chemical bath deposit... We report here the influence of thickness on the photosensing properties of copper sulfide (CuS) thin films. The CuS films were deposited onto glass substrate by using a simple and cost effective chemical bath deposition method. The changes in film thickness as a function of time were monitored. The films were characterized using X-ray diffraction technique (XRD), field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), optical measurement techniques and electrical measurement. X-ray diffraction results indicate that all the CuS thin films have an orthorhombic (covellite) structure with preferential orientation along (113) direction. The intensity of the diffraction peaks increases as thickness of the film increases. Uniform deposition having nanocrystalline granular morphology distributed over the entire glass substrate was observed through FE-SEM studies. The crystalline and surface properties of the CuS thin films improved with increase in the film thickness. Transmittance (except for 210 nm thick CuS film) together with band gap values was found to decrease with increase in thickness. I-V measurements under dark and illumination condition show that the CuS thin films give a good photoresponse. 展开更多
关键词 Copper sulfide (CuS) chemical bath deposition (CBD) Thin Film X-Ray Diffraction (XRD) Field Emission Scanning Electron Microscopy (FESEM) PHOTOSENSITIVITY
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化学水浴法合成硫化铅探测器的红外响应研究
4
作者 杨冬 申钧 +3 位作者 高恺聪 冷重钱 聂长斌 张之胜 《红外技术》 CSCD 北大核心 2023年第6期559-566,共8页
硫化铅探测器具有短波红外高灵敏度、低俄歇噪声等优点,其中化学水浴法合成的硫化铅薄膜可与CMOS半导体工艺兼容,有利于实现低成本高性能的面阵探测器。然而,目前对化学水浴法合成硫化铅探测器的研究主要集中在较大尺寸的单元探测器。... 硫化铅探测器具有短波红外高灵敏度、低俄歇噪声等优点,其中化学水浴法合成的硫化铅薄膜可与CMOS半导体工艺兼容,有利于实现低成本高性能的面阵探测器。然而,目前对化学水浴法合成硫化铅探测器的研究主要集中在较大尺寸的单元探测器。本文基于化学水浴法合成硫化铅薄膜,利用离子束刻蚀工艺,制备了10~200μm尺寸的硫化铅光电探测器,研究了器件光电性能随电阻、长宽比、线宽等参数的变化。结果表明,随着尺寸的减小,硫化铅光电探测器的响应度逐渐增加,在1550 nm短波红外光的照射下,10μm级器件的响应度达到了51.68 A/W,约为200μm级器件的123倍,且在可见光和2.7μm红外波长下也具有良好的宽波段光电响应。本文研究的微米尺寸探测器件可为硫化铅探测器研究提供一定的支撑。 展开更多
关键词 化学水浴法 硫化铅 光电探测器 红外探测器
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化学沉积Mn掺杂ZnO薄膜的结构和光学性能
5
作者 Emine GÜNERI Johnson HENRY +1 位作者 Fatma GÖDE Nilgün KalaycioğluÖZPOZAN 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第3期691-706,共16页
采用化学沉积法制备了纯ZnO和不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜,并对所制备薄膜的结构、形态和光学性能进行了研究。XRD分析显示,所有薄膜都呈六角形结构,但Mn掺杂的ZnO薄膜存在峰移。随Mn掺杂浓度的升高,晶体尺寸增大。Mn掺杂ZnO薄膜表... 采用化学沉积法制备了纯ZnO和不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜,并对所制备薄膜的结构、形态和光学性能进行了研究。XRD分析显示,所有薄膜都呈六角形结构,但Mn掺杂的ZnO薄膜存在峰移。随Mn掺杂浓度的升高,晶体尺寸增大。Mn掺杂ZnO薄膜表面分布不规则颗粒,并呈团聚状。Mn掺杂ZnO薄膜在可见光区表现出更高的透射率,但随着Mn掺杂浓度的升高,透射率逐渐降低。随Mn掺杂浓度的升高,薄膜的带隙减小。Mn掺杂ZnO薄膜在紫外区表现出更高的光导率和导电率。 展开更多
关键词 ZNO 掺杂 薄膜 化学沉积 光导率
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高质量硫化镉薄膜沉积装置的开发与应用
6
作者 黄峰 孙祺 +4 位作者 赵颖 刘晓宇 赵子铭 李博研 钟大龙 《科技资讯》 2023年第15期70-75,共6页
硫化镉薄膜广泛应用于铜铟镓硒太阳能电池的缓冲层中,化学水浴沉积是制备硫化镉薄膜最普遍的方式。由于传统的搅拌式薄膜沉积装置制备的薄膜均匀性较低,该文开发了一种新型振荡式硫化镉薄膜沉积装置,并对其应用范围进行了拓展。该文对... 硫化镉薄膜广泛应用于铜铟镓硒太阳能电池的缓冲层中,化学水浴沉积是制备硫化镉薄膜最普遍的方式。由于传统的搅拌式薄膜沉积装置制备的薄膜均匀性较低,该文开发了一种新型振荡式硫化镉薄膜沉积装置,并对其应用范围进行了拓展。该文对振荡式沉积装置进行了实验与分析,结果表明:该装置可制备出均匀性良好的硫化镉薄膜。同时,该装置可同时适用于刚性和柔性、不同尺寸电池基片的薄膜沉积。该文还对振荡式和搅拌式沉积装置进行了流体仿真模拟,结果表明:振荡式沉积装置的速度场向量分布和速度分布标准差均优于搅拌式沉积装置。 展开更多
关键词 太阳能 硫化镉 化学水浴沉积 薄膜均匀性 沉积装置 模拟仿真计算
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La掺杂对CdS薄膜性能的影响 被引量:7
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作者 田磊 李蓉萍 +5 位作者 冯松 安晓晖 任愿 夏中秋 邹凯 刘永生 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期73-76,共4页
采用化学水浴法在玻璃衬底上制备了纯CdS薄膜和稀土La掺杂的CdS薄膜,在氮气气氛中对薄膜进行热处理。结果表明,未掺杂样品为立方闪锌矿CdS,La掺杂后衍射强峰仍为立方闪锌矿(111)晶向,但出现了微弱的六方纤锌矿结构,而且增强了短波光和... 采用化学水浴法在玻璃衬底上制备了纯CdS薄膜和稀土La掺杂的CdS薄膜,在氮气气氛中对薄膜进行热处理。结果表明,未掺杂样品为立方闪锌矿CdS,La掺杂后衍射强峰仍为立方闪锌矿(111)晶向,但出现了微弱的六方纤锌矿结构,而且增强了短波光和近红外光的透过率,禁带宽度明显减小,同时La的掺入促进S元素百分含量的增加,使Cd/S更接近化学计量比。 展开更多
关键词 CDS薄膜 稀土La掺杂 化学水浴法 光学特性
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化学浴沉积法制备ZnS薄膜 被引量:4
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作者 王应民 张萌 +3 位作者 徐鹏 刘洋文 李禾 徐飞 《南昌大学学报(理科版)》 CAS 北大核心 2006年第3期279-282,共4页
太阳能薄膜电池的ZnS缓冲层一般是采用化学浴沉积法制备。制备ZnS缓冲层过程中,采用氨水为主络合剂,水合肼为辅助络合剂,通过添加少量的分散剂丙三醇,调节沉淀团簇的大小,改善ZnS薄膜质量。薄膜结构和表面组织形貌分别采用X射线衍射仪... 太阳能薄膜电池的ZnS缓冲层一般是采用化学浴沉积法制备。制备ZnS缓冲层过程中,采用氨水为主络合剂,水合肼为辅助络合剂,通过添加少量的分散剂丙三醇,调节沉淀团簇的大小,改善ZnS薄膜质量。薄膜结构和表面组织形貌分别采用X射线衍射仪测试和高性能光学显微镜观察。研究结果表明:在优化配方(ZnSO40.007 5 mol/L;SC(NH2)20.007 5 mol/L;氨水0.44 mol/L;水合肼0.3 mol/L)下,反应温度75℃和沉积时间60m in时,得到的缓冲层光亮、平整。XRD衍射分析结果表明缓冲层主要成分为ZnS,存在少量Zn(OH)2。 展开更多
关键词 化学浴沉积法 ZNS薄膜 XRD
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基板温度对SnO_2:Sb薄膜结构和性能的影响 被引量:7
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作者 谢莲革 汪建勋 +3 位作者 沈鸽 翁文剑 杜丕一 韩高荣 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期411-413,418,共4页
以单丁基三氯化锡(MBTC)和 SbCl3 为反应原料,采用常压化学气相沉积法(APCVD 法)在不同的基板温度下制备 Sb 掺杂 SnO2 薄膜,用 XRD、SEM表征了薄膜的结构和形貌,通过测量薄膜的方块电阻、载流子浓度、霍尔(Hall)系数、紫外可见光谱等性... 以单丁基三氯化锡(MBTC)和 SbCl3 为反应原料,采用常压化学气相沉积法(APCVD 法)在不同的基板温度下制备 Sb 掺杂 SnO2 薄膜,用 XRD、SEM表征了薄膜的结构和形貌,通过测量薄膜的方块电阻、载流子浓度、霍尔(Hall)系数、紫外可见光谱等性质,详细研究了基板温度对薄膜结构和光电性能的影响。实验表明 550℃以上制备的样品为多晶薄膜,并保持四方相金红石型结构;在 650℃下沉积的薄膜具有最低的方块电阻值,为 72Ω/□;在可见光区域薄膜透射率和反射率随着基板温度的提高均有所下降。 展开更多
关键词 APCVD法 Sb掺杂SnO2薄膜 基板温度
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绒面掺氟二氧化锡透明导电膜的制备 被引量:3
10
作者 韩文俊 买光昕 +3 位作者 李斌 魏培海 陈友鹏 李淑英 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1992年第5期101-103,共3页
透明导电膜常见的有ITO(铟锡氧化物),ATO(SnO_2掺Sb),FTO(SnO_2掺F)等。此类透明导电膜被用作制备非晶硅太阳能电池的材料,在电分析化学中用作性能良好的光透电极已取得了可喜的成果。绒面FTO膜具有高电导和高可见光透过性。
关键词 掺杂 SNO2 CVD
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柠檬酸浓度对化学浴沉积硫化铟薄膜形成机理的影响研究 被引量:2
11
作者 高志华 刘晶冰 汪浩 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第9期1685-1690,共6页
以柠檬酸为配位剂,在酸性条件下采用化学浴沉积方法在FTO玻璃衬底上制得硫化铟薄膜,分别采用XRD、SEM、UV等手段对薄膜相结构、形貌和薄膜的透光率进行了表征。结果表明薄膜为立方结构的β-In2S3,薄膜均一连续,呈网状表面形貌,透光率随... 以柠檬酸为配位剂,在酸性条件下采用化学浴沉积方法在FTO玻璃衬底上制得硫化铟薄膜,分别采用XRD、SEM、UV等手段对薄膜相结构、形貌和薄膜的透光率进行了表征。结果表明薄膜为立方结构的β-In2S3,薄膜均一连续,呈网状表面形貌,透光率随厚度增加而递减,带隙宽度介于2.5~2.6 eV之间。主要研究了配位剂的浓度对薄膜形成机理的影响,结果表明:柠檬酸浓度较低时,柠檬酸根与铟离子的配位平衡是整个反应的速控步骤;当柠檬酸浓度较高时,硫代乙酰胺与酸作用生成硫离子的反应是整个反应的速控步骤。 展开更多
关键词 化学浴 薄膜 硫化铟 柠檬酸 形成机理
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化学浴沉积方法制备硫化铟敏化太阳电池及其性能研究 被引量:1
12
作者 朱俊 张耀红 +1 位作者 胡林华 戴松元 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2013年第1期89-94,共6页
硫化铟是一种稳定、低毒性的半导体材料.本文采用低成本的化学浴沉积方法制备了硫化铟敏化太阳电池,X射线衍射(XRD)、光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM)结果表明形成了硫化铟敏化的二氧化钛薄膜.化学浴沉积温度对所得硫化铟敏化薄膜的形... 硫化铟是一种稳定、低毒性的半导体材料.本文采用低成本的化学浴沉积方法制备了硫化铟敏化太阳电池,X射线衍射(XRD)、光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM)结果表明形成了硫化铟敏化的二氧化钛薄膜.化学浴沉积温度对所得硫化铟敏化薄膜的形貌有显著的影响,进而影响电池性能.温度太低时,化学浴沉积反应速率太低,只发生少量沉积;温度太高时,化学浴沉积反应速率较快,硫化铟来不及沉积到二氧化钛多孔薄膜内部.当温度在40°C时,硫化铟沉积均匀性最好,薄膜的光吸收性能最佳,电池的短路电流最大,另外,填充因子达到最佳,为65%,电池总体光电转换效率为0.32%. 展开更多
关键词 硫化铟 敏化 太阳电池 化学浴沉积 复合
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高效CdS量子点敏化B/S共掺杂纳米TiO_2太阳能电池的制备及光电性能研究 被引量:3
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作者 李玲 肖俊莹 +4 位作者 崔米豆 太优一 庞永文 韩松 李晓苇 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期627-633,共7页
采用水热法制备硼硫(B/S)共掺杂纳米二氧化钛(B-S-TiO_2),并配制成浆料,利用丝网印刷技术在FTO导电玻璃上制备B-S-TiO_2薄膜;用化学浴沉积(CBD)法制备了CdS量子点敏化B-S-TiO_2薄膜电极,并用X射线衍射(XRD)、电子显微镜(TEM)、元素分析... 采用水热法制备硼硫(B/S)共掺杂纳米二氧化钛(B-S-TiO_2),并配制成浆料,利用丝网印刷技术在FTO导电玻璃上制备B-S-TiO_2薄膜;用化学浴沉积(CBD)法制备了CdS量子点敏化B-S-TiO_2薄膜电极,并用X射线衍射(XRD)、电子显微镜(TEM)、元素分析能谱(EDS)和紫外–可见光谱对其进行表征分析;结果显示:B/S共掺杂不会改变TiO_2的晶型,掺杂后的TiO_2吸收边带发生明显红移,吸收强度显著增强;同样用化学浴沉积的方法制备Ni S工作电极,用改性的聚硫化物((CH3)4N)2S/((CH3)4N)2Sn)电解液,组装CdS量子点敏化硼硫(B/S)共掺杂纳米二氧化钛(B-S-TiO_2)太阳能电池,并测试电池光电性能。测试结果表明,在AM1.5G的照射下,电池的能量转化效率(η)由3.21%增大到3.69%,提高了14.9%,电池获得高达(Voc)1.218 V的开路电压和3.42 m A/cm2的短路光电流(Jsc),以及高达88.7%的填充因子(ff)。 展开更多
关键词 CdS量子点敏化太阳能电池 B/S共掺杂TiO2 化学浴沉积(CBD) NiS对电极 多硫电解液
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Piranha化学法与化学浴沉积制备Sb_2S_3薄膜 被引量:2
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作者 刘剑 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第12期3318-3322,共5页
采用Piranha化学法与化学浴沉积技术相结合,在玻璃基板上成功制备了Sb2S3薄膜。研究了Piranha溶液不同处理时间对基板表面润湿性的影响,同时研究了Sb2S3薄膜相组成及形貌。结果表明,Piranha溶液能够有效地改善玻璃基板表面的润湿性,当... 采用Piranha化学法与化学浴沉积技术相结合,在玻璃基板上成功制备了Sb2S3薄膜。研究了Piranha溶液不同处理时间对基板表面润湿性的影响,同时研究了Sb2S3薄膜相组成及形貌。结果表明,Piranha溶液能够有效地改善玻璃基板表面的润湿性,当处理时间为25 min时,基板表面润湿角达到最低值12.83°。Piranha溶液处理后的基板对于Sb2S3薄膜的沉积具有积极的诱导作用。沉积得到薄膜经200℃煅烧1 h,由非晶态转变为正交相,薄膜在基板表面以单层球形颗粒平铺堆积生长。 展开更多
关键词 Sb2S3薄膜 化学浴沉积 Piranha化学法
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三元体系化学水浴法制备ZnS薄膜结晶性能的研究
15
作者 王应民 孙云 +3 位作者 蔡莉 杜楠 孙国忠 李禾 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A04期1512-1515,共4页
太阳薄膜电池ZnS缓冲层一般以氨水为主络合剂、水合肼为辅助络合剂二元络合体系化学水浴法制备。实验发现以氨水为主络合剂、水合肼和柠檬酸为辅助络合荆三元体系制备的ZnS薄膜质量明显要比氨水、水合肼二元体系的ZnS薄膜好。薄膜表面... 太阳薄膜电池ZnS缓冲层一般以氨水为主络合剂、水合肼为辅助络合剂二元络合体系化学水浴法制备。实验发现以氨水为主络合剂、水合肼和柠檬酸为辅助络合荆三元体系制备的ZnS薄膜质量明显要比氨水、水合肼二元体系的ZnS薄膜好。薄膜表面更加光亮、平整,光透过率能得到明显提高。从实验现象和测试结果来看,随柠檬酸浓度增加,在反应溶液中无定形态白色沉淀明显减少,ZnS薄膜结晶性能也得到明显提高,ZnS薄膜光透过率升高。柠檬酸浓度为0.15mol/L时,薄膜光透过率达到85%左右,完全满足太阳能电池的要求;继续增加柠檬酸的量,薄膜光透过率趋于一致,光透过率略有回落。 展开更多
关键词 化学浴沉积法 ZNS薄膜 透射光谱 柠檬酸
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稀土元素(Gd,Y)掺杂CdS薄膜的制备及其性能研究
16
作者 邹凯 李蓉萍 +2 位作者 刘永生 冯松 田磊 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期1505-1510,共6页
采用化学水浴法两次沉积CdS,结合电子束真空蒸发法在两层CdS之间引入稀土层,制备含有不同厚度稀土Gd、Y掺杂层的CdS多晶薄膜。利用XRD、SEM、EDX、UV-VIS透射光谱和霍尔效应测试仪对薄膜的晶型、表面形貌、化学组成、光学及电学性能进... 采用化学水浴法两次沉积CdS,结合电子束真空蒸发法在两层CdS之间引入稀土层,制备含有不同厚度稀土Gd、Y掺杂层的CdS多晶薄膜。利用XRD、SEM、EDX、UV-VIS透射光谱和霍尔效应测试仪对薄膜的晶型、表面形貌、化学组成、光学及电学性能进行研究。结果表明:未掺杂的薄膜为沿(111)晶面择优生长的立方相闪锌矿结构,导电类型为n型。含有稀土Gd(Y)掺杂层的CdS多晶薄膜为立方相和六方相的混合结构,导电类型仍为n型,薄膜的均匀性和致密性得到改善,薄膜中Cd和S的原子比更接近CdS的化学计量比,稀土掺杂可提高CdS薄膜在可见光范围内的透过率,使薄膜载流子浓度增大、导电性能明显增强。 展开更多
关键词 CDS薄膜 稀土掺杂 化学水浴法 光学特性
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原位热硫化法制备Cu_3SnS_4纳米薄膜及其光学性质
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作者 崔占奎 周军强 白永顺 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2016年第7期143-144,151,共3页
采用化学水浴法(CBD)制备了Cu_3Sn纳米薄膜,通过原位热硫化法制备了Cu_3SnS_4纳米薄膜。分别采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)与X射线能谱仪(EDS)分析了样品的组成、结构与形貌。采用紫外-可见分光光度计(UV-Vis)测试了Cu_3Sn... 采用化学水浴法(CBD)制备了Cu_3Sn纳米薄膜,通过原位热硫化法制备了Cu_3SnS_4纳米薄膜。分别采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)与X射线能谱仪(EDS)分析了样品的组成、结构与形貌。采用紫外-可见分光光度计(UV-Vis)测试了Cu_3SnS_4样品的光学性质。结果表明,样品物相纯净、形貌均一,Cu3Sn纳米薄膜由球形纳米颗粒组成,Cu_3SnS_4纳米薄膜由片状纳米颗粒组成,Cu_3SnS_4薄膜样品在紫外-可见光区有良好的吸收性质,其光学带隙为1.70eV,适合作为太阳能电池吸收层。 展开更多
关键词 铜锡硫 纳米薄膜 化学水浴法 原位热硫化 光学性质
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基于硅纳米孔柱阵列的Zn掺杂CdS纳米晶光学特性研究
18
作者 张晓丽 刁润丽 李勇 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2018年第2期164-167,共4页
利用化学水浴法在硅纳米孔柱陈列(Si-NPA)上沉积了硫化镉(CdS)纳米晶,制得硫化镉/硅纳米孔柱阵列(CdS/Si-NPA)纳米异质结,并对非掺杂和锌(Zn)掺杂CdS/Si-NPA进行表征。研究结果表明:CdS/Si-NPA的结构保持了Si-NPA的规则阵列结构,通过加... 利用化学水浴法在硅纳米孔柱陈列(Si-NPA)上沉积了硫化镉(CdS)纳米晶,制得硫化镉/硅纳米孔柱阵列(CdS/Si-NPA)纳米异质结,并对非掺杂和锌(Zn)掺杂CdS/Si-NPA进行表征。研究结果表明:CdS/Si-NPA的结构保持了Si-NPA的规则阵列结构,通过加入一定量的氯化锌,实现了Zn对CdS的掺杂,Zn掺杂后的CdS晶粒大小由约18.1nm减小为约17.6nm,Zn的掺入导致了CdS/Si-NPA的光学带隙由约2.45eV增大到约2.49eV,Zn的掺杂能有效调控CdS带隙。 展开更多
关键词 硅纳米孔柱阵列 化学水浴法 Zn掺杂 光致发光谱
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基板温度对常压化学气相沉积法制备TiO_2复合薄膜性能的影响 被引量:8
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作者 林明贤 赵高凌 +4 位作者 汪建勋 翁文剑 刘军波 应益明 韩高荣 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1520-1525,共6页
以Ti(OC_3H_7)_4为先驱体,SnO_2:F镀膜玻璃为基板,采用常压化学气相沉积法制备了TiO_2/SnO_2:F复合薄膜。用扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见一近红外透射光谱等手段对样品的物相和性能进行了研究。结果表明:金红石相的SnO_2:F底膜促进了... 以Ti(OC_3H_7)_4为先驱体,SnO_2:F镀膜玻璃为基板,采用常压化学气相沉积法制备了TiO_2/SnO_2:F复合薄膜。用扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见一近红外透射光谱等手段对样品的物相和性能进行了研究。结果表明:金红石相的SnO_2:F底膜促进了TiO_2金红石相的形成:当基板温度为480℃时。TiO_2/SnO_2:F复合薄膜出现针状结构。但随着基板温度继续升高,针状结构消失。样品的可见光透过率随基板温度而变化,其值为60%~90%,基本满足建筑物的采光要求。当基板温度为530℃时,TiO_2/SnO_2:F复合薄膜的光催化性能最好。 展开更多
关键词 二氯化钛 掺氟二氧化锡 常压化学气相沉积 节能 光催化性
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镀SiO_2膜玻璃基片上化学气相沉积法制备SnO_2:Sb薄膜 被引量:3
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作者 周祥 赵青南 +1 位作者 王鹏 赵修建 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期600-605,共6页
采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2(antimony-dopedtinoxide,ATO)薄膜。研究了基板温度、基板输送速度和氮气流量对ATO薄膜结构和性能的影响。用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪、紫外-可见... 采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2(antimony-dopedtinoxide,ATO)薄膜。研究了基板温度、基板输送速度和氮气流量对ATO薄膜结构和性能的影响。用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪、紫外-可见光谱仪、双光束红外分光光度计对薄膜的结构、形貌和成分进行了表征。结果表明:沉积温度为490℃以上时,薄膜主要以四方相金红石结构存在。随着基板输送速度的提高,薄膜择优取向由(110)转变为(200)。薄膜中掺杂的Sb以Sb5+的形式存在;当基板温度为530℃时,薄膜表面的C没有完全燃尽,以C-O形式存在于薄膜中。薄膜的可见光透过率随基板温度的升高而增大。具有(110)择优取向的薄膜的红外反射性能较好。 展开更多
关键词 锑掺杂氧化锡薄膜 化学气相沉积 基板温度 基板输送速度 择优取向
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