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直流电法与多道瞬态面波法在电力工程地质分层中的应用
1
作者
单波
李党民
周碧霄
《电力勘测设计》
2024年第1期57-62,共6页
在电力行业中,随着勘察技术的不断发展,岩土工程勘察手段也在逐渐增加,物探技术中的直流电法、多道瞬态面波法等方法都可以有效应用在地质分层中。其中直流电法利用的是地层的电性差异,采用加密极距、作图法,直观快捷;多道瞬态面波法利...
在电力行业中,随着勘察技术的不断发展,岩土工程勘察手段也在逐渐增加,物探技术中的直流电法、多道瞬态面波法等方法都可以有效应用在地质分层中。其中直流电法利用的是地层的电性差异,采用加密极距、作图法,直观快捷;多道瞬态面波法利用弹性波差异,通过频散曲线的波速不同划分地层,绘制速度剖面,更为清晰地判断地层分布,通过对比孔试验,以及多个测点的验证结果表明,这2种物探方法可以作为有效的工程勘察手段。
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关键词
直流电法
多道瞬态面波法
地质分层
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职称材料
综合物探技术在园博园湿地垃圾坑勘察中的应用
被引量:
7
2
作者
杨良权
李波
+2 位作者
彭涛
晋凤明
高焕芝
《工程勘察》
2013年第2期88-95,共8页
园博园是永定河平原城段沿河生态绿色发展带主要的规划公园之一,也是2013年第九届北京国际园林博览会的举办场所,同时园博园湿地还起到再生水净化入河的作用,但是园博园工程区内有大量分布不明的垃圾坑,使设计工作无法正常开展。为了圈...
园博园是永定河平原城段沿河生态绿色发展带主要的规划公园之一,也是2013年第九届北京国际园林博览会的举办场所,同时园博园湿地还起到再生水净化入河的作用,但是园博园工程区内有大量分布不明的垃圾坑,使设计工作无法正常开展。为了圈定不明垃圾坑的范围,经现场试验研究,决定采用高密度电法、高密度地震映像法、多道瞬态面波法相结合的手段进行勘探,三种方法相互验证、相互补充,探测效果良好,准确查明了垃圾坑的分布及产状,查清了垃圾坑的主要成分,为设计提供了可靠的数据。综合物探技术在园博园垃圾坑勘察中的成功应用,可为今后城市不明垃圾坑勘察提供参考和借鉴,表明综合物探技术又开拓了新的应用领域,将具有更广阔的发展前景。
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关键词
高密度电法
高密度地震映像法
多道瞬态面波法
试验
垃圾坑
园博园
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职称材料
多道瞬态面波法在工程勘察中的应用
被引量:
5
3
作者
李大虎
李才明
邵昌盛
《内蒙古石油化工》
CAS
2008年第6期123-124,共2页
多道瞬态面波勘探技术是近几年快速发展起来的一种新兴的工程物探方法,将它应用于工程勘察方面具有很好的效果。本文介绍了面波的主要特性和勘探原理以及资料的整理解释方法,最后列举了具体的勘察实例进行了分析。
关键词
面波勘探
多道瞬态面波法
弹性波
频散曲线
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职称材料
瞬态面波法的数据采集处理系统及其应用实例
被引量:
144
4
作者
刘云祯
王振东
《物探与化探》
CAS
CSCD
1996年第1期28-34,共7页
本文介绍我国研制开发的SWS瞬态面波数据采集处理系统的主要技术指标、软件特点与运行环境及工程应用实例,指出多道面波采集系统在发展瞬态面波法方面的关键作用。
关键词
瞬态面波法
处理系统
处理系统
地震勘探
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
题名
直流电法与多道瞬态面波法在电力工程地质分层中的应用
1
作者
单波
李党民
周碧霄
机构
中国电力工程顾问集团西北电力设计院有限公司
出处
《电力勘测设计》
2024年第1期57-62,共6页
文摘
在电力行业中,随着勘察技术的不断发展,岩土工程勘察手段也在逐渐增加,物探技术中的直流电法、多道瞬态面波法等方法都可以有效应用在地质分层中。其中直流电法利用的是地层的电性差异,采用加密极距、作图法,直观快捷;多道瞬态面波法利用弹性波差异,通过频散曲线的波速不同划分地层,绘制速度剖面,更为清晰地判断地层分布,通过对比孔试验,以及多个测点的验证结果表明,这2种物探方法可以作为有效的工程勘察手段。
关键词
直流电法
多道瞬态面波法
地质分层
Keywords
direct current
method
multichannel
transient surface wave method
geological stratification
分类号
P642 [天文地球—工程地质学]
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职称材料
题名
综合物探技术在园博园湿地垃圾坑勘察中的应用
被引量:
7
2
作者
杨良权
李波
彭涛
晋凤明
高焕芝
机构
昆明理工大学国土资源工程学院
北京市水利规划设计研究院
中国有色金属学会
出处
《工程勘察》
2013年第2期88-95,共8页
文摘
园博园是永定河平原城段沿河生态绿色发展带主要的规划公园之一,也是2013年第九届北京国际园林博览会的举办场所,同时园博园湿地还起到再生水净化入河的作用,但是园博园工程区内有大量分布不明的垃圾坑,使设计工作无法正常开展。为了圈定不明垃圾坑的范围,经现场试验研究,决定采用高密度电法、高密度地震映像法、多道瞬态面波法相结合的手段进行勘探,三种方法相互验证、相互补充,探测效果良好,准确查明了垃圾坑的分布及产状,查清了垃圾坑的主要成分,为设计提供了可靠的数据。综合物探技术在园博园垃圾坑勘察中的成功应用,可为今后城市不明垃圾坑勘察提供参考和借鉴,表明综合物探技术又开拓了新的应用领域,将具有更广阔的发展前景。
关键词
高密度电法
高密度地震映像法
多道瞬态面波法
试验
垃圾坑
园博园
Keywords
high density resistivity
method
high density seismic image
method
multichannel
transient surface wave method
testing
rubbish pit
park expo garden
分类号
P631 [天文地球—地质矿产勘探]
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职称材料
题名
多道瞬态面波法在工程勘察中的应用
被引量:
5
3
作者
李大虎
李才明
邵昌盛
机构
成都理工大学信息工程学院
出处
《内蒙古石油化工》
CAS
2008年第6期123-124,共2页
文摘
多道瞬态面波勘探技术是近几年快速发展起来的一种新兴的工程物探方法,将它应用于工程勘察方面具有很好的效果。本文介绍了面波的主要特性和勘探原理以及资料的整理解释方法,最后列举了具体的勘察实例进行了分析。
关键词
面波勘探
多道瞬态面波法
弹性波
频散曲线
Keywords
surface
wave
prospecting
multichannel
transient surface wave method
Elastic
wave
Curve of frequency distribution
分类号
P642 [天文地球—工程地质学]
TV641 [水利工程—水利水电工程]
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职称材料
题名
瞬态面波法的数据采集处理系统及其应用实例
被引量:
144
4
作者
刘云祯
王振东
机构
北京市水电物探研究所
出处
《物探与化探》
CAS
CSCD
1996年第1期28-34,共7页
文摘
本文介绍我国研制开发的SWS瞬态面波数据采集处理系统的主要技术指标、软件特点与运行环境及工程应用实例,指出多道面波采集系统在发展瞬态面波法方面的关键作用。
关键词
瞬态面波法
处理系统
处理系统
地震勘探
Keywords
transient surface wave method
,
multichannel surface wave collection and processing system.
分类号
P443 [天文地球—大气科学及气象学]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
surface
plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost
and
large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition
and
suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination
wave
lengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult
and
complicated to use the short optical
wave
lengths to reach the desired feature sizes.Other
method
s such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],
and
evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning
and
accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template
and
the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this
method
.ENFOL have the potential to produce sub
wave
length structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane
and
limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of
surface
-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth
and
improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8]
and
SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very fine period
and
only suitable for small-area interference.To avoid the fabrication of the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm
and
even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real
system
.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution
and
what variations of the parameters are allowed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless interference lithography
system
The SPP maskless interference lithography
system
is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two beams by a grating splitter,
and
then goes into the prism-based multilayer
system
.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density
wave
s that are characterized by intense electromagnetic fields confined to the metallic
surface
.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography
system
is sufficiently thin,plasma
wave
s at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric
and
antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
直流电法与多道瞬态面波法在电力工程地质分层中的应用
单波
李党民
周碧霄
《电力勘测设计》
2024
0
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职称材料
2
综合物探技术在园博园湿地垃圾坑勘察中的应用
杨良权
李波
彭涛
晋凤明
高焕芝
《工程勘察》
2013
7
下载PDF
职称材料
3
多道瞬态面波法在工程勘察中的应用
李大虎
李才明
邵昌盛
《内蒙古石油化工》
CAS
2008
5
下载PDF
职称材料
4
瞬态面波法的数据采集处理系统及其应用实例
刘云祯
王振东
《物探与化探》
CAS
CSCD
1996
144
下载PDF
职称材料
5
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
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职称材料
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