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三价铬离子在电沉积过程中的形态 被引量:5
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作者 张新 李惠东 +2 位作者 段淑贞 孙根生 刘新宇 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第6期580-583,共4页
研究证明三价铬离子在HCl体系中适应电活性物质是[Cr(H_2O)_6] ̄(3+),不同pH通过溶液中的存在形态而影响Cr ̄(3+)电沉积过程。同时证实了Cr ̄(3+)在HCOOH或(NH_2)_2CO存在时不与三价... 研究证明三价铬离子在HCl体系中适应电活性物质是[Cr(H_2O)_6] ̄(3+),不同pH通过溶液中的存在形态而影响Cr ̄(3+)电沉积过程。同时证实了Cr ̄(3+)在HCOOH或(NH_2)_2CO存在时不与三价铬形成配位化合物。 展开更多
关键词 电沉积 配位化合物 极谱曲线 铬离子 电镀
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