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NaCl-KCl-Na_2WO_4-CuO体系电解制备钨铜复合粉体研究 被引量:3
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作者 王旭 廖春发 肖志华 《有色金属科学与工程》 CAS 2012年第5期34-38,共5页
文中研究采用熔盐电解以由Na2WO4和CuO为活性物质电解获得钨铜合金复合前驱粉体.通过循环伏安法对电解质体系及电极过程进行定性分析认为Na2WO4减缓体系活性物质扩散速度,CuO与Na2WO4的电解非同步进行.通过改变活性物质的加入方式进行... 文中研究采用熔盐电解以由Na2WO4和CuO为活性物质电解获得钨铜合金复合前驱粉体.通过循环伏安法对电解质体系及电极过程进行定性分析认为Na2WO4减缓体系活性物质扩散速度,CuO与Na2WO4的电解非同步进行.通过改变活性物质的加入方式进行对比实验,结果表明:在温度750℃;以一定比例KCl-NaCl混合熔盐为电解质,在起始槽电压1 V,先加入CuO电解2 h;后加入Na2WO4,调整槽电压至2 V电解3 h,对产物进行X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)及能谱分析(EDS)表明,可以获得纯度达到98%的W-Cu合金粉体. 展开更多
关键词 熔盐电解 钨铜合金 电极过程 槽电压
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熔盐电解法制备钨铜合金粉 被引量:1
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作者 肖志华 廖春发 王旭 《有色金属(冶炼部分)》 CAS 北大核心 2013年第4期49-52,共4页
在NaCl-KCl-Na2WO4-CuO体系中采用熔盐电解法直接制取钨铜合金粉,并对产物进行了XRD、SEM及EDS分析。结果表明,在780~800℃电解、阴极电流密度106~133mA/cm2、电解时间3~4h、电压2.2~3.2V的条件下,可以得到纯度99%以上、平均粒度0.9... 在NaCl-KCl-Na2WO4-CuO体系中采用熔盐电解法直接制取钨铜合金粉,并对产物进行了XRD、SEM及EDS分析。结果表明,在780~800℃电解、阴极电流密度106~133mA/cm2、电解时间3~4h、电压2.2~3.2V的条件下,可以得到纯度99%以上、平均粒度0.91μm的钨铜合金粉末,各项指标基本达到了工业上烧结钨铜合金的要求。 展开更多
关键词 钨酸钠 氧化铜 熔盐电解 钨铜粉
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PANI/SnO_2负载α-SiW_(11)Cu光催化降解刚果红的动力学
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作者 马荣华 王树成 刘春涛 《印染助剂》 CAS 北大核心 2018年第9期37-40,共4页
制备了α-SiW11Cu/PANI/SnO2光催化剂,研究了其对刚果红溶液的降解性能。结果表明:刚果红初始质量浓度为15mg/L,溶液pH为1,催化剂用量为30 mg/L,在30 W紫外灯照射下,降解时间为200 min时,脱色率可达81.78%。光催化降解刚果红过程符合一... 制备了α-SiW11Cu/PANI/SnO2光催化剂,研究了其对刚果红溶液的降解性能。结果表明:刚果红初始质量浓度为15mg/L,溶液pH为1,催化剂用量为30 mg/L,在30 W紫外灯照射下,降解时间为200 min时,脱色率可达81.78%。光催化降解刚果红过程符合一级动力学方程,反应速率常数为0.008 80 min-1。 展开更多
关键词 钨铜酸盐 复合材料 聚苯胺 光降解 刚果红
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废钨铜合金回收金属钨和铜盐的工艺研究
4
作者 钟桐生 汤青云 《湖南城市学院学报(自然科学版)》 CAS 2004年第1期61-62,64,共3页
介绍了用无机强酸处理废钨铜合金回收金属钨和铜盐的方法及其工艺模式。
关键词 废钨铜合金 铜盐 无机强酸 硫酸溶解法
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熔盐电解制备钨铜合金粉体槽内温场条件分析
5
作者 王旭 周才英 廖春发 《有色金属科学与工程》 CAS 2014年第5期79-81,122,共4页
在熔盐电解法由Na2WO4和CuO制取钨铜合金粉体的研究基础上,分析电解槽内的温度场分布,特别是电极区域的温度分布情况对电解行为的影响.通过位移法测量,采取比较法分析实验误差,结果表明:电解过程中2个主要的外部条件,即电解槽内温场分... 在熔盐电解法由Na2WO4和CuO制取钨铜合金粉体的研究基础上,分析电解槽内的温度场分布,特别是电极区域的温度分布情况对电解行为的影响.通过位移法测量,采取比较法分析实验误差,结果表明:电解过程中2个主要的外部条件,即电解槽内温场分布与电场分布是联动的;温度条件影响着电极电位;同时,外部槽电压通过电流扰动槽内温场,使电极区域温场分布不均. 展开更多
关键词 熔盐电解 钨铜合金 温场 电极电位
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电流密度对熔融盐电沉积金属钨镀层性能的影响 被引量:6
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作者 刘艳红 张迎春 +3 位作者 刘其宗 李旭亮 江凡 葛昌纯 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2012年第5期1-5,共5页
采用二元熔盐氧化物Na2WO4和WO3,以脉冲电沉积的方法在占空比0.5、脉冲频率1000Hz、电沉积温度850°C的条件下,于热沉材料CuCrZr之上获得了金属钨镀层。讨论了电流密度对钨镀层微观结构、显微硬度、结合强度等性能的影响。当电流密... 采用二元熔盐氧化物Na2WO4和WO3,以脉冲电沉积的方法在占空比0.5、脉冲频率1000Hz、电沉积温度850°C的条件下,于热沉材料CuCrZr之上获得了金属钨镀层。讨论了电流密度对钨镀层微观结构、显微硬度、结合强度等性能的影响。当电流密度为20~30mA/cm2时,能够获得表面致密均匀的钨镀层。随着电流密度的增大,电流效率呈现先增大后下降的趋势,当电流密度为30mA/cm2时,电流效率达到最大值92.64%。 展开更多
关键词 铜-铬-锆合金 熔盐 电沉积 电流密度 微观结构 电流效率
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