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超深亚微米CMOS工艺参数波动的测量电路 被引量:2
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作者 杨媛 高勇 余宁梅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1686-1689,共4页
分析了超深亚微米工艺参数波动对电路的影响;采用“放大”的思路设计了简单的用于测量超深亚微米工艺门延迟、动态功耗、静态功耗及其波动的电路,并提出了一种用于测量门延迟波动特性曲线的新型电路,该电路采用较短的反相器链可以得到... 分析了超深亚微米工艺参数波动对电路的影响;采用“放大”的思路设计了简单的用于测量超深亚微米工艺门延迟、动态功耗、静态功耗及其波动的电路,并提出了一种用于测量门延迟波动特性曲线的新型电路,该电路采用较短的反相器链可以得到超深亚微米工艺下门延迟波动特性曲线.电路在90nmCMOS工艺下进行了流片制作,得到了90nmCMOS工艺下的单位门延迟波动特性曲线.测得延迟的波动范围为78.6%,动态功耗的波动范围为94.0%,漏电流功耗的波动范围为19.5倍,其中以漏电流功耗的波动性最为严重. 展开更多
关键词 超深亚微米 门延迟 动态功耗 漏电流功耗
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超深亚微米PMOSFET器件的NBTI效应 被引量:2
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作者 韩晓亮 郝跃 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期626-630,共5页
研究了超深亚微米 PMOS器件中的 NBTI(负偏置温度不稳定性 )效应 ,通过实验得到了 NBTI效应对PMOSFET器件阈值电压漂移的影响 ,并得到了在 NBTI效应下求解器件阈值电压漂移的经验公式 .分析了影响NBTI效应的主要因素 :器件栅长、硼穿通... 研究了超深亚微米 PMOS器件中的 NBTI(负偏置温度不稳定性 )效应 ,通过实验得到了 NBTI效应对PMOSFET器件阈值电压漂移的影响 ,并得到了在 NBTI效应下求解器件阈值电压漂移的经验公式 .分析了影响NBTI效应的主要因素 :器件栅长、硼穿通效应和栅氧氮化以及其对器件寿命退化的作用 .给出了如何从工艺上抑制 展开更多
关键词 超深亚微米 NBTI效应 可靠性
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0.1μm槽栅CMOS器件及相关特性
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作者 张晓菊 马晓华 +2 位作者 任红霞 郝跃 孙宝刚 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期532-535,共4页
通过实验成功得到了0 1μm槽栅结构CMOS器件,验证了理论结果的正确性,表明这是一种优良的小尺寸器件结构.该槽栅器件具有阈值电压漂移较小及较好抑制短沟道效应的特点,并分析了目前器件驱动电流较小的原因及解决办法.
关键词 槽栅结构 CMOS 超深亚微米
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90 nm CMOS工艺下串扰延迟及其测量电路的研究
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作者 杨媛 高勇 余宁梅 《电子器件》 CAS 2007年第1期9-12,共4页
仿真分析了90nmCMOS工艺中串扰延迟的趋势,结果表明,90nmCMOS工艺下1mm的连线延迟远大于单位门的延迟,最坏情况下1mm连线延迟约为单位门延迟的6倍,而当线间耦合电容发生作用时,串扰延迟在连线延迟中起主要作用。提出了一种用于测量超深... 仿真分析了90nmCMOS工艺中串扰延迟的趋势,结果表明,90nmCMOS工艺下1mm的连线延迟远大于单位门的延迟,最坏情况下1mm连线延迟约为单位门延迟的6倍,而当线间耦合电容发生作用时,串扰延迟在连线延迟中起主要作用。提出了一种用于测量超深亚微米工艺串扰延迟的新型电路,电路主要由VCO和几个触发器组成,采用HSPICE对电路进行了仿真,结果表明所提出的电路最大测量误差为1.33%。 展开更多
关键词 超深亚微米(UDSM) 串扰延迟 CMOS工艺
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自对准硅化物工艺研究 被引量:4
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作者 王大海 万春明 徐秋霞 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期631-635,639,共6页
 对适用于深亚微米CMOS器件的各种自对准硅化物工艺进行了讨论,并对不同硅化物薄膜的特性进行了分析。结果表明,随着大规模集成电路特征尺寸的不断缩减及其对器件性能要求的不断提高,常规Ti和Co的自对准硅化物工艺已经不能满足器件特...  对适用于深亚微米CMOS器件的各种自对准硅化物工艺进行了讨论,并对不同硅化物薄膜的特性进行了分析。结果表明,随着大规模集成电路特征尺寸的不断缩减及其对器件性能要求的不断提高,常规Ti和Co的自对准硅化物工艺已经不能满足器件特征尺寸进一步缩小的需要;Ni的自对准硅化物工艺可以很好地满足超深亚微米及纳米器件对硅化物的需求。 展开更多
关键词 超深亚微米 CMOS器件 自对准硅化物 纳米器件 Ni自对准硅化物
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Characterization analysis of UDSM LVTSCR under TLP stress
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作者 李立 刘红侠 +1 位作者 董翠 周文 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期42-47,共6页
The characteristics of a low-voltage triggering silicon-controlled rectifier (LVTSCR) under a transmission line pulse (TLP) and the characteristics of high frequency are analyzed. The research results show that th... The characteristics of a low-voltage triggering silicon-controlled rectifier (LVTSCR) under a transmission line pulse (TLP) and the characteristics of high frequency are analyzed. The research results show that the anode series resistance has a significant effect on the key points of the snapback curve. The device characteristics can fit the requirements of a electrostatic discharge (ESD) design window by adjusting the anode series resistance. Furthermore, the set-up time of the ESD has an influence on the turn-on voltage of the LVTSCR. A steep rising edge will cause the turn-on voltage to increase. The parasitic capacitance of the device for different voltage biases and frequencies determines the capacitive impedance, and its accuracy calculation is very important to the ESD design of high frequency circuits. Our research results provide a theoretical basis for the design of an ultra-deep sub-micron (UDSM) LVTSCR structure under ESD stress and the improvement of TLP test technology. 展开更多
关键词 ultra-deep sub-micron electrostatic discharge transmission line pulse low-voltage triggering silieoncontrolled rectifier
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