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光辅助超高真空CVD系统制备SiGe异质结双极晶体管研究 被引量:1
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作者 戴显英 胡辉勇 +1 位作者 张鹤鸣 孙建诚 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期509-512,共4页
介绍了采用紫外光化学汽相淀积 (UVCVD)、超高真空化学汽相淀积 (UHVCVD)和超低压化学汽相淀积 (ULPCVD)技术研制的化学汽相淀积 (CVD)工艺系统 ,简称U3 CVD系统 应用该系统 ,在 4 5 0℃低温和 10 - 7Pa超高真空环境下研制出了硅锗 (Si... 介绍了采用紫外光化学汽相淀积 (UVCVD)、超高真空化学汽相淀积 (UHVCVD)和超低压化学汽相淀积 (ULPCVD)技术研制的化学汽相淀积 (CVD)工艺系统 ,简称U3 CVD系统 应用该系统 ,在 4 5 0℃低温和 10 - 7Pa超高真空环境下研制出了硅锗 (SiGe)材料和硅锗异质结双极晶体管 (SiGeHBT)材料 实验表明 。 展开更多
关键词 紫外光化学汽相淀积 超高真空化学汽相淀积 超低压化学汽相淀积 异质结 硅锗材料 双极晶体管
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汽车无损检测X射线源钼铼合金零件加工技术研究 被引量:2
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作者 高东璇 刘占峰 +1 位作者 李艳丽 雷雄 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2019年第4期46-49,共4页
在汽车领域中X射线无损检测是应用比较广泛的技术,阴极固定件是X射线源的关键零件,材料为钼铼合金。针对目前阴极固定件加工质量低、成本高和效率低等特点,首先研究钼铼合金的材料性能,然后根据钼铼合金材料特点,提出了采用真空热处理... 在汽车领域中X射线无损检测是应用比较广泛的技术,阴极固定件是X射线源的关键零件,材料为钼铼合金。针对目前阴极固定件加工质量低、成本高和效率低等特点,首先研究钼铼合金的材料性能,然后根据钼铼合金材料特点,提出了采用真空热处理方法改善钼铼合金切削性能,并通过试验总结出了钼铼合金最佳真空热处理工艺参数。综合考虑加工经济性和加工质量,相比于硬质合金刀具、天然金刚石刀具和聚晶金刚石刀具等,金刚石厚膜刀具在加工钼铼合金方面具有明显优势,能够实现阴极固定件低成本精密加工。 展开更多
关键词 无损检测 钼铼合金 真空热处理 化学气相沉积
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超高真空化学气相淀积自组织生长锗量子点(英文)
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作者 邓宁 张磊 +1 位作者 黄文韬 陈培毅 《纳米技术与精密工程》 CAS CSCD 2004年第3期171-174,共4页
采用超高真空化学气相淀积系统制备了小尺寸、高密度、纵向自对准的Ge量子点 .通过TEM和AFM对埋层和上层量子点的形貌和尺寸分布进行了研究 ,对生长的温度和时间进行了优化 .采用硼预淀积的方法得到了尺寸分布小于 3 %的均匀的圆顶形Ge... 采用超高真空化学气相淀积系统制备了小尺寸、高密度、纵向自对准的Ge量子点 .通过TEM和AFM对埋层和上层量子点的形貌和尺寸分布进行了研究 ,对生长的温度和时间进行了优化 .采用硼预淀积的方法得到了尺寸分布小于 3 %的均匀的圆顶形Ge量子点 .采用低温光荧光测量了多层量子点的光学特性 .在 10K的PL谱可以观察到明显的蓝移现象 ,表明量子点中较强的量子限制效应 .量子点非声子峰的半高宽约为 46meV ,表明采用UHV/CVD工艺生长的多层量子点具有较窄的尺寸分布 . 展开更多
关键词 量子点 化学气相淀积 自对准 光测量 光荧光 自组织生长 PL谱 尺寸分布 声子 蓝移
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大尺寸ZnS真空气相沉积炉的研制
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作者 张延宾 王征 +2 位作者 陈昊 石红春 张树玉 《真空》 CAS 2014年第3期37-40,共4页
介绍了CVD ZnS生产工艺、真空气相沉积炉技术性能、设备结构组成及特点。该真空气相沉积炉是制备大尺寸ZnS的关键设备,它生产的CVD ZnS板料尺寸达到了1800 mm(长)×800 mm(宽)×25 mm(厚),单炉产量为1000 kg,是国内生产ZnS板坯... 介绍了CVD ZnS生产工艺、真空气相沉积炉技术性能、设备结构组成及特点。该真空气相沉积炉是制备大尺寸ZnS的关键设备,它生产的CVD ZnS板料尺寸达到了1800 mm(长)×800 mm(宽)×25 mm(厚),单炉产量为1000 kg,是国内生产ZnS板坯料尺寸最大、单炉产量最多的设备。 展开更多
关键词 真空 气相沉积炉 cvd ZNS
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采用低温缓冲层技术在Si衬底上生长高质量Ge薄膜 被引量:7
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作者 周志文 贺敬凯 +1 位作者 李成 余金中 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1030-1033,共4页
采用低温缓冲层技术,在Si衬底上生长了质量优良的Ge薄膜。利用原子力显微镜(AFM)、双晶X射线衍射(XRD)和拉曼散射等研究了薄膜的晶体质量。结果表明,由于无法抑制三维岛状生长,低温Ge缓冲层的表面是起伏的。然而,Ge与Si间的压应变几乎... 采用低温缓冲层技术,在Si衬底上生长了质量优良的Ge薄膜。利用原子力显微镜(AFM)、双晶X射线衍射(XRD)和拉曼散射等研究了薄膜的晶体质量。结果表明,由于无法抑制三维岛状生长,低温Ge缓冲层的表面是起伏的。然而,Ge与Si间的压应变几乎完全弛豫。当缓冲层足够厚时,后续高温Ge外延层的生长能够使粗糙的表面变得平整。在90 nm低温Ge缓冲层上生长的210 nm高温Ge外延层,表面粗糙度仅为1.2 nm,位错密度小于5×105cm-2,XRD的峰形对称,峰值半高宽为460 arc sec。 展开更多
关键词 Ge薄膜 低温缓冲层技术 表面形貌 超高真空化学气相沉积(uhv-cvd)
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Si_1-xGe_x/Si超高真空化学气相外延工艺的研究
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作者 金晓军 贾宏勇 +6 位作者 张进书 钱伟 韩勇 刘荣华 林惠旺 陈培毅 钱佩信 《清华大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第S1期83-85,共3页
为了研制出高性能的Si1-xGex/Si异质结器件,生长出适合器件应用的应变Si1-xGex材料,利用自行研制的超高真空化学气相沉积(UHV/CVD)设备,研究了Si1-xGex生长速度以及组份随GeH4流量的变化规... 为了研制出高性能的Si1-xGex/Si异质结器件,生长出适合器件应用的应变Si1-xGex材料,利用自行研制的超高真空化学气相沉积(UHV/CVD)设备,研究了Si1-xGex生长速度以及组份随GeH4流量的变化规律。实验结果表明:Si1-xGex生长速度随GeH4流量明显增加,且外延层中Ge与Si组份的比值约是气相中的GeH4与SiH4分压比值的2.5倍。提出了一个简单的生长动力学模型,解释了组份与流量的关系。Raman谱分析结果表明外延层为完全应变的。利用该材料制作出了性能良好的二极管。 展开更多
关键词 超高真空(uhv) 化学气相沉积(cvd) 硅锗固熔体 硅锗器件
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Stacking monolayers at will:A scalable device optimization strategy for two-dimensional semiconductors
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作者 Xiaojiao Guo Honglei Chen +24 位作者 Jihong Bian Fuyou Liao Jingyi Ma Simeng Zhang Xinzhi Zhang Junqiang Zhu Chen Luo Zijian Zhang Lingyi Zong Yin Xia Chuming Sheng Zihan Xu Saifei Gou Xinyu Wang Peng Gong Liwei Liu Xixi Jiang Zhenghua An Chunxiao Cong Zhijun Qiu Xing Wu Peng Zhou Xinyu Chen Ling Tong Wenzhong Bao 《Nano Research》 SCIE EI CSCD 2022年第7期6620-6627,共8页
In comparison to monolayer(1L),multilayer(ML)two-dimensional(2D)semiconducting transition metal dichalcogenides(TMDs)exhibit more application potential for electronic and optoelectronic devices due to their improved c... In comparison to monolayer(1L),multilayer(ML)two-dimensional(2D)semiconducting transition metal dichalcogenides(TMDs)exhibit more application potential for electronic and optoelectronic devices due to their improved current carrying capability,higher mobility,and broader spectral response.However,the investigation of devices based on wafer-scale ML-TMDs is still restricted by the synthesis of uniform and high-quality ML films.In this work,we propose a strategy of stacking MoS_(2) monolayers via a vacuum transfer method,by which one could obtain wafer-scale high-quality MoS_(2) films with the desired number of layers at will.The optical characteristics of these stacked ML-MoS_(2) films(>2L)indicate a weak interlayer coupling.The stacked MLMoS_(2) phototransistors show improved optoelectrical performances and a broader spectral response(approximately 300-1,000 nm)than that of 1L-MoS_(2).Additionally,the dual-gate ML-MoS_(2) transistors enable enhanced electrostatic control over the stacked ML-MoS_(2) channel,and the 3L and 4L thicknesses exhibit the optimal device performances according to the turning point of the current on/off ratio and the subthreshold swing. 展开更多
关键词 two-dimensional semiconductor field-effect transistors chemical vapor deposition(cvd)synthesis interlayer coupling vacuum transfer method dual-gate transistor
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