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应用于HDI/BUM技术领域的超薄铜箔
被引量:
5
1
作者
王阿红
《印制电路信息》
2005年第3期29-34,共6页
介绍了一种比较新颖的、技术要求比较高的,能广泛应用于HDI技术领域的超薄铜箔,并且通过其在图形电镀中的应用及激光钻孔后的电镀效果研究,可以充分体会到这种铜箔优异的性能。
关键词
超薄铜箔
xtf
铜箔
高密度互连技术
hdi
技术
应用
图形电镀
激光钻孔
下载PDF
职称材料
题名
应用于HDI/BUM技术领域的超薄铜箔
被引量:
5
1
作者
王阿红
机构
江南计算技术研究所
出处
《印制电路信息》
2005年第3期29-34,共6页
文摘
介绍了一种比较新颖的、技术要求比较高的,能广泛应用于HDI技术领域的超薄铜箔,并且通过其在图形电镀中的应用及激光钻孔后的电镀效果研究,可以充分体会到这种铜箔优异的性能。
关键词
超薄铜箔
xtf
铜箔
高密度互连技术
hdi
技术
应用
图形电镀
激光钻孔
Keywords
ultra-thin copper foil xtf copper foil hdi/bum technology
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TN405.94 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
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作者
出处
发文年
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1
应用于HDI/BUM技术领域的超薄铜箔
王阿红
《印制电路信息》
2005
5
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