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纳米TiN颗粒在真空电弧反应中沉降的临界条件及其表征 被引量:1
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作者 曾鹏 胡社军 +2 位作者 谢光荣 黄拿灿 吴起白 《真空》 CAS 北大核心 2000年第6期12-15,共4页
研究了在真空电弧镀膜设备中产生纳米 Ti N颗粒沉降的临界条件。结果表明 ,当真空度P>8.7× 10 - 1 Pa,即 Knudsen数 Kn>110时 ,工作台中心几乎不能沉积 Ti N薄膜 ,而在真空反应气氛中有大量纳米 Ti N颗粒形成。增大反应气体... 研究了在真空电弧镀膜设备中产生纳米 Ti N颗粒沉降的临界条件。结果表明 ,当真空度P>8.7× 10 - 1 Pa,即 Knudsen数 Kn>110时 ,工作台中心几乎不能沉积 Ti N薄膜 ,而在真空反应气氛中有大量纳米 Ti N颗粒形成。增大反应气体的压力和提高负偏压 ,都可以进一步细化 Ti N颗粒。用 SEM和 XRD等测试方法对颗粒的形貌及结构进行了研究 ,在实验条件下纳米 Ti N颗粒的平均尺寸为 2 8~ 35 nm,其中有少量的 展开更多
关键词 纳米颗粒 氮化钛 真空弧镀膜 表征 不锈钢
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