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Optical and Electrical Properties of Polyimide Thin Films Grown by Vapor Deposition Polymerization
1
作者 XIAO Min, ZHENG Jian bang, WU Hong cai (School of Electron. and Inform. Eng., Xi’an Jiaotong University, Xi’an 710049, CHN) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2001年第4期212-216,234,共6页
Using pyromellitic dianhydride (PMDA) and 4,4’ diaminodiphenyl ether (ODA) as monomer materials, polyimide thin films have been prepared onto glass substrate by vapor deposition polymerization under a vacuum of 2.666... Using pyromellitic dianhydride (PMDA) and 4,4’ diaminodiphenyl ether (ODA) as monomer materials, polyimide thin films have been prepared onto glass substrate by vapor deposition polymerization under a vacuum of 2.666×10 -3 Pa and thermal curing of polyamic acid film in a vacuum at temperature of 150~200 ℃ for 60 min. In this process, the polymerization can be carried out through controlling the stoichiometric ratio, heating time and deposition ratio of the two monomers. The composition, the structure and properties of the polyimide films are investigated with IR spectrum, XRD, and SEM methods. The results show that the polyimide films by vapor deposition polymerization have good electrical properties and thermal stability. Therefore, the vapor deposition polymerization process is considered as a possible method of polymerization for other polymers. 展开更多
关键词 Nonlinear optical materials polyimide vapor deposition polymerization
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Optical and Electrical Properties of Polyimide Thin Films Doped-Cu-phthalocyanine Polymerized by Vapor Phase Deposition
2
作者 ZHENGJian-bang WANGYuan 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2005年第2期94-98,共5页
Using Cu-phthalocyanine(CuPc),4,4’-diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride as monomer materials, polyimide(PI) thin films doped-CuPc have been prepared onto glass substrate by vapor phase co-deposition... Using Cu-phthalocyanine(CuPc),4,4’-diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride as monomer materials, polyimide(PI) thin films doped-CuPc have been prepared onto glass substrate by vapor phase co-deposition polymerization under a vacuum of 2×10-3Pa and thermal curing of polyamic acid film in at temperature of 150-200℃ for 60min. In this process, the polymerization can be carried out through controlling the stoichiometric ratio, heating time and deposition rates of the three monomers. IR spectrum identifies the designed chemical structure of the polymer. The absorption of polyimide doped-CuPc is very intense in vis-range and near-infrared by UV-Vis spectrum. And, the PI films doped-CuPc polymerized by vapor phase deposition have uniformity, fine thermal stability and good nonlinear optical properties, and the third-order optical nonlinear susceptibility χ(3) with degenerate four-wave mixing can be 1.984×10-9ESU. 展开更多
关键词 Nonlinear optical materials Cu-phthalocyanine polyimide vapor phase deposition polymerization Degenerate four-wave mixing
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聚酰亚胺薄膜气相沉积的研究进展 被引量:3
3
作者 晁敏 寇开昌 +2 位作者 吴广磊 赵春玲 王志超 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第21期118-122,共5页
综述了气相沉积聚合设备、制备过程、影响因素、性能表征方法及近年来国内外的研究现状。气相沉积聚合聚酰亚胺薄膜相比于传统湿法成型具有纯度高、无溶剂、膜厚可控、致密均匀、可在复杂表面成型等优点。展望了气相沉积的应用以及今后... 综述了气相沉积聚合设备、制备过程、影响因素、性能表征方法及近年来国内外的研究现状。气相沉积聚合聚酰亚胺薄膜相比于传统湿法成型具有纯度高、无溶剂、膜厚可控、致密均匀、可在复杂表面成型等优点。展望了气相沉积的应用以及今后的发展前景。 展开更多
关键词 气相沉积聚合 聚酰亚胺薄膜 影响因素 性能表征 研究现状 应用
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聚酰亚胺薄膜表面粗糙度的影响因素 被引量:6
4
作者 姚红 张占文 +2 位作者 黄勇 李赛 李波 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1861-1866,共6页
采用热蒸发气相沉积聚合方法(VDP)制备了聚酰亚胺(PI)薄膜,研究了设备、衬底温度、升温过程和单体配比因素对PI薄膜表面形貌的影响。利用干涉显微镜和扫描电镜对薄膜表面形貌进行了分析;利用原子力显微镜测定了薄膜表面粗糙度。结果表明... 采用热蒸发气相沉积聚合方法(VDP)制备了聚酰亚胺(PI)薄膜,研究了设备、衬底温度、升温过程和单体配比因素对PI薄膜表面形貌的影响。利用干涉显微镜和扫描电镜对薄膜表面形貌进行了分析;利用原子力显微镜测定了薄膜表面粗糙度。结果表明:设定蒸发源-衬底距离为74 cm时可成连续膜;蒸发源采用一段升温和多段升温时,膜表面均方根粗糙度分别为291.23 nm和61.99 nm;采用细筛网可防止原料的喷溅;均苯四甲酸二酐和4,4′-二氨基二苯醚(PMDA和ODA)单体沉积速率比值为0.9∶1时,膜表面均方根粗糙度值可减小至3.30 nm;沉积衬底温度保持30℃左右时,膜表面均方根粗糙度为4.01 nm,随温度的上升,膜表面质量会逐渐变差。 展开更多
关键词 气相沉积聚合 聚酰亚胺 表面粗糙度 惯性约束聚变
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气相沉积法制备聚酰亚胺薄膜的初步研究 被引量:6
5
作者 姚红 李赛 +2 位作者 张占文 黄勇 汪国秀 《表面技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期53-57,共5页
采用一种新型的成膜技术——气相沉积聚合(VDP)法,利用热蒸发VDP沉积装置,以均苯四甲酸二酐和4,4'-二氨基二苯醚为单体原料,通过控制加热温度、沉积速率和沉积时间,在玻璃衬底上沉积并合成聚酰胺酸(PAA)薄膜,再进行热亚胺化,就得到... 采用一种新型的成膜技术——气相沉积聚合(VDP)法,利用热蒸发VDP沉积装置,以均苯四甲酸二酐和4,4'-二氨基二苯醚为单体原料,通过控制加热温度、沉积速率和沉积时间,在玻璃衬底上沉积并合成聚酰胺酸(PAA)薄膜,再进行热亚胺化,就得到了成膜性能较好的PI薄膜。采用FTIR,TG,UV,AFM和接触角测试等分析手段对样品的性能进行了分析和探讨。结果表明:VDP法制备的PI薄膜具有高热稳定性、易透光性、低表面粗糙度和低表面能等优点,说明用该方法制备性能优异的PI薄膜是可行的。 展开更多
关键词 薄膜 聚酰亚胺 聚酰胺酸 气相沉积聚合
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气相沉积法制备聚酰亚胺薄膜的光、电特性研究 被引量:4
6
作者 郑建邦 马戎 +1 位作者 曹猛 吴洪才 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2001年第6期420-424,共5页
以均苯四甲酸二酐 (PMDA)和二氨基二苯醚 (ODA)为单体原料 ,研究了在 3× 10 - 3Pa真空度下 ,通过控制双源单体的加入摩尔计量、加热时间和其沉积速率 ,在玻璃衬底上合成了聚酰亚胺的预聚体聚酰胺酸 ,再经 15 0~ 2 0 0℃真空加热... 以均苯四甲酸二酐 (PMDA)和二氨基二苯醚 (ODA)为单体原料 ,研究了在 3× 10 - 3Pa真空度下 ,通过控制双源单体的加入摩尔计量、加热时间和其沉积速率 ,在玻璃衬底上合成了聚酰亚胺的预聚体聚酰胺酸 ,再经 15 0~ 2 0 0℃真空加热亚胺化 1h后得到了成膜性良好的均匀聚酰亚胺薄膜。通过红外吸收、X射线衍射和扫描电镜等方法对样品的组织结构和特性进行了研究和探讨。结果表明 。 展开更多
关键词 非线性光学材料 聚酰亚胺 气相沉积法 薄膜
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聚酰亚胺气相沉积聚合的研究进展 被引量:5
7
作者 浦鸿汀 王永星 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期5-9,共5页
综述了一种新的制备聚酰亚胺(P I)薄膜的方法——气相沉积聚合(VDP)的研究进展,用此方法制得的聚合物膜具有纯度高、膜厚可控、可实现保形涂敷、可制备难溶难熔聚合物、集聚合与成膜为一体等优点。讨论了单体种类、气化温度、真空度、... 综述了一种新的制备聚酰亚胺(P I)薄膜的方法——气相沉积聚合(VDP)的研究进展,用此方法制得的聚合物膜具有纯度高、膜厚可控、可实现保形涂敷、可制备难溶难熔聚合物、集聚合与成膜为一体等优点。讨论了单体种类、气化温度、真空度、沉积基质、沉积时间和酰亚胺化的温度、压力、时间等对P I的VDP过程的影响,展望了VDP法制得的P I薄膜的主要应用领域。 展开更多
关键词 气相沉积聚合 聚酰亚胺 影响因素 应用
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AB型聚酰亚胺单体的合成及气相沉积聚合研究 被引量:2
8
作者 武迪蒙 曾科 +1 位作者 唐文睿 杨刚 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期17-21,共5页
合成了三种AB型聚酰亚胺单体:4-(4-氨基苯氧基)邻苯二甲酸(单体4),4-(3-氨基苯氧基)邻苯二甲酸(单体7)和对(间)乙基4-(3-氨基苯氧基)邻苯二甲酸酯(单体8或9)。利用热失重分析(TGA)对比研究了这三种AB型聚酰亚胺单体的热行为。结果表明,... 合成了三种AB型聚酰亚胺单体:4-(4-氨基苯氧基)邻苯二甲酸(单体4),4-(3-氨基苯氧基)邻苯二甲酸(单体7)和对(间)乙基4-(3-氨基苯氧基)邻苯二甲酸酯(单体8或9)。利用热失重分析(TGA)对比研究了这三种AB型聚酰亚胺单体的热行为。结果表明,单体4、单体7和单体8(9)在升温的过程中能发生热聚合生成聚酰亚胺。将单体4用于气相沉积聚合设备,得到了均匀透明的聚酰亚胺薄膜。对分子结构的修饰使单体8(9)较之单体7有更好的挥发性。 展开更多
关键词 气相沉积聚合 AB型单体 挥发性 聚酰亚胺薄膜
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惯性约束聚变用聚酰亚胺靶丸的研究进展 被引量:2
9
作者 刘金刚 杨士勇 《核科学与工程》 CSCD 北大核心 2006年第3期276-282,共7页
综述了近年来国内外在惯性约束聚变实验用聚酰亚胺(PI)靶丸方面的研究与应用进展情况。从ICF实验用靶的性能要求、常用PI的化学结构、PI靶丸的装配方法以及目前PI靶丸应用过程中存在的问题等几个方面进行了论述。在此基础上提出了PI靶... 综述了近年来国内外在惯性约束聚变实验用聚酰亚胺(PI)靶丸方面的研究与应用进展情况。从ICF实验用靶的性能要求、常用PI的化学结构、PI靶丸的装配方法以及目前PI靶丸应用过程中存在的问题等几个方面进行了论述。在此基础上提出了PI靶丸的研究方向。 展开更多
关键词 惯性约束聚变 靶丸 聚酰亚胺 气相淀积聚合
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气相沉积法制备聚酰亚胺薄膜的光、电特性研究 被引量:4
10
作者 郑建邦 曹猛 吴洪才 《光电子技术与信息》 CAS 2001年第5期29-33,共5页
以均苯四甲酸酐(PMDA)和二氨基二苯醚(ODA)为单体原料,研究了在2×10-5Torr真空度下,通过控制双源单体的加入摩尔计量、加热时间和其沉积速率,在玻璃衬底上合成了聚酰亚胺的预聚体聚酰胺酸,再经150~2... 以均苯四甲酸酐(PMDA)和二氨基二苯醚(ODA)为单体原料,研究了在2×10-5Torr真空度下,通过控制双源单体的加入摩尔计量、加热时间和其沉积速率,在玻璃衬底上合成了聚酰亚胺的预聚体聚酰胺酸,再经150~200℃真空加热亚胺化,1小时后得到了成膜性良好的均匀聚酰亚胺薄膜。通过红外吸收、x射线衍射、扫描电镜等方法对样品的组织结构和特性进行了研究和探讨。结果表明,气相沉积法制备的聚酰亚胺薄膜具有良好的电学特性和热稳定性,不失为聚合物合成的可能途径之一。 展开更多
关键词 非线性光学材料 聚酰亚胺 气相沉积法 薄膜 光电特性
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气相沉积法制备含酞菁铜聚酰亚胺薄膜的光电性能研究 被引量:1
11
作者 郑建邦 汪远 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期879-883,共5页
在2×10-3Pa真空度下,以酞菁铜(CuPc)、均苯四甲酸酐(PMDA)和二氨基二苯醚(ODA)为原料,通过控制三源单体的加入摩尔计量、加热时间和其沉积速率,在玻璃衬底上合成了含酞菁铜的聚酰胺酸,再经150~200℃真空加热亚胺化1h后得到了成膜... 在2×10-3Pa真空度下,以酞菁铜(CuPc)、均苯四甲酸酐(PMDA)和二氨基二苯醚(ODA)为原料,通过控制三源单体的加入摩尔计量、加热时间和其沉积速率,在玻璃衬底上合成了含酞菁铜的聚酰胺酸,再经150~200℃真空加热亚胺化1h后得到了成膜性良好的均匀含酞菁铜聚酰亚胺薄膜。红外谱图证实了所合成产物的结构,紫外吸收分析表明含酞菁铜聚酰亚胺薄膜在可见光区、近红外区具有较强的吸收,热失重分析表明所制备的含酞菁铜聚酰亚胺具有良好的热稳定性能;简并四波混频方法测得薄膜的三阶非线性极化率为1.984×10-9esu,表现出良好的三阶非线性特性。 展开更多
关键词 非线性光学材料 酞菁铜 聚酰亚胺 气相沉积 简并四波混频
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聚酰亚胺自支撑膜的制备及其表面形貌
12
作者 王勇 吴永刚 +3 位作者 戚同非 田国勋 焦宏飞 张莉 《光学仪器》 2006年第2期84-88,共5页
采用物理气相沉积法,在加热或不加热的抛光玻璃基片上蒸镀N aC l脱膜剂,再混合蒸镀均苯四甲酸二酐(PMDA)和二氨基二苯醚(ODA)两种单体,然后在空气环境中对样品进行热亚胺化。在去离子水中脱膜后获得厚度为100nm的聚酰亚胺自支撑膜。采... 采用物理气相沉积法,在加热或不加热的抛光玻璃基片上蒸镀N aC l脱膜剂,再混合蒸镀均苯四甲酸二酐(PMDA)和二氨基二苯醚(ODA)两种单体,然后在空气环境中对样品进行热亚胺化。在去离子水中脱膜后获得厚度为100nm的聚酰亚胺自支撑膜。采用傅里叶变换红外光谱仪(FT IR)对样品进行化学结构分析并且根据谱线计算了不同热处理下薄膜的亚胺化程度。采用原子力显微镜,对样品进行表面形貌分析,结果表明给基片加热能改善聚酰亚胺薄膜的表面形貌。 展开更多
关键词 聚酰亚胺 自支撑膜 表面形貌 物理气相沉积
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气相沉积法制备聚酰亚胺薄膜不同单体配比的表征及其性能影响 被引量:3
13
作者 侯堃 张占文 +1 位作者 黄勇 韦建军 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期185-192,共8页
聚酰亚胺微球作为惯性约束聚变的重要候选靶丸之一,其力学性能和热学性能的提高对于实现聚变点火有重要意义.本文以均苯四甲酸二酐和二氨基二苯醚为原料,采用气相沉积法制备了不同单体配比的聚酰胺酸薄膜,研究了制备聚酰胺酸薄膜过程中... 聚酰亚胺微球作为惯性约束聚变的重要候选靶丸之一,其力学性能和热学性能的提高对于实现聚变点火有重要意义.本文以均苯四甲酸二酐和二氨基二苯醚为原料,采用气相沉积法制备了不同单体配比的聚酰胺酸薄膜,研究了制备聚酰胺酸薄膜过程中不同单体蒸发温度对薄膜组成的影响,并对聚酰胺酸薄膜进行热环化处理.采用红外光谱仪分析了聚酰胺酸薄膜和聚酰亚胺薄膜的组成,结果表明:随着二酐蒸发温度的增加,聚酰胺酸薄膜中过量二酐单体的红外吸收振动特征峰(1780 cm^(-1),1850 cm^(-1)强度增加,单体配比由二胺过量到二酐二胺配比均衡再到二酐过量.热环化处理的过程中,薄膜中过量单体会再次蒸发,其红外图谱显示最终产物只有聚酰亚胺,但单体配比接近样品聚酰亚胺红外特征振动峰(1380 cm^(-1))强度更大.X射线衍射图谱显示配比接近的样品具有更高的晶化程度,说明过量单体的存在抑制了聚酰胺酸分子链的生长,造成分子量降低.采用纳米压痕仪和热重分析仪分别测量了聚酰亚胺薄膜的弹性模量和硬度以及失重曲线,结果表明分子量的降低会造成聚酰亚胺薄膜的弹性模量和硬度的降低,同时热稳定性也变差.扫描电子显微镜图像显示聚酰亚胺薄膜呈层状结构,单体配比接近的样品表面状况更好,这一点与聚酰亚胺分子的生长规律相符合. 展开更多
关键词 惯性约束聚变 气相沉积法 聚酰亚胺 单体配比
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气相沉积聚酰亚胺在微型电子器件中的应用 被引量:1
14
作者 褚夫同 王乔升 +1 位作者 戴丽萍 刘兴钊 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期27-30,共4页
采用气相沉积聚合法制备了聚酰亚胺(PI)薄膜及PI与金属颗粒(Cr)复合(PI/Cr)薄膜,所制备PI薄膜表面平整,随着金属颗粒体积百分数增加,PI/Cr薄膜介电常数逐渐增大;当将PI薄膜应用于压电微机械超声换能器(pMUTs)中时,pMUTs机电耦合系数显... 采用气相沉积聚合法制备了聚酰亚胺(PI)薄膜及PI与金属颗粒(Cr)复合(PI/Cr)薄膜,所制备PI薄膜表面平整,随着金属颗粒体积百分数增加,PI/Cr薄膜介电常数逐渐增大;当将PI薄膜应用于压电微机械超声换能器(pMUTs)中时,pMUTs机电耦合系数显著提高,所研制pMUTs在光声成像演示中探测到了较强的光声信号;当将PI/Cr薄膜应用于AlGaN/GaN高电子迁移率场效应晶体管(HEMTs)中时,HEMTs的击穿电压由156 V提高到248 V,HEMTs器件的耐压能力显著改善。 展开更多
关键词 气相沉积聚合 聚酰亚胺 薄膜 高介电常数介质 压电微机械超声换能器 高电子迁移率场效应晶体管
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