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FABRICATION OF DIAMOND TUBES IN BIAS-ENHANCED HOT-FILAMENT CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM 被引量:1
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作者 CHEN Ming MA Yuping XIANG Daohui SUN Fanghong 《Chinese Journal of Mechanical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第4期24-26,共3页
Deposition of diamond thin films on tungsten wire substrate with the gas mixture of acetone and hydrogen by using bias-enhanced hot filament chemical vapor deposition(CVD)with the tantalum wires being optimized arra... Deposition of diamond thin films on tungsten wire substrate with the gas mixture of acetone and hydrogen by using bias-enhanced hot filament chemical vapor deposition(CVD)with the tantalum wires being optimized arranged is investigated.The self-supported diamond tubes are obtained by etching away the tungsten substrates.The quality of the diamond film before and after the removal of substrates is observed by scanning electron microscope(SEM)and Raman spectrum.The results show that the cylindrical diamond tubes with good quality and uniform thickness are obtained on tungsten wires by using bias enhanced hot filament CVD.The compressive stress in diamond film formed during the deposition is released after the substrate etches away by mixture of H2O2 and NH4 OH.There is no residual stress in diamond tube after substrate removal. 展开更多
关键词 Diamond tube Hot-filament chemical vapor deposition fabrication High quality
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Fabrication of InAlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors on Sapphire Substrates by Pulsed Metal Organic Chemical Vapor Deposition
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作者 全汝岱 张进成 +3 位作者 张雅超 张苇航 任泽阳 郝跃 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2016年第10期145-148,共4页
Nearly lattice-matched InAIGaN/GaN heterostructure is grown on sapphire substrates by pulsed metal organic chemical vapor deposition and excellent high electron mobility transistors are fabricated on this heterostruct... Nearly lattice-matched InAIGaN/GaN heterostructure is grown on sapphire substrates by pulsed metal organic chemical vapor deposition and excellent high electron mobility transistors are fabricated on this heterostructure. The electron mobility is 1668.08cm2/V.s together with a high two-dimensional-electron-gas density of 1.43 × 10^13 cm-2 for the InAlCaN/CaN heterostructure of 2Onto InAlCaN quaternary barrier. High electron mobility transistors with gate dimensions of 1 × 50 μm2 and 4μm source-drain distance exhibit the maximum drain current of 763.91 mA/mm, the maximum extrinsic transconductance of 163.13 mS/mm, and current gain and maximum oscillation cutoff frequencies of 11 GHz and 21 GHz, respectively. 展开更多
关键词 GAN IS in of fabrication of InAlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors on Sapphire Substrates by Pulsed Metal Organic Chemical vapor deposition by on
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Selective Area Growth and Characterization of GaN Nanorods Fabricated by Adjusting the Hydrogen Flow Rate and Growth Temperature with Metal Organic Chemical Vapor Deposition 被引量:1
3
作者 任鹏 韩刚 +6 位作者 付丙磊 薛斌 张宁 刘喆 赵丽霞 王军喜 李晋闽 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2016年第6期145-149,共5页
CaN nanorods are successfully fabricated by adjusting the flow rate ratio of hydrogen (H2)/nitrogen (N2) and growth temperature of the selective area growth (SAG) method with metal organic chemical vapor deposit... CaN nanorods are successfully fabricated by adjusting the flow rate ratio of hydrogen (H2)/nitrogen (N2) and growth temperature of the selective area growth (SAG) method with metal organic chemical vapor deposition (MOCVD). The SAG template is obtained by nanospherical-lens photolithography. It is found that increasing the flow rate of 1-12 will change the CaN crystal shape from pyramid to vertical rod, while increasing the growth temperature will reduce the diameters of GaN rods to nanometer scale. Finally the CaN nanorods with smooth lateral surface and relatively good quality are obtained under the condition that the H2:N2 ratio is 1:1 and the growth temperature is 1030℃. The good crystal quality and orientation of GaN nanorods are confirmed by high resolution transmission electron microscopy. The cathodoluminescence spectrum suggests that the crystal and optical quality is also improved with increasing the temperature. 展开更多
关键词 of or IS as RATE GAN Selective Area Growth and Characterization of GaN Nanorods Fabricated by Adjusting the Hydrogen Flow Rate and Growth Temperature with Metal Organic Chemical vapor deposition by with
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Fabrication, microstructure and properties of electron beam-physical vapor deposited TiAl sheet and TiAl/Nb laminated composites
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作者 韩杰才 章德铭 +2 位作者 陈贵清 孟松鹤 张幸红 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第B02期449-452,共4页
The TiAl-based alloys sheet with 150 mm×100 mm×0.4 mm and the TiAl/Nb laminated composites with 150 mm×100 mm×0.2 mm were fabricated by using electron beam-physical vapor deposition(EB-PVD) method,... The TiAl-based alloys sheet with 150 mm×100 mm×0.4 mm and the TiAl/Nb laminated composites with 150 mm×100 mm×0.2 mm were fabricated by using electron beam-physical vapor deposition(EB-PVD) method, respectively. The microstructure and properties of the sheet were investigated by AFM, SEM and EDS. The results show that the TiAl based alloys sheet has a good surface quality, and its microstructure is columnar crystal. The component of the alloys indicates a regular and periodical gradient change which leads to the spontaneous delamination along the normal direction of substrate. In the TiAl/Nb laminated composites alternating overlaid by TiAl of 24 layers and Nb of 23 layers, the interface of each layer evenly distributed throughout the cross-section is transparent, and the interlayer spacing is about 8μm. The component of TiAl layers also changes regularly along the normal direction of substrate, but no delamination phenomenon is found. The TiAl/Nb laminated composites have better ductility than the TiAl-based alloys sheet. 展开更多
关键词 电子束汽相淀积 钛铝基合金板 TiAl/Nb层压复合材料 制备 性质 显微结构
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新型涂敷材料Parylene AF_4的研究进展 被引量:5
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作者 赵宗峰 鲜晓斌 +2 位作者 唐贤臣 帅茂兵 吉祥波 《现代化工》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期23-27,共5页
Parylene AF4是一种新型的高分子敷型材料,除了拥有Parylene同系列产品的共同性能外,还具有更优异的抗紫外和抗老化性能。系统介绍了Parylene AF4环二体的合成方法、薄膜制备原理和性能参数,并对其研究的热点领域及应用前景进行了展望。
关键词 parylene AF4 涂敷材料 化学气相沉积 沉积动力学
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Parylene敷形涂层绝缘性能研究 被引量:3
6
作者 吴礼群 陈旭 +1 位作者 梁元军 杨军华 《现代雷达》 CSCD 北大核心 2012年第12期82-84,共3页
聚对二甲苯(Parylene)是一种性能优异的敷形涂层材料,在航空、航天、电子领域的应用前景非常广泛。文中介绍了Parylene涂层绝缘性能的试验方法和试验过程,使用真空气相沉积技术制备了Parylene C、Parylene N、Parylene D涂层,对3种涂层... 聚对二甲苯(Parylene)是一种性能优异的敷形涂层材料,在航空、航天、电子领域的应用前景非常广泛。文中介绍了Parylene涂层绝缘性能的试验方法和试验过程,使用真空气相沉积技术制备了Parylene C、Parylene N、Parylene D涂层,对3种涂层不同厚度情况下的绝缘性能进行了比较,研究了涂层在常态下和温度冲击、湿热试验后的绝缘性能变化情况。为Parylene涂层在电子组件防护中的应用提供了技术支撑。 展开更多
关键词 聚对二甲苯 敷形涂层 气相沉积 绝缘性能
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Parylene F薄膜介电材料的制备与研究 被引量:2
7
作者 赵宗峰 鲜晓斌 +1 位作者 唐贤臣 吉祥波 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第B06期477-480,共4页
通过真空化学气相沉积方法制备了Parylene F薄膜,采用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察了表面形貌,并用红外光谱(IR)、X射线光电子能谱(XPS)及热重分析仪(TGA)等分析手段对薄膜组成与性能进行了表征,阻抗分析仪测试了薄膜的介电参... 通过真空化学气相沉积方法制备了Parylene F薄膜,采用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察了表面形貌,并用红外光谱(IR)、X射线光电子能谱(XPS)及热重分析仪(TGA)等分析手段对薄膜组成与性能进行了表征,阻抗分析仪测试了薄膜的介电参数。研究结果表明化学气相沉积方法制备的Parylene F薄膜是一种致密光滑、性能较优、易于成型且具有较大潜在应用前景的介电材料。 展开更多
关键词 介电材料 parylene F薄膜 化学气相沉积
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Parylene涂覆技术在天馈系统防护上的应用 被引量:2
8
作者 敖辽辉 《电讯技术》 北大核心 2012年第6期1035-1037,共3页
针对部分天馈器件结构复杂和腔体尺寸太小无法进行传统镀覆防护的特点,提出了真空气相沉积派拉纶(Parylene)膜层防护处理方法。采用涂覆硅烷偶联剂、优化涂覆工艺过程解决了Parylene涂覆层与基体的结合力、Parylene膜层质量等关键技术... 针对部分天馈器件结构复杂和腔体尺寸太小无法进行传统镀覆防护的特点,提出了真空气相沉积派拉纶(Parylene)膜层防护处理方法。采用涂覆硅烷偶联剂、优化涂覆工艺过程解决了Parylene涂覆层与基体的结合力、Parylene膜层质量等关键技术,通过防护试验和电性能测试验证了防护方法的有效性和可行性。 展开更多
关键词 直升机载雷达 毫米波平板裂缝阵天线 天馈系统 涂覆技术 防护 派拉纶 真空气相沉积
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Parylene敷形涂层 被引量:15
9
作者 吴礼群 《电子机械工程》 2004年第6期51-53,61,共4页
Parylene是一种性能优异的高聚合物材料,它能涂敷到各种形状的表面,例如金属、玻璃、纸张、树脂、塑料、陶瓷等。简述了Parylene涂层的性能,对Parylene涂层的沉积过程、沉积设备和Parylene涂层的应用领域进行了论述,并对Parylene涂层的... Parylene是一种性能优异的高聚合物材料,它能涂敷到各种形状的表面,例如金属、玻璃、纸张、树脂、塑料、陶瓷等。简述了Parylene涂层的性能,对Parylene涂层的沉积过程、沉积设备和Parylene涂层的应用领域进行了论述,并对Parylene涂层的性能与环氧树脂、有机硅树脂、聚氨酯涂层的性能进行了比较。 展开更多
关键词 parylene 气相沉积 敷形涂层
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Parylene高频电路防护工艺研究进展 被引量:7
10
作者 仝晓刚 《电子工艺技术》 2011年第5期272-276,共5页
从前处理、升华温度、裂解温度、沉积压力、基体温度和膜层厚度等方面讨论了Parylene处理技术在国内外高频电路防护方面的应用概况。重点介绍了这些工艺要素与Parylene膜层性能的相关性,并指出了膜层厚度及均匀度是影响高频电路防护的... 从前处理、升华温度、裂解温度、沉积压力、基体温度和膜层厚度等方面讨论了Parylene处理技术在国内外高频电路防护方面的应用概况。重点介绍了这些工艺要素与Parylene膜层性能的相关性,并指出了膜层厚度及均匀度是影响高频电路防护的关键因素,膜层厚度需要通过试验进行确定,简要论述了Parylene膜层的沉积机理与Parylene处理技术在毫米波电路防护上应用的工艺流程。同时指出了Parylene处理技术在高频电路防护应用中存在的不足之处,为以后的研究指明了方向。 展开更多
关键词 parylene 电路防护 化学气象沉积 沉积压力
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多功能Parylene膜化学气相沉积系统设计
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作者 谢金华 陈慧 +1 位作者 段建国 唐贤臣 《广东化工》 CAS 2014年第22期137-138,共2页
分析了一般真空化学气相沉积制备Parylene膜系统的原理、组成和局限性。在通用系统的基础上,设计了一种能满足多种需求,具备多种功能的Parylene膜真空气相沉积系统。该系统能直接控制原料进入裂解炉的速率,控制基体的温度,配置的高真空... 分析了一般真空化学气相沉积制备Parylene膜系统的原理、组成和局限性。在通用系统的基础上,设计了一种能满足多种需求,具备多种功能的Parylene膜真空气相沉积系统。该系统能直接控制原料进入裂解炉的速率,控制基体的温度,配置的高真空单元可以对基体进行除气处理,差分四极质谱单元可以实时分析成膜过程中气体成分变化,采用O’hanlon方法可以计算气体的抽速。 展开更多
关键词 parylene 真空化学气相沉积 多功能
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Parylene C薄膜微波电路的应用可行性研究 被引量:2
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作者 张亚楠 孙鹏 周澄 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2021年第1期55-59,共5页
针对三防材料在微波电路中多余物防控方面的可行性、可靠性问题,提出在产品表面用真空化学气相沉积法镀Parylene C薄膜,结果表明该膜层可有效控制直径d小于1 mm的可动多余物,提高微波产品PIND(颗粒碰撞粒子检测)测试的合格率。同时与焊... 针对三防材料在微波电路中多余物防控方面的可行性、可靠性问题,提出在产品表面用真空化学气相沉积法镀Parylene C薄膜,结果表明该膜层可有效控制直径d小于1 mm的可动多余物,提高微波产品PIND(颗粒碰撞粒子检测)测试的合格率。同时与焊接、胶粘、互联、清洗等配装工艺有良好的适配性,且满足可靠性要求。该薄膜较高的绝缘强度,对微波电路有优异的绝缘防护作用。说明Parylene C薄膜材料在微波产品中具有应用可行性和潜在价值。 展开更多
关键词 微波产品 parylene C薄膜 真空化学气相沉积法 多余物 可行性
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Parylene镀层对烧结Nd-Fe-B磁体稳定性的影响 被引量:2
13
作者 马斌 孙威 +9 位作者 张鹏杰 王继全 魏汉中 谢光环 曹玉杰 李青华 王倩 全小康 刘辉 李炳山 《磁性材料及器件》 CAS 2023年第2期42-47,共6页
采用化学气相沉积法(CVDP)在Nd-Fe-B磁体和电镀Cu层的Nd-Fe-B磁体表面包覆派瑞林(Parylene)镀层,分析Parylene镀层和Parylene+电镀Cu复合镀层对磁体化学稳定性和温度稳定性的影响。Parylene分子沉积到磁体表面形成一层致密的镀层,镀层... 采用化学气相沉积法(CVDP)在Nd-Fe-B磁体和电镀Cu层的Nd-Fe-B磁体表面包覆派瑞林(Parylene)镀层,分析Parylene镀层和Parylene+电镀Cu复合镀层对磁体化学稳定性和温度稳定性的影响。Parylene分子沉积到磁体表面形成一层致密的镀层,镀层表面形成大小不同的颗粒,造成磁体表面粗糙度变大。Parylene镀层与Nd-Fe-B基体结合紧密,未出现缝隙和镀层脱落现象,镀层厚度随Parylene粉末质量增加逐渐增大。Parylene镀层一方面可以有效改善Nd-Fe-B磁体的化学稳定性,提高磁体中性盐雾耐腐蚀性能;另一方面对磁体有很好的抗热氧化保护作用,有利于提高磁体的温度稳定性,降低高温磁通不可逆损失(h_(irr))。Cu镀层的存在不利于Parylene镀层改善磁体化学稳定性和温度稳定性,这是由于电镀Cu层与Nd-Fe-B磁体基体和Parylene镀层结合不紧密,界面存在缝隙与裂痕。 展开更多
关键词 烧结ND-FE-B磁体 派瑞林(parylene)镀层 化学气相沉积 化学稳定性 温度稳定性
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气相沉积法制备聚对二甲苯薄膜 被引量:13
14
作者 张占文 李波 +2 位作者 王朝阳 余斌 林波 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第6期86-87,83,共3页
原子序数低的CH薄膜在惯性约束聚变实验用靶的制备中应用很广泛。介绍了真空气相沉积法制备聚对二甲苯薄膜的实验设备、实验原理和实验方法。制备聚对二甲苯薄膜的原料在400K附近蒸发,950K附近裂解成单体,单体在300K的低温表面聚合成膜... 原子序数低的CH薄膜在惯性约束聚变实验用靶的制备中应用很广泛。介绍了真空气相沉积法制备聚对二甲苯薄膜的实验设备、实验原理和实验方法。制备聚对二甲苯薄膜的原料在400K附近蒸发,950K附近裂解成单体,单体在300K的低温表面聚合成膜。研究了薄膜厚度的计算方法,并根据实验数据推导了计算公式,从而实现了对薄膜厚度的精确控制,使其在惯性约束聚变靶制备中得以应用。 展开更多
关键词 气相沉积法 制备 聚对二甲苯薄膜 惯性约束聚变 靶材料
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脉冲激光气相沉积技术及其在ICF薄膜靶制备中的应用 被引量:25
15
作者 吴卫东 许华 +2 位作者 魏胜 唐永建 陈正豪 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期873-876,共4页
 在ICF实验及天体物理的辐射不透明实验中,经常用到多层薄膜靶,激光脉冲气相沉积(PLD)技术是制备多层薄膜靶的较好方法。论述了PLD技术的原理、实验方法和装置的设计,用该方法初步制备了原子级光滑的Cu及Cu Fe薄膜。Cu薄膜的均方根粗...  在ICF实验及天体物理的辐射不透明实验中,经常用到多层薄膜靶,激光脉冲气相沉积(PLD)技术是制备多层薄膜靶的较好方法。论述了PLD技术的原理、实验方法和装置的设计,用该方法初步制备了原子级光滑的Cu及Cu Fe薄膜。Cu薄膜的均方根粗糙度为0.2nm,Fe薄膜的均方根粗糙度为0.4nm。 展开更多
关键词 脉冲激光气相沉积 ICF 薄膜靶 制备 准分子激光器
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聚对苯撑二甲基系列涂层的制备及其应用进展 被引量:13
16
作者 浦鸿汀 孙霞容 《高分子通报》 CAS CSCD 2004年第2期78-84,共7页
介绍了聚对苯撑二甲基系列涂层的制备方法和成膜机理 ,讨论了化学气相沉积聚合的主要特点 ,阐明了Parylene膜的结构与性能的关系以及几种常用Parylene膜的性能特点 。
关键词 聚对苯撑二甲基系列涂层 制备 成膜机理 化学气相沉积 性能 派拉林 印刷线路板 混合电路 阻挡层 高分子材料
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导电聚吡咯/聚酯复合织物研究 被引量:6
17
作者 王永跃 肖长发 +2 位作者 金欣 安树林 贾广霞 《合成纤维工业》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期24-27,共4页
采用吡咯气固相沉积聚合法制备导电聚吡咯/聚酯复合织物,研究了处理工艺对聚酯织物结构与性能的影响。结果表明,聚酯织物先经碱减量处理60 min,再经1.0 mol/L氧化剂处理30 min,吡咯单体气固相沉积聚合8次可制得具有较好导电性能... 采用吡咯气固相沉积聚合法制备导电聚吡咯/聚酯复合织物,研究了处理工艺对聚酯织物结构与性能的影响。结果表明,聚酯织物先经碱减量处理60 min,再经1.0 mol/L氧化剂处理30 min,吡咯单体气固相沉积聚合8次可制得具有较好导电性能的聚吡咯聚酯复合织物,其表面电阻约为330 Ω/cm,其力学性能的降低程度不大,聚吡咯均匀致密地沉积在聚酯织物表面。 展开更多
关键词 聚酯纤维 吡咯 气相沉积聚合 织物 导电性能
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聚对苯(撑)二甲基膜的化学气相沉积(CVD)聚合 被引量:7
18
作者 孙霞容 浦鸿汀 《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第3期54-56,53,共4页
采用化学气相沉积(CVD)聚合工艺制备的对苯撑二甲基聚合物可广泛应用在航天、航空、军工、电子、生物医学工程、控制系统、文物保护、纳米材料和磁性材料等诸多领域。综述了聚对苯(撑)二甲基系列膜的化学气相沉积聚合工艺和原理,介绍了... 采用化学气相沉积(CVD)聚合工艺制备的对苯撑二甲基聚合物可广泛应用在航天、航空、军工、电子、生物医学工程、控制系统、文物保护、纳米材料和磁性材料等诸多领域。综述了聚对苯(撑)二甲基系列膜的化学气相沉积聚合工艺和原理,介绍了底物温度和沉积舱压力等主要因素对膜沉积率的影响和膜的一些主要性能,并讨论了典型的Parylene N膜的光氧降解性能。 展开更多
关键词 聚对苯撑二甲基膜 化学气相沉积 CVD 光氧降解性能 化学结构 高分子材料
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超疏水棉织物的简易制备技术 被引量:13
19
作者 郑振荣 吴涛林 《纺织学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期94-98,共5页
为制备超疏水棉织物,利用烷基氯硅烷对棉织物进行气相沉积,在棉织物表面生成具有微观粗糙结构的低表面能物质聚硅氧烷,再结合织物本身的屈曲结构,使棉织物具有超疏水自清洁性能,制备方法简易,成本低且不需要昂贵的设备。采用扫描电镜、... 为制备超疏水棉织物,利用烷基氯硅烷对棉织物进行气相沉积,在棉织物表面生成具有微观粗糙结构的低表面能物质聚硅氧烷,再结合织物本身的屈曲结构,使棉织物具有超疏水自清洁性能,制备方法简易,成本低且不需要昂贵的设备。采用扫描电镜、接触角测定仪、集灰试验等手段观察棉织物的表面形貌,并研究其超疏水和自清洁性能。结果表明:当甲基三氯硅烷(MTS)与二甲基二氯硅烷(DDS)体积比为5∶1,MTS与DDS的总体积为8~10 mL,气相沉积时间为120 min时,制得棉织物表面的接触角达152.3°,滚动角为2.7°;集灰试验表明,沉积后的棉织物具有良好的自清洁功能。 展开更多
关键词 棉织物 气相沉积 超疏水 自清洁
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化学气相沉积SiC材料超光滑表面纳米加工 被引量:2
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作者 公发全 肖鹏 +3 位作者 黄润兰 李刚 刘万发 董闯 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期327-329,共3页
利用传统光学加工方法,采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD)SiC进行了粗磨、细磨加工;然后,利用颗粒直径从4μm到1μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光,发现SiC表面存在纳米级划痕;最后,改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱... 利用传统光学加工方法,采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD)SiC进行了粗磨、细磨加工;然后,利用颗粒直径从4μm到1μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光,发现SiC表面存在纳米级划痕;最后,改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱性水溶液进行抛光,表面粗糙度达到0.6 nm(RMS),表面纳米级划痕得到很好改善,获得了较高表面质量的超光滑表面。 展开更多
关键词 化学气相沉积 SIC材料 光学加工 超光滑表面 纳米加工 表面粗糙度
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