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Effects of annealing process on characteristics of fully transparent zinc tin oxide thin-film transistor 被引量:1
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作者 陈勇跃 王雄 +4 位作者 才玺坤 原子健 朱夏明 邱东江 吴惠桢 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第2期364-368,共5页
Annealing effect on the performance of fully transparent thin-film transistor (TTFT), in which zinc tin oxide (ZnSnO) is used as the channel material and SiO2 as the gate insulator, is investigated. The ZnSnO acti... Annealing effect on the performance of fully transparent thin-film transistor (TTFT), in which zinc tin oxide (ZnSnO) is used as the channel material and SiO2 as the gate insulator, is investigated. The ZnSnO active layer is deposited by radio frequency magnetron sputtering while a SiO2 gate insulator is formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition. The saturation field-effect mobility and on/off ratio of the TTFT are improved by low temperature annealing in vacuum. Maximum saturation field-effect mobility and on/off ratio of 56.2 cm2/(V.s) and 3×10^5 are obtained, respectively. The transfer characteristics of the ZnSnO TPT are simulated using an analytical model and good agreement between measured and the calculated transfer characteristics is demonstrated. 展开更多
关键词 zinc tin oxide thin-film transistors MOBILITY ANNEALING
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Preparation and Characterization of Transparent Conductive Zinc Doped Tin Oxide Thin Films Prepared by Radio-frequency Magnetron Sputtering 被引量:1
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作者 赵江 赵修建 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2011年第3期388-392,共5页
High transparent and conductive thin films of zinc doped tin oxide (ZTO) were deposited on quartz substrates by the radio-frequency (RF) magnetron sputtering using a 12 wt% ZnO doped with 88 wt% SnO2 ceramic targe... High transparent and conductive thin films of zinc doped tin oxide (ZTO) were deposited on quartz substrates by the radio-frequency (RF) magnetron sputtering using a 12 wt% ZnO doped with 88 wt% SnO2 ceramic target.The effect of substrate temperature on the structural,electrical and optical performances of ZTO films has been studied.X-ray diffraction (XRD) results show that ZTO films possess tetragonal rutile structure with the preferred orientation of (101).The surface morphology and roughness of the films was investigated by the atomic force microscope (AFM).The electrical characteristic (including carrier concentration,Hall mobility and resistivity) and optical transmittance were studied by the Hall tester and UV- VIS,respectively.The highest carrier concentration of -1.144×1020 cm-3 and the Hall mobility of 7.018 cm2(V ·sec)-1 for the film with an average transmittance of about 80.0% in the visible region and the lowest resistivity of 1.116×10-2 Ω·cm were obtained when the ZTO films deposited at 250 oC. 展开更多
关键词 radio-frequency (RF) magnetron sputtering transparent conducting film zinc doped tin oxide (zto substrate temperature
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Spray Pyrolysis Deposition of Single and Mixed Oxide Thin Films
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作者 Olusegun J. Ilegbusi S. M. Navid Khatami Leonid I. Trakhtenberg 《Materials Sciences and Applications》 2017年第2期153-169,共17页
The influence of processing parameters is investigated on the structural characteristics of single and mixed oxides produced by spray pyrolysis technique. The films were synthesized by spraying precursor solutions thr... The influence of processing parameters is investigated on the structural characteristics of single and mixed oxides produced by spray pyrolysis technique. The films were synthesized by spraying precursor solutions through a noz-zle onto a heated alumina substrate. The precursor consisted separately of aqueous solutions of tin chloride for SnO2 and zinc chloride for ZnO for single oxide cases, and aqueous solutions of tin chloride and indium nitrate for SnO2 + In2O3 and zinc chloride and indium nitrate solutions for ZnO + In2O3 for mixed oxide cases. The substrate temperature was varied accordingly for each single and mixed case. The films produced were characterized by X-ray Photoelectron Spectroscopy and Scanning Electron Microscopy. The results indicate that a non-homogenous film is formed at low temperature for both single oxides considered. The temperature has significant effect on the composition of the synthesized films of both single oxides below 450℃. The results for mixed oxides show that the best homogeneous films are obtained for 80 wt% ZnO + 20 wt% In2O3, and 80 wt% SnO2 + 20 wt% In2O3. 展开更多
关键词 zinc oxide FILM tin oxide FILM MIXED Metal oxideS NANO-COMPOSITE Sen-sors Spray PYROLYSIS
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氧分压对射频溅射制备ZTO沟道层的薄膜晶体管器件性能的影响
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作者 施苏恒 岳兰 +2 位作者 孟繁新 陈家荣 任达森 《半导体光电》 CAS 北大核心 2023年第1期92-97,共6页
以锌锡氧化物(ZTO)薄膜作为沟道层,聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜作为介质层低温(100℃)制备了顶栅共面结构的薄膜晶体管(TFT),并研究了ZTO沟道层成膜过程中氧分压对器件性能的影响。结果表明,ZTO沟道层具有稳定的非晶结构、较高的可见光... 以锌锡氧化物(ZTO)薄膜作为沟道层,聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜作为介质层低温(100℃)制备了顶栅共面结构的薄膜晶体管(TFT),并研究了ZTO沟道层成膜过程中氧分压对器件性能的影响。结果表明,ZTO沟道层具有稳定的非晶结构、较高的可见光透明性(在400~700 nm范围内平均透过率大于等于89.61%),且增大氧分压有利于其可见光透明性的提升。霍尔测试结果表明,增大氧分压(由3.5×10^(-2)Pa增大到7.5×10^(-2)Pa)会降低ZTO电子载流子浓度(由4.73×10^(15)cm^(-3)降低到6.11×10^(12)cm^(-3)),致使基于ZTO沟道层TFT器件的能耗降低(表现为关态电流的降低和耗尽型器件阈值电压的正向移动)。此外,增大氧分压还有益于沟道层/介质层界面状态的优化,即亚阈值摆幅减小。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 锌锡氧化物 氧分压 顶栅结构 低温
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ZnO/SnO_(2)复合光催化剂的制备及性能研究
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作者 阎倩茹 姜承志 《当代化工》 CAS 2024年第1期126-131,共6页
以C_(4)H_(10)O_(6)Zn为主要原料,采用共沉淀法和煅烧相结合的方法合成ZnO/SnO_(2)复合光催化剂。探究催化剂在紫外线下对亚甲基蓝的去除率,探讨了包括SnO_(2)与ZnO摩尔比、煅烧条件等制备条件对复合催化剂性能的影响。研究发现,当复合... 以C_(4)H_(10)O_(6)Zn为主要原料,采用共沉淀法和煅烧相结合的方法合成ZnO/SnO_(2)复合光催化剂。探究催化剂在紫外线下对亚甲基蓝的去除率,探讨了包括SnO_(2)与ZnO摩尔比、煅烧条件等制备条件对复合催化剂性能的影响。研究发现,当复合物中SnO_(2)与ZnO摩尔比为9%、水与乙醇体积比为3:2、超声60 min、煅烧温度为700℃、热处理5 h时,制备的复合材料光催化性能最好。利用XRD、UV-Vis-DRS、SEM、PL等检测手段对复合材料进行表征,证明该复合材料保留了稳定的ZnO和SnO_(2)的主体结构,并在界面形成了异质结,降低了电子-空穴对的复合率,其光催化效果明显优于纯ZnO和纯SnO_(2)两种材料。 展开更多
关键词 氧化锌 光催化 亚甲基蓝 二氧化锡
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Preparation and properties of solution-processed zinc tin oxide films from a new organic precursor 被引量:1
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作者 ZHAO YunLong,DUAN Lian,QIAO Juan,ZHANG DeQiang,DONG GuiFang,WANG LiDuo & QIU Yong Key Laboratory of Organic Optoelectronics & Molecular Engineering,Ministry of Education Department of Chemistry,Tsinghua University,Beijing 100084,China 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS 2011年第4期651-655,共5页
Transparent,smooth and dense zinc tin oxide (ZTO) thin films have been successfully produced by using a new precursor solution,zinc acetate and tin(II) 2-ethylhexanoate mixed with 2-ethanolamine in methoxyethanol.The ... Transparent,smooth and dense zinc tin oxide (ZTO) thin films have been successfully produced by using a new precursor solution,zinc acetate and tin(II) 2-ethylhexanoate mixed with 2-ethanolamine in methoxyethanol.The ZTO films have been prepared by spin-coating,followed by thermal treatment in oxygen atmosphere.The morphology,composition,crystallinity and band gap energy (Eg) of the ZTO thin films have been characterized by Atomic Force Microscopy (AFM),Atomic Emission Spectrometry (AES),X-ray Diffraction (XRD) and UV-vis spectrophotometry.The conductivity of ZTO is about 9.8×10-9 S/cm,as estimated from the current-voltage (I-V) curve.The effect of the thermal treatment process on the morphology of ZTO thin films is also discussed. 展开更多
关键词 前驱体溶液 薄膜性质 锡氧化物 醋酸锌 紫外可见分光光度法 热处理工艺 前体 加工
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退火温度对AZTO薄膜晶体管电学特性的影响 被引量:1
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作者 左欢欢 王超 杨帆 《吉林建筑大学学报》 2020年第6期73-76,共4页
通过使用射频磁控溅射技术在硅衬底上沉积铝锌锡氧化物(AZTO)薄膜,然后将制备的薄膜放入不同温度下进行退火,再制备成AZTO薄膜晶体管(TFT)器件,研究不同退火温度对AZTO薄膜晶体管器件性能的影响.实验结果表明,随着退火温度的升高,AZTO-... 通过使用射频磁控溅射技术在硅衬底上沉积铝锌锡氧化物(AZTO)薄膜,然后将制备的薄膜放入不同温度下进行退火,再制备成AZTO薄膜晶体管(TFT)器件,研究不同退火温度对AZTO薄膜晶体管器件性能的影响.实验结果表明,随着退火温度的升高,AZTO-TFT器件的载流子迁移率和电流开关比随之增大,在600℃的温度条件下退火的器件性能最佳,其迁移率为10 cm^2/(V·s),阈值电压为13 V,电流开关比为6.29×10^6. 展开更多
关键词 铝锌锡氧化物(Azto) 薄膜晶体管(TFT) 退火温度
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高性能ZnSnO∶Li/ZnSnO双有源层TFT电学性能的研究
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作者 高瑞妍 郭亮 +5 位作者 王冲 王超 杨帆 初学峰 迟耀丹 杨小天 《半导体光电》 CAS 北大核心 2023年第6期907-912,共6页
双有源层以迁移率高、开关比高、大面积均匀性好等优点成为近年研究热点。采用射频磁控溅射方法,制备了ZnSnO∶Li/ZnSnO薄膜晶体管(TFT),对其电学特性进行了测试,并研究了器件迁移率提高的原因及其内在的微观机制。研究发现,ZTO∶Li/ZTO... 双有源层以迁移率高、开关比高、大面积均匀性好等优点成为近年研究热点。采用射频磁控溅射方法,制备了ZnSnO∶Li/ZnSnO薄膜晶体管(TFT),对其电学特性进行了测试,并研究了器件迁移率提高的原因及其内在的微观机制。研究发现,ZTO∶Li/ZTO TFT表现出了良好的电学特性,其场效应迁移为率为13.98 cm^(2)/(V·s),亚阈值摆幅为0.84 V/dec,开关比为1.13×10^(9)。通过XPS对其薄膜进行分析发现,Li的引入导致薄膜中氧和金属结合键的浓度增加,氧空位浓度减少,从而使得TFT的迁移率增大,开关比增大,亚阈值摆幅减小。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 双有源层 Li掺杂 锌锡氧化物
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ZnO-SnO_2纳米复合氧化物光催化剂催化降解对硝基苯胺 被引量:27
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作者 王存 王鹏 徐柏庆 《催化学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第12期967-972,共6页
采用共沉淀法合成了n(Zn) /n(Sn) =2的ZnO SnO2 纳米复合氧化物光催化剂 ,并采用X射线衍射 (XRD)、紫外 可见(UV Vis)漫反射吸收光谱、透射电子显微镜 (TEM)和N2 物理吸附等方法对在 5 0 0~ 130 0℃焙烧不同时间制得的ZnO SnO2纳米复... 采用共沉淀法合成了n(Zn) /n(Sn) =2的ZnO SnO2 纳米复合氧化物光催化剂 ,并采用X射线衍射 (XRD)、紫外 可见(UV Vis)漫反射吸收光谱、透射电子显微镜 (TEM)和N2 物理吸附等方法对在 5 0 0~ 130 0℃焙烧不同时间制得的ZnO SnO2纳米复合氧化物的物相组成、光吸收性能、晶粒尺寸、颗粒大小、比表面积和孔体积进行了表征 .以对硝基苯胺为模型化合物 ,对ZnO SnO2 复合氧化物的光催化活性进行了评价 ,考察了催化剂焙烧温度和焙烧时间对其催化活性的影响 .结果表明 ,在70 0℃焙烧 2h制得的ZnO SnO2 纳米复合氧化物具有最高的光催化活性 . 展开更多
关键词 光催化 氧化锌 二氧化锡 纳米复合氧化物 硝基苯胺 降解
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天然沸石负载ZnO/SnO_2复合半导体的光催化活性 被引量:16
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作者 牟柏林 侯天意 +1 位作者 霍丽娟 孙申美 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期1366-1370,共5页
利用天然沸石负载ZnO/SnO2复合半导体制备光催化材料。采用X射线衍射、红外光谱等测试方法对复合样品的结构进行了研究。讨论了材料制备过程中的焙烧条件、锌锡氧化物配比对其结构与光催化剂活性的影响。结果表明:ZnO/SnO2复合半导体与... 利用天然沸石负载ZnO/SnO2复合半导体制备光催化材料。采用X射线衍射、红外光谱等测试方法对复合样品的结构进行了研究。讨论了材料制备过程中的焙烧条件、锌锡氧化物配比对其结构与光催化剂活性的影响。结果表明:ZnO/SnO2复合半导体与沸石间实现了一定程度的化学结合,半导体氧化物在沸石表面负载牢固,并且当ZnO/SnO2摩尔比为2∶1时,与沸石复合的材料,经300℃热处理2 h,对甲基橙溶液的降解效能最高。 展开更多
关键词 天然沸石 负载 氧化锌氧化锡复合半导体 复合光催化剂
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次氧化锌渣浸出液中铟与砷、锑、锡的分离 被引量:11
11
作者 张发明 李大光 +1 位作者 奚长生 陈如训 《有色金属(冶炼部分)》 CAS 北大核心 2007年第3期9-12,共4页
用硫化沉淀法有效地从次氧化锌渣酸浸液中实现了铟与砷、锑、锡的分离。研究了初始酸度、硫化物的选择及用量,反应时间等因素对分离过程的影响。试验表明:室温条件下,起始酸度为2.0 mol/L的酸浸液,按理论值1.3倍摩尔比加入ZnS,搅拌10 m... 用硫化沉淀法有效地从次氧化锌渣酸浸液中实现了铟与砷、锑、锡的分离。研究了初始酸度、硫化物的选择及用量,反应时间等因素对分离过程的影响。试验表明:室温条件下,起始酸度为2.0 mol/L的酸浸液,按理论值1.3倍摩尔比加入ZnS,搅拌10 min,锑、砷、锡沉淀率分别达100%、98%、93%,铟的损失率小于2%。 展开更多
关键词 次氧化锌 分离
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溶剂热合成Sn掺杂的纳米ZnO光催化剂及其光催化性能 被引量:5
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作者 余长林 杨凯 +1 位作者 范采凤 周晚琴 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2011年第6期499-503,共5页
以苯甲醇为反应介质,Zn(OAC)2.2H2O和SnCl4.5H2O为原料,利用溶剂热的方法,在温和条件下制备了一系列不同Sn掺杂含量的纳米ZnO光催化剂.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、紫外可见漫反射光谱(UV-vis DRS)... 以苯甲醇为反应介质,Zn(OAC)2.2H2O和SnCl4.5H2O为原料,利用溶剂热的方法,在温和条件下制备了一系列不同Sn掺杂含量的纳米ZnO光催化剂.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、紫外可见漫反射光谱(UV-vis DRS)和光致发光(PL)谱技术对样品进行了表征,并在紫外光下对催化剂降解亚甲基蓝的光催化性能进行了评价.研究结果表明,合成的样品均具有较好的结晶性能.当Sn掺杂的质量分数为5%时得到分散性能最好且粒径分布均匀的20 nm左右的纳米粒子,但Sn含量的进一步增加导致样品分散性下降;PL的分析则表明,Sn的加入使荧光发射光谱主峰位置蓝移并对峰强度产生影响,当掺杂Sn的质量分数为5%时,由氧空位产生的荧光发射光谱谱峰的强度最弱.光催化降解亚甲基蓝测试表明,当Sn质量分数为5%时,活性最好,为纯ZnO的1.4倍左右,这主要是由于适量Sn的存在可以抑制光生电子与空穴的复合几率和改善催化剂的物理性能. 展开更多
关键词 溶剂热 苯甲醇 Sn掺杂 ZnO 亚甲基蓝 光催化
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掺杂ZnSnO_3气敏特性及实用性研究 被引量:4
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作者 王中长 刘天模 +2 位作者 利佳 余龙 李家鸣 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期56-59,共4页
本文通过对ZnSnO3传感器进行各种掺杂来提高其灵敏度、选择性和工作温度。结果发现 :在所有的掺杂剂中 ,TiO2 能显著提高其灵敏度而且灵敏度是无掺杂ZnSnO3传感器的两倍多 ,并且最佳的掺杂量为 5 %mol。此外 ,这种掺杂ZnSnO3传感器的回... 本文通过对ZnSnO3传感器进行各种掺杂来提高其灵敏度、选择性和工作温度。结果发现 :在所有的掺杂剂中 ,TiO2 能显著提高其灵敏度而且灵敏度是无掺杂ZnSnO3传感器的两倍多 ,并且最佳的掺杂量为 5 %mol。此外 ,这种掺杂ZnSnO3传感器的回复 响应时间为 10S左右 ,足够实际应用。在有其它气体存在的情况下 ,这种掺杂ZnSnO3传感器仍然对乙醇具有较高的选择性。用SEM对其进行了解释。因此 ,掺TiO2 的ZnSnO3传感器对乙醇具有较高的灵敏度并且保持较高的选择性 ,能够重复使用以及 6 0h后 ,其灵敏度可保持稳定值。 展开更多
关键词 电子陶瓷 气敏材料 ZnSnO3 TiO2添加剂
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纳米锡锌复合氧化物贮锂材料的合成和性质 被引量:4
14
作者 袁正勇 袁良杰 孙聚堂 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期2252-2255,共4页
用液相沉淀-热解法合成了一系列结构和组成不同的锂离子电池纳米锡锌复合氧化物贮锂材料,通过XRD、TEM和电化学测试对材料进行了表征.测试结果表明,非晶态ZnSnO3负极材料的初始可逆贮锂容量为844mA·h/g,ZnO·SnO2负极材料的初... 用液相沉淀-热解法合成了一系列结构和组成不同的锂离子电池纳米锡锌复合氧化物贮锂材料,通过XRD、TEM和电化学测试对材料进行了表征.测试结果表明,非晶态ZnSnO3负极材料的初始可逆贮锂容量为844mA·h/g,ZnO·SnO2负极材料的初始可逆贮锂容量为845mA·h/g,SnO2·Zn2SnO4复合物负极材料初始可逆贮锂容量为758mA·h/g,循环10周后,三者的充电容量分别为695,508和455mA·h/g,表明非晶态结构的锡锌复合氧化物具有较好的电化学性质,随着样品中晶体的形成,该类型负极材料的贮锂性能下降. 展开更多
关键词 锡锌复合氧化物 锂离子电池 贮锂材料
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以SnO/ZnO为催化剂合成油酸正丁酯 被引量:5
15
作者 吴洪特 于兵川 葛胜祥 《塑料助剂》 2007年第3期20-22,共3页
研究了以SnO/ZnO为催化剂合成油酸正丁酯,优化的工艺条件为:催化剂中ZnO含量为0.04~0.05,催化剂用量为1.0%(占总投料量质量分数),酸醇投料比n油酸∶n丁醇为1∶1.6,反应温度140~145℃,反应时间1.0h,产品收率达95%以上,催化剂可重复使用... 研究了以SnO/ZnO为催化剂合成油酸正丁酯,优化的工艺条件为:催化剂中ZnO含量为0.04~0.05,催化剂用量为1.0%(占总投料量质量分数),酸醇投料比n油酸∶n丁醇为1∶1.6,反应温度140~145℃,反应时间1.0h,产品收率达95%以上,催化剂可重复使用4次,再生容易。 展开更多
关键词 氧化锡 氧化锌 催化剂 油酸正丁酯 合成
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高纯氧化铽中非稀土元素的发射光谱分析 被引量:3
16
作者 陈见微 王向荣 《分析试验室》 CAS CSCD 北大核心 1991年第1期16-18,共3页
本文研究了直接光谱法测定氧化铽中11种微量非稀土元素(Mn、Sn、Sb、Bi、B、V、Co、Ni、Cr、Pb、Zn)。比较了15种载体对杂质元素谱线强度的影响,最后选定NaCl为载体。应用正交设计确定最佳摄谱条件。样品在Ar和O_2控制气氛中直接电弧激... 本文研究了直接光谱法测定氧化铽中11种微量非稀土元素(Mn、Sn、Sb、Bi、B、V、Co、Ni、Cr、Pb、Zn)。比较了15种载体对杂质元素谱线强度的影响,最后选定NaCl为载体。应用正交设计确定最佳摄谱条件。样品在Ar和O_2控制气氛中直接电弧激发。不同杂质元素测定的最低浓度为1~5ppm,此法可同于测定99.9~99.997%高纯氧化铽中非稀土元素。 展开更多
关键词 氧化铽 发射光谱法 非稀土元素
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衬底温度对Sn掺杂ZnO薄膜结构、电学和光学性能的影响
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作者 谌夏 方亮 +3 位作者 吴芳 阮海波 魏文猴 黄秋柳 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第10期33-35,57,共4页
采用射频磁控溅射技术在石英衬底上制备了掺杂浓度为0.5%(原子分数)的ZnO∶Sn(TZO)薄膜,研究了不同衬底温度下薄膜的结构、形貌、电学和光学的性能。研究发现,TZO薄膜沿着C轴择优生长,在400℃时结晶度最好,最低电阻率为2.619×10-2... 采用射频磁控溅射技术在石英衬底上制备了掺杂浓度为0.5%(原子分数)的ZnO∶Sn(TZO)薄膜,研究了不同衬底温度下薄膜的结构、形貌、电学和光学的性能。研究发现,TZO薄膜沿着C轴择优生长,在400℃时结晶度最好,最低电阻率为2.619×10-2Ω·cm,在可见光范围内具有较好的透光率。 展开更多
关键词 Sn掺杂ZnO薄膜 射频磁控溅射 光学性质 电学性质
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ZnO-Nb_2O_5掺杂SnO_2基陶瓷研究
18
作者 汤帆 黄永前 +1 位作者 孙敬韦 何洋 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第B11期202-204,共3页
通过常压烧结制备SnO2基陶瓷,研究了ZnO、Nb2O5单掺杂及ZnO-Nb2O5复合掺杂对SnO2基陶瓷的烧结性能及电阻率的影响。采用SEM及XRD对试样分别进行了微观结构观察及物相分析。研究表明,掺杂ZnO能提高陶瓷的体积密度,但对于降低电阻率的影... 通过常压烧结制备SnO2基陶瓷,研究了ZnO、Nb2O5单掺杂及ZnO-Nb2O5复合掺杂对SnO2基陶瓷的烧结性能及电阻率的影响。采用SEM及XRD对试样分别进行了微观结构观察及物相分析。研究表明,掺杂ZnO能提高陶瓷的体积密度,但对于降低电阻率的影响不明显,当ZnO掺杂量在0.5%~0.75%(质量分数)时,SnO2基体积密度可达到6.67~6.73g/cm3;掺杂Nb2O5不能有效提高烧成陶瓷的体积密度,但能显著降低SnO2基陶瓷的电阻率;0.5%(质量分数)ZnO~1.5%(质量分数)Nb2O5复合掺杂在1450℃下烧成的陶瓷可得到较好的性能,其体积密度可达到6.61g/cm3,常温电阻率为867.84Ω.cm。 展开更多
关键词 SnO2基陶瓷 ZnO-Nb2O5复合掺杂 体积密度 电阻率
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采用锌粉置换—氧化水解法分离溶液中的铟和锡
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作者 王吉华 阮琼 《湿法冶金》 CAS 北大核心 2021年第4期330-333,共4页
研究了采用锌粉置换—双氧水氧化—水解沉淀法从溶液中分离铟和锡,考察了溶液pH、搅拌速度、反应温度、反应时间等因素对锡置换,以及温度对Sn4+水解、铟回收率的影响。结果表明:在pH为1.0~2.0、反应温度40℃、搅拌速度120 r/min、反应时... 研究了采用锌粉置换—双氧水氧化—水解沉淀法从溶液中分离铟和锡,考察了溶液pH、搅拌速度、反应温度、反应时间等因素对锡置换,以及温度对Sn4+水解、铟回收率的影响。结果表明:在pH为1.0~2.0、反应温度40℃、搅拌速度120 r/min、反应时间4 h条件下,锡置换率约为91%,海绵锡中锡质量分数大于98%,铟质量分数小于0.2%;置换后液经双氧水氧化后,在80℃、溶液pH=2.5条件下水解,抽滤洗涤后获得氢氧化锡沉淀,锡沉淀率为99%以上,氢氧化锡中铟质量分数小于0.5%;铟、锡分离较彻底,回收率较高。 展开更多
关键词 锌粉 置换 氧化 水解 分离
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锌电积用钛基掺聚苯胺热解碳氮SnO_2-Sb_2O_3/PbO_2电极 被引量:4
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作者 汪世川 陈步明 +5 位作者 黄惠 何亚鹏 郭忠诚 秦赛娥 徐瑞东 金炳界 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期89-96,共8页
为了得到成本低、电催化活性高和稳定性强的锌电积用钛基二氧化铅电极,本文以聚苯胺热解碳氮(CN)作为钛基锡锑氧化物中间层的掺杂剂,继而沉积制备得到Ti/CN-SnO_2-Sb2O3/α-PbO_2-ZrO_2/β-PbO_2-TiO_2(Ti/CNPbO_2)电极.用SEM、EDS对掺... 为了得到成本低、电催化活性高和稳定性强的锌电积用钛基二氧化铅电极,本文以聚苯胺热解碳氮(CN)作为钛基锡锑氧化物中间层的掺杂剂,继而沉积制备得到Ti/CN-SnO_2-Sb2O3/α-PbO_2-ZrO_2/β-PbO_2-TiO_2(Ti/CNPbO_2)电极.用SEM、EDS对掺杂碳氮的锡锑氧化物层和Ti/CN-PbO_2电极进行表面形貌观测和元素分析,采用循环伏安,阳极极化曲线和交流阻抗分析掺杂CN的锡锑氧化物层对Ti/CN-PbO_2活性层电化学性能的影响,在30℃,150 g/L硫酸,50 g/L Zn2+电解液中进行电极强化寿命实验.结果表明,在锡锑氧化物的烧结过程中掺杂一定量的聚苯胺后,能够减轻氧化物层的龟裂现象,同时使得Ti/CN-PbO_2电极表现出更好的电催化活性,Ti/CN-PbO_2电极的加速寿命为925 h,为未掺杂CN的Ti/SnO_2-Sb2O3/α-PbO_2-ZrO_2/β-PbO_2-TiO_2(Ti/PbO_2)电极的2. 5倍. 展开更多
关键词 钛基 锡锑氧化物涂层 聚苯胺 二氧化铅电极 锌电积
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